JP2007534463A - ルテニウム−不均一系触媒、炭素環式芳香族基を水素化する方法及びビスフェノールa及びfの核水素化されたビスグリシジルエーテル - Google Patents
ルテニウム−不均一系触媒、炭素環式芳香族基を水素化する方法及びビスフェノールa及びfの核水素化されたビスグリシジルエーテル Download PDFInfo
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Abstract
担体材料としての二酸化珪素を含有しているルテニウム−不均一系触媒(この際、この触媒表面は、アルカリ土類金属イオン(M2+)を含有している)、炭素環式芳香族基を水素化して相応する炭素環式脂肪族基にする方法、殊に前記ルテニウム−不均一系触媒を使用する方法で式(II)の相応する芳香族ビスグリシジルエーテルを核水素化することによって、式(I)[式中、RはCH3又はHを表す]のビスグリシジルエーテルを製造する方法及び前記方法により製造可能な式(I)のビスグリシジルエーテル。
Description
本発明は、担体材料としての二酸化珪素を含有するルテニウム−不均一系触媒、炭素環式芳香族基を水素化して相応する炭素環式脂肪族基にする方法、殊に式I:
R=Hを有する化合物IIは、ビス[グリシジルオキシフェニル]メタン(分子量:312g/モル)とも称される。
R=CH3を有する化合物IIは、2,2−ビス[p−グリシジルオキシフェニル]プロパン(分子量:340g/モル)とも称される。
芳香族基を有しない脂環式オキシラン化合物Iの製造は、耐光性及び耐候性のラッカー系の製造のために特に重要である。原則的にこのような化合物は、相応する芳香族化合物IIの水素化によって製造可能である。従ってこれらの化合物Iは、「ビスフェノールA及びFの核水素化されたビスグリシジルエーテル」とも称される。
化合物IIは、ラッカー系の成分として従来から公知である(J.W.Muskopf et al. “Epoxy Resins”in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry,5th Edition on CD-ROM参照)。
しかしながら、接触的水素化におけるオキシラン基の高い反応性には問題がある。芳香核の水素化のために通常必要である反応条件下では、この基は屡々アルコールまで還元されてしまう。この理由から、化合物IIの水素化は、できるだけ温和な条件下に実施しなければならない。しかしながらこのことは勿論、所望の芳香族化合物水素化の減速を前提とする。
US−A−3336241(Shell Oil Comp.)は、エポキシ基を有する脂環式化合物の製造のために、ロジウム−及びルテニウム触媒を用いる相応する芳香族エポキシ化合物の水素化を教示している。水素化の後のこの触媒の活性は、1工業的方法で触媒を各水素化の後に交換しなければならない程度に著しく低下する。更に、そこに記載されている触媒の選択率は大いに不満である。
DE−A−3629632及びDE−A−3919228(双方ともBASF AG)は、酸化ルテニウム水和物に接するビス[グリシジルオキシフェニル]メタン又は2,2−ビス[p−グリシジルオキシフェニル]プロパンの芳香族分子部分の選択的水素化を教示している。これによれば、水素化すべき芳香族基に関する水素化の選択率は高められる。しかしながらこの教示によっても、触媒を各々の水素化の後に再生することが推奨されており、この際、反応混合物からの触媒の分離には問題があることが明らかである。
EP−A−678512(BASF AG)は、反応バッチに対して0.2〜10質量%の水の存在下に、ルテニウム触媒、特に酸化ルテニウム水和物に接して、オキシラン基を有する芳香族化合物の芳香族分子部分を選択的に水素化することを教示している。水の存在によって、反応混合物からのこの触媒の分離は容易になるが、この触媒の他の欠点、例えば改善の必要な耐用時間は、これによっては高められない。
EP−A−921141及びEP−A1−1270633(双方ともMitsubishi Chem. Corp.)は、特定の表面積を有するRh−及び/又はRu−触媒の存在又は白金族の金属を含有する触媒の存在下における、特定のエポキシ化合物中の二重結合の選択的水素化に関する。
JP−A−2002 226380(Dainippon)は、担持されたRu−触媒及び溶剤としてのカルボン酸エステルの存在下での芳香族エポキシ化合物の核水素化を開示している。
JP−A2−2001 261666(Maruzen Petrochem.)は、好ましくは活性炭又は酸化アルミニウム上に担持されたRu−触媒の存在下での芳香族エポキシ化合物の連続的核水素化法に関している。
Chem.Lett.2002、1116頁以降中のY.Hara 等の論文は、「Rh/グラファイト上のエポキシ基を含有する芳香族化合物の選択的水素化」に関する。
Tetrahedron Lett.36、6、885−88頁は、コロイド状Ruの使用下における置換芳香族化合物の立体選択的核水素化を記載している。
JP10−204002(Dainippon)は、核水素化法における、特異的な、殊にアルカリ金属ドーピングされたRu−触媒の使用に関する。
JP−A−2002 249488(Mitsubishi)は、その塩素含分が1500ppmを下回っている貴金属担体触媒を使用する水素化法を教示している。
WO−A1−03/103830及びWO−A1−04/009526(双方ともOxeno)は、芳香族化合物の水素化、殊に相応する芳香族ポリカルボン酸又はそれらのエステルの核水素化による脂環式ポリカルボン酸又はそれらのエステルの製造、並びにこのために好適な触媒に関する。
技術水準のこれらの方法は、使用された触媒が僅かな耐用時間を有するだけであり、通常は各々の水素化の後に費用のかかる再生をしなければならない欠点を有している。これら触媒の活性も不満足であり、選択的水素化のために必要な反応条件下では、使用される触媒に対して低い空時収率が得られるだけである。しかしながら、このことはルテニウムの高い価格を考慮すると、触媒として経済的には擁護できないに
EP−A2−814098(BASF AG)は、特に、特別な担持されたRu−触媒の存在下における有機化合物の核水素化法に関する。
EP−A2−814098(BASF AG)は、特に、特別な担持されたRu−触媒の存在下における有機化合物の核水素化法に関する。
WO−A2−02/100538(BASF AG)は、ルテニウム−触媒に接しての、炭素環式芳香族基少なくとも1個及び少なくとも1個のエポキシド基を有する側鎖少なくとも1個を有する相応する化合物の不均一系触媒作用水素化による、エポキシド基を有する側鎖を有する特定の環状脂肪族化合物の製造法を記載している。
このルテニウム−触媒は、次のようにして得られている:
i)非晶質二酸化珪素をベースとする担体材料を、低分子量ルテニウム化合物のハロゲン不含水溶液で1回又は数回処理し、引き続き、この処理された担体材料を200℃を下回る温度で乾燥させる、
ii) i)で得られた固体を100〜350℃の範囲の温度で水素を用いて還元する、
この際、工程ii)を、直ちに工程i)に引き続き実施する。
i)非晶質二酸化珪素をベースとする担体材料を、低分子量ルテニウム化合物のハロゲン不含水溶液で1回又は数回処理し、引き続き、この処理された担体材料を200℃を下回る温度で乾燥させる、
ii) i)で得られた固体を100〜350℃の範囲の温度で水素を用いて還元する、
この際、工程ii)を、直ちに工程i)に引き続き実施する。
WO−A2−02/100538は、使用される化合物が「モノマーでもオリゴマー又はポリマー化合物であってもよい」ことを教示している(9頁)。
WO−A2−02/100538は、アルカリ土類金属イオンの添加に関しては何も教示してはいない。
本発明は、芳香族基を水素化して相応する「核水素化された」基にする、改良された選択的方法(この方法で、使用触媒に対して高い収率及び空時収率[生成物量/(触媒容積・時間)](kg/(l・h))、[生成物量/(反応器容積・時間)](kg/(l反応器・h)を得ることができ、ここで、使用された触媒は、後処理なしに水素化のために数回使用することができる)を提供することを課題としている。殊にWO−A2−02/100538の方法に比べて高い触媒耐用時間が達成されるべきであった。更に、殊にその典型的用途において改良された特性を有する、式Iのビスグリシジルエーテルを見つけるべきであった。
相応して、触媒表面がアルカリ土類金属イオン(M2+)を含有していることを特徴としている、担体材料としての二酸化珪素を含有するルテニウム−不均一系触媒、炭素環式芳香族基を水素化して相応する炭素環式脂肪族基にする方法、殊に、式I:
本発明の触媒の主成分は、非晶質二酸化珪素をベースとする担体材料である。この関連における概念「非晶質」とは、結晶二酸化珪素相の割合が担体材料の10質量%より少ないことであると理解される。この触媒の製造のために使用される担体材料は、いずれにせよ、担体材料中の細孔の規則的配置によって構成される超格子(Ueberstruktur)を有していてよい。
本発明による触媒の触媒表面は、アルカリ土類金属イオン(M2+)、即ちM=Be、Mg、Ca、Sr及び/又はBa、殊にMg及び/又はCa、全く特別にはMgを含有している。
担体材料としては、原則的に非晶質の二酸化珪素タイプがこれに該当し、これは少なくとも90質量%が二酸化珪素から成り、この際、この担体材料の残りの10質量%、有利には5質量%を下回る分が、他の酸化物、例えばMgO、CaO、TiO2、ZrO2、Fe2O3及び/又はアルカリ金属酸化物であってもよい。
本発明の好ましい1実施形では、担体材料はハロゲン不含、殊に塩素不含である、即ち担体材料中のハロゲンの含有率は、500質量ppmを下回る、例えば0〜400質量ppmの範囲である。
30〜700m2/g、有利には30〜450m2/gの範囲の比表面積(DIN66131によるBET−表面積)を有する担体材料が好ましい。
二酸化珪素をベースとする好適な非晶質担体材料は、当業者には知られており、市場で入手可能である(例えばO.W.Floerke,“Silica”in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry 6th Edition on CD-ROM参照)。これは勿論、天然産であっても人工的に製造されていてもよい。二酸化珪素をベースとする好適な非晶質担体材料の例は、シリカゲル、珪藻土、高熱分解法珪酸及び沈殿法珪酸である。本発明の好ましい1実施形では、この触媒は、担体材料としてシリカゲルを有する。
本発明の実施態様に応じて、この担体材料は種々の形状を有することができる。この方法が懸濁法として実施される場合には、本発明による触媒の製造のために、通常は微細な粉末の形の担体材料が使用される。この粉末は、1〜200μm、殊に1〜100μmの範囲の粒度を有するのが有利である。触媒床中でのこの触媒の使用の場合には、通常、例えば押出し、ストランド圧縮又はタブレット化により得られる、例えば球、タブレット、シリンダー、ストランド、リング又は中空体、星形及び類似形を有していてよい担体材料からの成形体を使用する。これら成形体の寸法は、通常は1mm〜25mmの範囲内で変動する。屡々、1.5〜5mmのストランド直径及び2〜25mmのストランド長を有する触媒ストランドが使用される。
触媒中のルテニウムの含有率は広い範囲内で変動可能である。好ましくはそれは、それぞれ担体材料の質量に対して、かつルテニウム元素として計算して、少なくとも0.1質量%、有利には少なくとも0.2質量%であり、屡々10質量%の値を超えないのが好ましい。ルテニウムの含有率は0.2〜7質量%の範囲、殊に0.4〜5質量%、例えば1.5〜2質量%の範囲であるのが有利である。
触媒表面中のアルカリ土類金属イオン(M2+)の含有率はそれぞれ、二酸化珪素−担体材料の質量に対して好ましくは0.01〜1質量%、殊に0.05〜0.5質量%、全く特別には0.1〜0.25質量%である。
本発明によるルテニウム−触媒の製造は、先ず担体材料を低分子量ルテニウム化合物(以後、これを(ルテニウム)前駆体と称する)の溶液で、ルテニウムの所望量が担体材料により吸収されるように処理することによって行なうのが好ましい。ここで好ましい溶剤は、氷酢酸、水又はこれらの混合物である。この工程は以後、含浸とも称される。引き続き、このように処理された担体を、好ましくは、下記の温度上限の保持下に乾燥させる。場合によっては、こうして得られた固体を、改めてルテニウム前駆体の水溶液で処理し、改めて乾燥させる。この過程を、担体材料により吸収されるルテニウム化合物の量が触媒中の所望ルテニウム含有率に一致するまで繰り返す。
担体材料の処理又は含浸は、種々の方法で行うことができ、公知のようにこの担体材料の形状に左右される。例えば、この担体材料に前駆体溶液を吹き付けるか又はこれですすぐか又は担体材料を前駆体溶液中に懸濁させることができる。例えば担体材料をルテニウム前駆体の水溶液中に懸濁させ、一定時間の後に水性上澄みを濾別することができる。次いで、吸収される液体量及び溶液のルテニウム濃度を介して、触媒のルテニウム含有率を簡単に制御することができる。担体材料の含浸は、例えば担体を、この担体が吸収することのできる最大液体量に一致するルテニウム前駆体の溶液の定義量で処理することによって行うこともできる。この目的のために、例えばこの担体材料に必要量の液体を吹き付けることができる。このために好適な装置は、液体と固体との混合のために通常使用される装置(Vauck /Mueller,Grundoperationen chemischer Verfahrenstechnik,10.Auflage, Deutscher Verlag fuer Grundstoffindustrie,1994,S.405 ff 参照)、例えば混転乾燥機(Taumel-trockner)、含浸ドラム、ドラムミキサー、シャベルミキサー及び類似物である。通常はモノリス担体を、ルテニウム前駆体の水溶液ですすぐ。
含浸のために使用される溶液は、貧ハロゲン、殊に貧塩素であるのが有利であり、即ち、これはハロゲン不含であるか又は溶液の全質量に対して500質量ppmを下回る、殊に100質量ppmを下回るハロゲン、例えば0<80質量ppmのハロゲンを含有する。従ってルテニウム前駆体としては、RuCl3と並んで、化学的に結合したハロゲンを含有せず、溶剤中に充分に可溶であるようなルテニウム化合物を使用するのが好ましい。これには次のものが挙げられる:ニトロシル硝酸ルテニウム(III)(Ru(NO)(NO3)3)、酢酸ルテニウム(III)並びにアルカリ金属ルテネート(IV)、例えばナトリウム−及びカリウムルテネート(IV)。
全く特別に好ましいRu−前駆体は、酢酸Ru(III)である。このRu−化合物は、通常は酢酸又は氷酢酸中に溶かされているが、これは固体としても使用できる。本発明による触媒は、水を使用せずに製造することができる。
多くのルテニウム前駆体は、溶液として市販されているが、相応する固体を使用することもできる。これら前駆体は、供給される溶剤と同じ成分、例えば硝酸、酢酸、塩酸で又は有利には水で溶解又は希釈することができる。水又は溶剤及び水又は溶剤と混和しうる有機溶剤1種以上50容量%までの混合物、例えばC1〜C4−アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール又はイソプロパノールとの混合物も使用できる。全ての混合物を、溶液又は相が存在するように選択すべきである。溶液中のルテニウム前駆体の濃度は、勿論ルテニウム前駆体の適用量及び担体材料の溶液に関する吸収能によって左右され、好ましくは0.1〜20質量%の範囲にあるの。
乾燥は、下記の温度上限の保持下での固体乾燥の常法により行うことができる。この乾燥温度の上限の保持は、品質、即ち触媒の活性にとって重要である。下記の乾燥温度の超過は、活性の明確な損失をもたらす。技術水準で提案されているような、例えば300℃を超える又は400℃の高温での担体のか焼は余計であるばかりでなく、この触媒の活性に不利に作用する。充分な乾燥速度の達成のためには、乾燥を高温で、好ましくは≦180℃、特別に≦160℃の高温で、かつ低くても40℃、殊に低くても70℃、特別低くても100℃、全く特別に低くても140℃で行うのが好ましい。
ルテニウム前駆体で含浸された固体の乾燥は、通常は常圧下に行われ、この際、乾燥の促進のために減圧を使用することもできる。屡々、乾燥の促進のために、ガス流、例えば空気又は窒素が乾燥すべき物品の上又はその間に導かれる。
勿論、乾燥時間は乾燥の所望程度及び乾燥温度に依存し、好ましくは1時間〜30時間の範囲、有利には2〜10時間の範囲内にある。
処理された担体材料の乾燥を、引き続く還元の前の水及び揮発性溶剤成分の含有率が5質量%より低くなるように、殊に固体の全質量に対して2質量%より大きくならないように実施するのが有利である。この場合に、記載の質量割合は、160℃の温度、1バールの圧力及び10分の時間で決まる固体の質量損失に関連する。この方法で、本発明により使用される触媒の活性を更に高めることができる。
乾燥を前駆体溶液で処理された固体の運動下に、例えば回転管炉又は回転球炉中での固体の乾燥によって行うのが有利である。こうして、本発明による触媒の活性は、更に高めることができる。
乾燥後に得られる固体のその触媒活性形への移行は、前記の温度での固体の還元によって自体公知の方法で行われる。
この目的のために、担体材料を前記の温度で水素又は水素と不活性ガスとからの混合物と接触させる。水素絶対圧は、還元の結果にとっては重要性が低く、例えば0.2バール〜1.5バールの範囲内で変動されうる。屡々、この触媒材料の水素化は水素流中、水素常圧で行われる。還元を固体の運動下に、例えば回転管炉中又は回転球炉中での固体の還元によって行うのが有利である。こうして、本発明の触媒の活性を更に高めることができる。
還元は、有機還元試薬、例えばヒドラジン、ホルムアルデヒド、蟻酸塩又は酢酸塩を用いて行うこともできる。
還元に引き続き、触媒は、その取り扱い性の改善のために公知方法で不動態化させることができ、例えばここでは、触媒を短時間酸素含有ガス、例えば空気で、しかしながら、酸素1〜10容量%を含有する不活性ガス混合物で処理するのが有利である。ここで、CO2又はCO2/O2−混合物も使用できる。
この活性触媒は、不活性の有機溶剤、例えばエチレングリコールの下で保存することもできる。
本発明による触媒の製造のために、好ましい1実施形では、例えば前記のように製造された又はWO−A2−02/100538(BASF AG)の記載のように製造された、ルテニウム触媒−前駆体にアルカリ土類金属(II)塩1種以上の溶液を含浸させることができる。
好ましいアルカリ土類金属(II)塩は、相応する硝酸塩、例えば殊に硝酸マグネシウム及び硝酸カルシウムである。
この含浸工程でのアルカリ土類金属(II)塩の好ましい溶剤は水である。この溶剤中のアルカリ土類金属(II)塩の濃度は、例えば0.01〜1モル/lである。
例えば、管中に取り込まれたRu/SiO2−触媒を、アルカリ土類金属塩の水溶液流と接触させる。含浸すべき触媒を、アルカリ土類金属塩の上澄み溶液で処理することもできる。
アルカリ土類金属1種以上でのRu/SiO2−触媒、殊にその表面の飽和を行うのが有利である。
過剰のアルカリ土類金属塩及び不動態化されていないアルカリ土類金属イオンは、触媒からすすぎ除去される(H2O−すすぎ、触媒洗浄)。
簡略化取り扱い、例えば反応器管中への取込みのために、本発明による触媒を、この含浸の後に乾燥させることができる。この乾燥は、このために、例えば炉中で<200℃、例えば50〜190℃で、殊に好ましくは<140℃、例えば60〜130℃で実施することができる。
この含浸法は、前位置(ex situ)で又は原位置(in situ)で実施することができる:「前位置」とは、反応器中への触媒の取込みの前を称し、「原位置」とは、反応器中(触媒取込みの後)を意味する。
1変法では、アルカリ土類金属イオンでの触媒表面の含浸を、水素化すべき芳香族基質(出発物質)の溶液にアルカリ土類金属イオンを、例えば溶解したアルカリ土類金属塩の形で加えることによって原位置で行うこともできる。このためには、例えば相当する量の塩を差し当たり水中に溶かし、次いで有機溶剤中に溶かされた基質に加える。
水素化すべき芳香族基質の溶液のアルカリ土類金属イオンの含有率は、一般に1〜100質量ppm、殊に2〜10質量ppmである。
1変法によれば、本発明による水素化法で本発明による触媒を、水素化すべき芳香族基質のアルカリ土類金属イオン含有溶液と組み合わせて使用する場合に特別有利であることが立証された。
製造限定的に、本発明による触媒中にルテニウムは金属ルテニウムとして存在する。更に電子顕微鏡検査(SEM又はTEM)は、シェル触媒(Schalenkatalysator)が存在することを示している:触媒粒内のルテニウム濃度は、外側から内側に向かって減少しており、この際、この粒表面上にルテニウム層が存在する。好ましい場合には、シェル中に、SAD(Selected Area Diffraction:選択面積回折)及びXRD(X−線回折)を用いて結晶ルテニウムを検出することができる。
製造時に、ハロゲン不含の、殊に塩素不含のルテニウム前駆体及び溶剤を使用することによって、本発明による触媒のハロゲニド含有率、殊にクロリド含有率は更に、触媒の全質量に対して0.05質量%を下回っている(0〜<500質量ppm、例えば0〜400質量ppmの範囲)。
このクロリド含有率は、例えば下記の方法を用いてイオンクロマトグラフィで測定される。
この明細書中で、全てのppm−値は、特に記載のない限り、質量部として理解すべきである(質量ppm)。
選択される1変法では、29Si−固体−NMRを用いて測定されるQ2−及びQ3−構造の百分比Q2/Q3が25より小さい、好ましくは20より小さい、特に好ましくは15より小さい、例えば0〜14又は0.1〜13の範囲にあるのが有利である。このことは、使用担体中のシリカの凝縮度が特別に高いことをも意味している。
Qn−構造(n=2、3、4)の同定及び百分比の測定は、29Si−固体−NMRを用いて行われる。
Qn=Si(OSi)n(OH)4−n (n=1、2、3又は4)。
Qnは、n=4に対して−110.8ppmで、n=3に対して−100.5ppmで及びn=2に対して−90.7ppmで測定された(標準:テトラメチルシラン)(Q0及びQ1は同定されなかった)。この分析は、室温(20℃)での円偏光(CP5ms)を用いる”マジック角回転(magic angle spinning)(MAS 5500Hz)”の条件下に、かつ1Hの双極子デカップリング(dipolarer Entkopplung)の使用下に実施される。信号の部分的重なりの故に、線形分析(Linienformanalyse)で強度が評価される。この線形分析は、Fa.Galactic Industries社の標準ソフトウエアを用いて実施され、この際、「最小二乗適合(least square fit)」が反復計算された。
この担体材料は有利に、Al2O3として計算して1質量%を下回る、殊に0.5質量%を下回る、殊に<500質量ppmの酸化アルミニウムを含有する。
シリカの凝縮はアルミニウム及び鉄によっても影響されうるので、Al(III)及びFe(II及び/又はIII)の濃度は、合計して300ppmを下回り、特に好ましくは200ppmを下回り、例えば0〜180ppmの範囲内にある。
アルカリ金属酸化物の割合は、好ましくは担体材料の製造から生じ、2質量%までであってよい。屡々これは、1質量%を下回っている。アルカリ金属酸化物不含の担体(0〜<0.1質量%)も好適である。MgO、CaO、TiO2又はZrO2の割合は、担体材料の10質量%まで達することができ、有利には5質量%より大きくはない。しかしながら、検出可能な量のこれらの金属酸化物を含有しない担体材料(0〜<0.1質量%)も好適である。
Al(III)及びFe(II及び/又はIII)はシリカ中に導入された酸中心を生じることができるので、担体中で、好ましくは、特にアルカリ土類金属カチオン(M2+、M=Be、Mg、Ca、Sr、Ba)との電荷補償(Ladungskompensation)が存在する。このことは、M(II)対(Al(III)+Fe(II及び/又はIII)の質量比が0.5より大きい、好ましくは>1、特に好ましくは3より大きいことを意味する。
元素記号の後の括弧内のローマ数字は、元素の酸化段階を意味している。
水素化すべき有機化合物中の炭素環式芳香族基は、殊に置換基を有していてよいベンゼン環である。
本発明の方法で水素化されて飽和炭素環式6員環を有する相応する化合物にされうる、ベンゼン環を有する化合物の例を次表に列挙することができる:
本発明による水素化法のための出発化合物としては、例えば次の物質群及び物質も挙げられる:
− ビスフェノールA又はビスフェノールF又は比較可能なアルキレン−又はシクロアルキレン−架橋ビスフェノール−化合物とエピクロルヒドリンとからの反応生成物:
ビスフェノールA又はビスフェノールF又は比較可能な化合物は、エピクロルヒドリン及び塩基と公知方法で反応して(例えば Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry,5th Edition,VCH(1987),Vol.A9,S.547)、一般式IIa:
− ビスフェノールA又はビスフェノールF又は比較可能なアルキレン−又はシクロアルキレン−架橋ビスフェノール−化合物とエピクロルヒドリンとからの反応生成物:
ビスフェノールA又はビスフェノールF又は比較可能な化合物は、エピクロルヒドリン及び塩基と公知方法で反応して(例えば Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry,5th Edition,VCH(1987),Vol.A9,S.547)、一般式IIa:
− フェノール−及びクレゾールエポキシノボラックIIb:
一般式IIbのノボラックは、フェノール又はクレゾールの酸触媒反応及び反応生成物の相応するグリシジルエーテルへの変換によって得られる(例えばビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]メタン):
− フェノールとアルデヒドとからの反応生成物のグリシジルエーテル:
フェノールとアルデヒドとの酸触媒反応及び引き続くエピクロルヒドリンとの反応によってグリシジルエーテルが得られる、例えばフェノールとグリオキサールから1,1,2,2−テトラキス−[4−(2,3,−エポキシプロポキシ)フェニル]エタンが得られる(J.W.Muskopf et al. “Epoxy Resins 2.2.3” in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th Edition on CD-ROM 参照)。
− フェノール−炭化水素ノボラックのグリシジルエーテル、例えば2,5−ビス[(グリシジルオキシ)フェニル]オクタヒドロ−4,7−メタノ−5H−インデン及びそのオリゴマー:
− 芳香族グリシジルアミン:
例として、p−アミノフェノールのトリグリシジル化合物、1−(グリシジルオキシ)−4[N,N−ビス(グリシジル)アミノ]ベンゼン及びメチレンジアミンのテトラグリシジル化合物 ビス{4−[N,N−ビス(2,3−エポキシプロピル)アミノ]フェニル}メタンが挙げられる。
更に個々には次のものが挙げられる:トリス[4−(グリシジルオキシ)フェニル]メタン−異性体及び芳香族モノ−、ジ−及びトリカルボン酸のグリシジルエステル、例えばフタル酸−及びイソフタル酸ジグリシジルエステル。
本発明の方法の特別な1実施態様では、式II:
有利に使用される式IIの芳香族ビスグリシジルエーテルは、≦1000質量ppm、特に<950質量ppm、殊に0〜<800質量ppm、例えば600〜1000質量ppmの範囲のクロリド及び/又は有機結合した塩素の含有率を有する。
クロリド及び/又は有機結合した塩素の含有率は、例えば下記の方法を用いてイオンクロマトグラフィ法又は電量分析法で測定される。
本発明の変法の特別な1実施形によれば、使用される式IIの芳香族ビスグリシジルエーテルが10質量%を下回る、殊に5質量%を下回る、特に1.5質量%を下回る、全く特別には0.5質量%を下回る、例えば0〜<0.4質量%の範囲の相応するオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率を有する場合に、意想外に付加的に有利であることが立証された。
本発明の変法の特別な実施形によれば、供給物中のオリゴマー含有率は、触媒の耐用時間に決定的な影響を有すること、即ち、変換率が長時間高い水準に留まることが判明した。例えば蒸留され、かつ従ってオリゴマーの少ないビスグリシジルエーテルIIの使用の場合には、相応する市販の標準品(例えば:Firma Vantico社のARALDIT GY 240BD)に比べて、減速された触媒失活が観察される。
使用される式IIの芳香族ビスグリシジルエーテルのオリゴマー含有率は、有利にGPC−測定(ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ)の使用によって又は蒸発残分の測定によって確認される。
蒸発残分は、芳香族ビスグリシジルエーテルを200℃で2時間及び300℃で更に2時間加熱する(それぞれ3ミリバールで)ことによって測定される。
オリゴマー含有率を測定するための更なるそれぞれの条件については下記を参照されたし。
相応するオリゴマービスグリシジルエーテルは、一般にGPC−測定により測定される380〜1500g/モルの範囲の分子量を有し、例えば次の構造:
相応するオリゴマービスグリシジルエーテルは、R=Hに対して568〜1338g/モル、殊に568〜812g/モルの範囲の分子量を有し、R=CH3に対して624〜1478g/モル、殊に624〜908g/モルの範囲の分子量を有する。
オリゴマーの分離は、例えばクロマトグラフィを用いて、又は大規模には有利に蒸留によって、例えば実験室規模ではバッチ蒸留によって、又は工業的規模では薄層蒸発器中で、有利にはフラッシュ蒸留(それぞれ真空下で)によって達成される。
オリゴマー分離のためのバッチ蒸留の場合には、例えば2ミリバールの圧力で、浴温は約260℃であり、塔頂の移行温度は約229℃である。
オリゴマー分離は、同様に温和な条件下に、例えば1〜10−3ミリバールの範囲の減圧下に実施することができる。この場合に、0.1ミリバールの作業圧で、オリゴマー含有出発物質の沸点は出発物質に応じて20〜30℃だけ低下し、これに伴い生成物熱負荷も低下する。熱負荷の低下のために、蒸留を有利に連続的操作法では薄層蒸発で、又は特別好ましくはフラッシュ蒸発で実施するのが有利である。
本発明の方法では、出発物質、例えば化合物IIの水素化を液相中で行うのが好ましい。この水素化は、溶剤なしで又は有機溶剤中で行うことができる。化合物IIの部分的に高い粘度に基づき、これは有利には溶液として又は有機溶剤中の混合物として使用される。
有機溶剤としては原則的に、出発物質、例えば化合物IIを完全に溶かすことができるか又はこれと完全に混和し、かつ水素化条件下では不活性である、即ち水素化されないものがこれに該当する。
好適な溶剤の例は、環状及び非環状エーテル、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジメトキシプロパン、ジメチルジエチレングリコール、脂肪族アルコール、例えばメタノール、エタノール、n−又はイソプロパノール、n−、2−、イソ−又はt−ブタノール、カルボン酸エステル、例えば酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸プロピルエステル又は酢酸ブチルエステル並びに脂肪族エーテルアルコール、例えばメトキシプロパノールである。
水素化すべき液相中の出発物質、例えば化合物IIの濃度は、原則的に任意に選択され、屡々、溶液/混合物の全質量に対して20〜95質量%の範囲内にある。反応条件下に充分に流動性である出発物質では、水素化を溶剤の不存在下に実施することもできる。
水不含の条件下での反応(水素化)の実施と並んで、反応(水素化)を水の存在下に実施する場合に一連の効を奏する。水素化すべき混合物に対する水の割合は、10質量%まで、例えば0.1〜10質量%、有利には0.2〜7質量%、殊に0.5〜5質量%であることができる。
この特有の水素化は、通常は、先に記載の技術水準に記載されている様な公知の水素化法と同様に行われる。このために、出発物質、例えば有利には液相としての化合物IIを、水素の存在下に触媒と接触させる。この場合に、触媒を液相中に懸濁させる(懸濁法)か又はこの液相を触媒−流動床上に導く(流動床法)か、又は触媒−固体床上に導く(固体床法)ことができる。この水素化は、連続的にも非連続的にも行うことができる。本発明の方法を流動反応器中で、固体床法に従って実施するのが有利である。この場合に、水素は、水素化すべき出発物質の溶液と並流でも、向流で触媒上へ導くこともできる。
懸濁法により水素化を実施するために好適な装置も、触媒流動床及び触媒固体床での水素化のために好適な装置も、技術水準から公知であり、例えばUllmnn's Enzyklopaedie der Technischen Chemie,4.Auflage,Band 13,S.135ff及びP.N.Rylander, “Hydrogenation and Dehydrogenation” in Ullmnn's Encyclopedia of Industrial Chemistry,5th ed. on CD-ROMから公知である。
本発明による水素化は、水素常圧でも、高い水素圧でも、例えば低くとも1.1バール、有利には低くても10バールの水素絶対圧で実施することができる。一般に、この水素絶対圧は、325バール、有利には300バールの値を超えない。この水素絶対圧は20〜300バールの範囲、例えば50〜280バールの範囲内にあるのが特別有利である。
本発明の方法で反応温度は、一般に低くても30℃であり、屡々200℃の値を超えない。殊にこの水素化法を、40〜150℃、例えば40〜100℃の範囲、特に有利には45〜80℃の範囲の温度で実施する。
反応ガスとしては、水素と並んで、一酸化炭素又は硫黄含有ガスのような触媒毒を含有しない水素含有ガス、例えば水素と不活性ガス、例えば窒素との混合物又は通常はなお揮発性の炭化水素を含有するリフォーマー排ガス(Reformer-Abgase)もこれに該当する。純粋な水素(純度≧99.9容量%、特に≧99.95容量%、殊に≧99.99容量%)を使用するのが好ましい。
高い触媒活性に基づき、使用出発物質に対して比較的僅かな量の触媒が必要である。非連続的な懸濁法では、出発物質1モルに対して5モル%より少ない、例えば0.2モル%〜2モル%のルテニウムを使用するのが好ましい。水素化法の連続的な実施態様では、通常は水素化すべき出発物質を、0.05〜3kg/(l(触媒)・h)、殊に0.15〜2kg/(l(触媒)・h)の量で触媒上に導く。
勿論、この方法で使用される触媒は、活性減衰時に、貴金属触媒、例えばルテニウム触媒に慣用の、当業者に公知の方法によって再生することができる。ここでは、例えばBE 882279に記載のように、触媒を酸素で処理するか、US−A4072628に記載のようにハロゲン不含の希鉱酸で処理するか、又は0.1〜35質量%の含有率を有する水溶液の形の過酸化水素で処理するか、又は有利に、ハロゲン不含の溶液の形の他の酸化性物質で処理することが挙げられる。通常はこの触媒を、再活性化の後にかつ新たな使用の前に、溶剤、例えば水ですすぐ。
本発明による水素化法は、有利に、式II:
水素化度(Q)は、次のように定義される:
Q(%)=([生成物中の脂環式C6−環の数]/[出発物質中の芳香族C6−環
の数])・100
脂環式環と芳香族C6−環との比、例えばモル比は、好ましくは、1H−NMR−分光法を用いて測定することができる(芳香族及び相応する脂環式1H−信号の積分)。
Q(%)=([生成物中の脂環式C6−環の数]/[出発物質中の芳香族C6−環
の数])・100
脂環式環と芳香族C6−環との比、例えばモル比は、好ましくは、1H−NMR−分光法を用いて測定することができる(芳香族及び相応する脂環式1H−信号の積分)。
本発明の目的物は、同様に本発明による水素化法によって製造可能な式I:
式Iのビスグリシジルエーテルは、有利に、次式:
核水素化されたオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率は、好ましくは、芳香族ビスグリシジルエーテルを200℃に2時間及び更に300℃に2時間加熱する(それぞれ3ミリバールで)ことを用いて、又はGPC−測定(ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ)を用いることよって測定される。
オリゴマー含有率の測定のためのその都度の更なる条件については、下記を参照されたし。
式Iのビスグリシジルエーテルは、好ましくは1000質量ppmを下回る、殊に800質量ppmを下回る、全く特別に600質量ppmを下回る、例えば0〜400質量ppmの範囲の、DIN51408に従って測定される総塩素含有率を有する。
式Iのビスグリシジルエーテルは、好ましくは0.3質量ppmを下回る、殊に0.2質量ppmを下回る、全く特別に0.1質量ppmを下回る、例えば0〜0.09質量ppmの範囲の、誘導結合プラズマ(induktiv gekoppeltem Plasma)を用いる質量分析法(ICP−MS)で測定される、ルテニウム含有率を有する。
式Iのビスグリシジルエーテルは、好ましくは30より小さい、特に25より小さい、全く特別には20より小さい、例えば0〜18の範囲の、DIN ISO 6271に従って測定される白金−コバルト−色数(APHA−色数)を有する。
式Iのビスグリシジルエーテルは、好ましくは170〜240g/当量の範囲、特に175〜225g/当量の範囲、全く特別には180〜220g/当量の範囲の、規格ASTM−D−1652−88に従って測定されるエポキシ−当量を有する。
式Iのビスグリシジルエーテルは、好ましくは500質量ppmを下回る、特に400質量ppmを下回る、全く特別に350質量ppmを下回る、例えば0〜300質量ppmの範囲の、DIN 53188に従って測定される加水分解可能な塩素の割合を有する。
式Iのビスグリシジルエーテルは、好ましくはそれぞれ25℃で800mm2/sより小さい、特に700mm2/sより小さい、全く特別に650mm2/sより小さい、例えば400〜630mm2/sの範囲の、DIN 51562に従って測定される動粘度を有する。
式Iのビスグリシジルエーテルは、好ましくは44〜63%:34〜53%:3〜22%の範囲のシス/シス:シス/トランス:トランス/トランス−異性体比を有する。
特に好ましくは、このシス/シス:シス/トランス:トランス/トランス−異性体比は46〜60%:36〜50%:4〜18%の範囲にある。
全く特別好ましくは、このシス/シス:シス/トランス:トランス/トランス−異性体比は、48〜57%:38〜47%:5〜14%の範囲にある。
殊に、このシス/シス:シス/トランス:トランス/トランス−異性体比は、51〜56%:39〜44%:5〜10%の範囲にある。
式Iのビスグリシジルエーテルは、特に好ましくは、式II:
実施例
1.本発明による触媒1〜3の製造
担体材料の定義量をシャーレ中に装入し、水中の酢酸ルテニウム(III)の溶液(100%酢酸中のRu約5%)の、担体材料により最大吸収されうる量の90〜95%で含浸させた。次の担体を選択した:
SiO2−含有率>99.5質量%(Na2O 0.3質量%)、BET−比表面積100〜200m2/g、水吸収性(WA)0.85〜1.0g/g及び細孔容積0.5〜0.9ml/g(DIN 66131)を有するシリカゲル−ストランド(直径(d)=1.5〜4mm、長さ(l)=1〜10mm)、例えば、
1.本発明による触媒1〜3の製造
担体材料の定義量をシャーレ中に装入し、水中の酢酸ルテニウム(III)の溶液(100%酢酸中のRu約5%)の、担体材料により最大吸収されうる量の90〜95%で含浸させた。次の担体を選択した:
SiO2−含有率>99.5質量%(Na2O 0.3質量%)、BET−比表面積100〜200m2/g、水吸収性(WA)0.85〜1.0g/g及び細孔容積0.5〜0.9ml/g(DIN 66131)を有するシリカゲル−ストランド(直径(d)=1.5〜4mm、長さ(l)=1〜10mm)、例えば、
Fa.Grace社のC15(BET表面積181m2/g、細孔容積1.1ml/g、
Q2/Q3=13%、M(II):(Al(III)+Fe(II及び/又はIII))=7.0)、(M(II)=Ca(II)+Mg(II))、
及びFa.Grace-Davison社のDavicat(R)S557(Grade 57)(BET表面積340m2/g、細孔容積1.1ml/g、Q2/Q3=8.8%、M(II):(Al(III)+Fe(II及び/又はIII))=4.6)、(M(II)=Ca(II)+Mg(II))。
Q2/Q3=13%、M(II):(Al(III)+Fe(II及び/又はIII))=7.0)、(M(II)=Ca(II)+Mg(II))、
及びFa.Grace-Davison社のDavicat(R)S557(Grade 57)(BET表面積340m2/g、細孔容積1.1ml/g、Q2/Q3=8.8%、M(II):(Al(III)+Fe(II及び/又はIII))=4.6)、(M(II)=Ca(II)+Mg(II))。
このようなそれぞれ含有されている物質を、120℃で一晩乾燥させた。この乾燥された物質を、回転球炉中で、常圧での水素気流中、300℃で2時間還元させた。冷却及び不活性化(N2)の後に、この触媒を室温で希釈空気を用いて不動態化させた。この還元され不動態化された触媒は、得られる触媒の全質量に対して約1.6〜2質量%のRuを含有した。
TEM−分析:
触媒の触媒粒内のルテニウム−濃度は、外側から内側に向かって低下しており、この際、粒表面には約200nmまでの厚さのRu−層が存在する。この触媒粒の内部で、Ru−粒子は約2nmまでの大きさである。このルテニウムシェルの下側に、所々で凝結した及び/又は凝集したRu−粒子が観察される。この範囲内で、Ru−単一粒子の大きさは、約4nmまでである。このシェル中では、SADを用いて結晶ルテニウムが検出される。
触媒の触媒粒内のルテニウム−濃度は、外側から内側に向かって低下しており、この際、粒表面には約200nmまでの厚さのRu−層が存在する。この触媒粒の内部で、Ru−粒子は約2nmまでの大きさである。このルテニウムシェルの下側に、所々で凝結した及び/又は凝集したRu−粒子が観察される。この範囲内で、Ru−単一粒子の大きさは、約4nmまでである。このシェル中では、SADを用いて結晶ルテニウムが検出される。
XRD分析結果は、約8nmのルテニウム結晶寸法を示している。
細孔容積は、DIN 66131に従う窒素−吸着を用いて測定された。
Qn−構造(n=2、3、4)の同定及び百分比の測定は、29Si−固体−NMRを用いて行われた。
Qn=Si(OSi)n(OH)4−n (n=1、2、3又は4)
n=4に対するQnは、−110.8ppmで、n=3に対しては−100.5ppmで、n=2に対しては−90.7ppmで見出される(標準:テトラメチルシラン)(Q0及びQ1は同定されなかった)。この分析は、室温(20℃)での円偏光(CP 5ms)を用いる「マジック角回転」((MAS 5500Hz)の条件下に、かつ1Hの双極子デカップリング(dipolarer Entkopplung)の使用下に実施された。信号の部分的重なりの故に、強度を線形分析を介して評価した。この線形分析を、Fa.Galactic Industries社の標準ソフトウエアパッケージを用いて実施し、この際、「最小二乗適合」を反復計算した。
一覧表示:
n=4に対するQnは、−110.8ppmで、n=3に対しては−100.5ppmで、n=2に対しては−90.7ppmで見出される(標準:テトラメチルシラン)(Q0及びQ1は同定されなかった)。この分析は、室温(20℃)での円偏光(CP 5ms)を用いる「マジック角回転」((MAS 5500Hz)の条件下に、かつ1Hの双極子デカップリング(dipolarer Entkopplung)の使用下に実施された。信号の部分的重なりの故に、強度を線形分析を介して評価した。この線形分析を、Fa.Galactic Industries社の標準ソフトウエアパッケージを用いて実施し、この際、「最小二乗適合」を反復計算した。
一覧表示:
WO 02/100538からの触媒Aの担体は、WO 02/100538からの触媒Bの担体(化学的に同じ組成物)に相当しているが、BET−表面積が68m2/g及び細孔容積が0.8ml/gであることで相違している。
本発明による触媒の製造のために、触媒1〜3に、それぞれ室温で、Mg2+−塩溶液
、例えば0mM(ミリモル)水性8Mg(NO3)2−溶液を、例えば15分間含浸させる。この含浸された触媒を水ですすぎ、80℃で乾燥させる。
、例えば0mM(ミリモル)水性8Mg(NO3)2−溶液を、例えば15分間含浸させる。この含浸された触媒を水ですすぎ、80℃で乾燥させる。
2.触媒A及びBの製造
触媒A(Mg−含浸されていない、本発明によらない)
WO−A2−02/100538に従って触媒を製造した。
触媒A(Mg−含浸されていない、本発明によらない)
WO−A2−02/100538に従って触媒を製造した。
SiO2−含有率>99.5質量%(Na2O 0.3質量%)、細孔容積0.7ml/g(DIN 66131)、BET−表面積約118m2/g及び吸水性0.87g/g(担体)を有するシリカ−ストランド(直径d=3mm)を使用した。この担体をシャーレ中に装入し、酢酸Ru溶液で、95%の吸水性で含浸させた。含浸された生成物を120℃で一晩乾燥させた。回転球炉中で、常圧での水素流中、300℃で2時間還元させた。冷却及び不活性化(N2)の後に、この触媒を室温で希釈空気を用いて不動態化させた。こうして得られた触媒は、そのまま使用される(=触媒A)か、又は触媒Bに変換された(下記参照)。
触媒B(Mg−含浸された、本発明による)
触媒A(20質量%)に、室温で82.5mMMg−溶液(Mg(NO3)2・6H2O)の80質量%で15分間含浸させた。この含浸された触媒を水ですすぎ、80℃で乾燥させた。
触媒A(20質量%)に、室温で82.5mMMg−溶液(Mg(NO3)2・6H2O)の80質量%で15分間含浸させた。この含浸された触媒を水ですすぎ、80℃で乾燥させた。
3.水素化例
変換率及び水素化度を1H−NMRを用いて測定した:
試料量:20〜40mg、溶剤:CDCl3、700μl、参照信号としてのTMSと共に、
試験管:直径5mm、400又は500MHz、20℃;芳香族プロトンの信号の減少対脂肪族プロトンの信号の増加。
変換率及び水素化度を1H−NMRを用いて測定した:
試料量:20〜40mg、溶剤:CDCl3、700μl、参照信号としてのTMSと共に、
試験管:直径5mm、400又は500MHz、20℃;芳香族プロトンの信号の減少対脂肪族プロトンの信号の増加。
例中に記載されている変換率は、芳香族基の水素化に対している。
エポキシド基の減少の測定を、水素化の前又は後のエポキシド当量(EEW)(それぞれ、ASTM−D−1652−88に従って測定)の比較により行った。
THF及び水の除かれた取出物のルテニウムの測定を、誘導結合プラズマを用いる質量分析法(ICP−MS、下記参照)を用いて行った。
例1
300mlオートクレーブ中で、THF中の2,2−ジ−[p−グリシドオキシフェニル]−プロパン(オリゴマー含有標準品、Fa.Vantico社のARALDIT GY 240 BD、EEW=182)の30質量%溶液150gを水3質量%と、250バール及び50℃で10時間反応させた。触媒A及びBのそれぞれ0.5モル%(2,2−ジ−[p−グリシドオキシフェニル]−プロパンに対するRuモル%)を使用した(バッチ法)。反応の終了後にTHF及び水の蒸発除去の後に、変換率、選択率及びRu−含有率を測定した。
300mlオートクレーブ中で、THF中の2,2−ジ−[p−グリシドオキシフェニル]−プロパン(オリゴマー含有標準品、Fa.Vantico社のARALDIT GY 240 BD、EEW=182)の30質量%溶液150gを水3質量%と、250バール及び50℃で10時間反応させた。触媒A及びBのそれぞれ0.5モル%(2,2−ジ−[p−グリシドオキシフェニル]−プロパンに対するRuモル%)を使用した(バッチ法)。反応の終了後にTHF及び水の蒸発除去の後に、変換率、選択率及びRu−含有率を測定した。
この例は、次のことを示している:
1. Ru−触媒Aは、芳香族ビスグリシジルエーテルの有能な水素化触媒である、
2. マグネシウム塩での触媒の含浸(触媒B)によって、活性をも選択率をも変らないが、安定性を著しく高まる。
1. Ru−触媒Aは、芳香族ビスグリシジルエーテルの有能な水素化触媒である、
2. マグネシウム塩での触媒の含浸(触媒B)によって、活性をも選択率をも変らないが、安定性を著しく高まる。
例2(比較)
反応器として、触媒A75mlが充填されて加熱された、出発物質用の供給ポンプ及び試料採取用及び排ガス調節用の液面調節器(Standhaltung)付き分離器を備えている不錆鋼製反応管(長さ0.8m;直径12mm)を使用した。
反応器として、触媒A75mlが充填されて加熱された、出発物質用の供給ポンプ及び試料採取用及び排ガス調節用の液面調節器(Standhaltung)付き分離器を備えている不錆鋼製反応管(長さ0.8m;直径12mm)を使用した。
水素化時に、先ず水30質量%を含有するTHF中の2,2−ジ−[p−グリシドオキシフェニル]−プロパン(蒸留品、EEW=171)の30質量%溶液を使用した。水素化を、0.15kg/l触媒・hの触媒装荷、8の供給/循環−比、50℃の温度及び250バールの水素圧で実施した。反応器をアップフロー方式で作動させた。
48時間の作動時間の後に、69.3%の選択率(EEW=255)で、95.4%の変換率が得られた。この試験法は、強いRu−浸出(取出物中のRu−含有率、THF及び水不含で:>4ppm)に基づき中断された(Ru−浸出=担体からの貴金属の分離)。
この例は、次のことを示している:
連続的方法における、例えば触媒Aのような担持されたRu−触媒の使用の場合に、この触媒は浸出を示し、従って環境技術的な方法に関して改善が望まれる。
連続的方法における、例えば触媒Aのような担持されたRu−触媒の使用の場合に、この触媒は浸出を示し、従って環境技術的な方法に関して改善が望まれる。
例3
反応器として、触媒B75mlが充填されて加熱された、出発物質用の供給管及び試料採取用及び排ガス調節用の液面調節器付き分離器を備えている、不錆鋼製反応管(長さ0.8m;直径12mm)を使用した。
反応器として、触媒B75mlが充填されて加熱された、出発物質用の供給管及び試料採取用及び排ガス調節用の液面調節器付き分離器を備えている、不錆鋼製反応管(長さ0.8m;直径12mm)を使用した。
水素化時に、先ず水3質量%を含有するTHF中の2,2−ジ−[p−グリシドオキシフェニル]−プロパン(蒸留品、EEW=172)の30質量%溶液を使用した。水素化を、0.15kg/l触媒・hの触媒装荷、8の供給/循環−比、50℃の温度及び250バールの水素圧で実施した。反応器をアップフロー方式で作動させた
256時間の作動時間の後に、供給物に、Mg5質量ppm(使用ビスグリシジルエーテル(=BGE)、計算100%に対して)を、Mg(NO3)2・H2Oの形で添加した。
256時間の作動時間の後に、供給物に、Mg5質量ppm(使用ビスグリシジルエーテル(=BGE)、計算100%に対して)を、Mg(NO3)2・H2Oの形で添加した。
346時間の作動時間の後に、供給物中のBGE−濃度が40%まで高められたが、Mg−濃度は残存した。供給/循環−比は11であった。
反応器取出物中で得られた変換率、選択率及びRu−濃度(溶剤なしで)は、次の表から知ることができる。
この例は次のことを示している:
1.Mg−含浸は、担持されたRu−触媒が、バッチ試験で示しているように、連続的作動法でも著しい安定性を得させる(成果1〜7)。
2.しばらく(約208時間)の後に、僅かなRu−浸出が観察できる(成果8〜9)。原因はおそらく、マグネシウムの洗出である、
3.供給物に少量のMg−塩を添加する場合には、これと逆作用することができる(10〜14)。こうして、取出物中のRu−含有率は、<0.1ppmに保持することができる。
4.これらの条件下に、40質量%のBGE−溶液も、問題なく水素化することができる(成果15〜20)。
5.添加されるMg−量をいずれにせよ明らかに5ppmより低く(2.5又は1.25ppm)減少させると、再び僅かな(0.9ppm)又は著しい(1.4ppm)浸出が観察される(成果21〜28)。
1.Mg−含浸は、担持されたRu−触媒が、バッチ試験で示しているように、連続的作動法でも著しい安定性を得させる(成果1〜7)。
2.しばらく(約208時間)の後に、僅かなRu−浸出が観察できる(成果8〜9)。原因はおそらく、マグネシウムの洗出である、
3.供給物に少量のMg−塩を添加する場合には、これと逆作用することができる(10〜14)。こうして、取出物中のRu−含有率は、<0.1ppmに保持することができる。
4.これらの条件下に、40質量%のBGE−溶液も、問題なく水素化することができる(成果15〜20)。
5.添加されるMg−量をいずれにせよ明らかに5ppmより低く(2.5又は1.25ppm)減少させると、再び僅かな(0.9ppm)又は著しい(1.4ppm)浸出が観察される(成果21〜28)。
4.オリゴマー含有率:
本発明によれば、供給物中のオリゴマー含有率は、触媒の耐用時間への影響を有することも認められた:蒸留された供給物(オリゴマーの少ない供給物)の使用の場合には、市場で慣用の標準品(オリゴマーの多い供給物)に比べて、減速された触媒失活が観察される。オリゴマー含有率は、例えばGPC−測定(ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ)を用いて測定することがきる:
本発明によれば、供給物中のオリゴマー含有率は、触媒の耐用時間への影響を有することも認められた:蒸留された供給物(オリゴマーの少ない供給物)の使用の場合には、市場で慣用の標準品(オリゴマーの多い供給物)に比べて、減速された触媒失活が観察される。オリゴマー含有率は、例えばGPC−測定(ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ)を用いて測定することがきる:
2,2−ジ−[p−グリシドオキシフェニル]−プロパンの分子量:340g/モル。
5.GPC−測定条件の記載
固定相:Fa.PSS GmbH社の5スチレンジビニルベンゼンゲルカラム”PSS SDV lenier M”(それぞれ300×8mm)(熱処理:35℃)。
移動相:THF(流量:1.2ml/Min.)。
較正:Fa.Polymer Laboratories社のPS−較正キットでMG500−10000000g/モル。
オリゴマー範囲:エチルベンゼン/1,3−ジフェニルブタン/1,3,5−トリフェニルヘキサン/1,3,5,7−テトラフェニルオクタン/1,3,5,7,9−ペンタフェニルデカン。
評価限度:180g/モル。
検出:RI(屈折率)水410、UV(254nmで)スペクトルシリーズUV100。
固定相:Fa.PSS GmbH社の5スチレンジビニルベンゼンゲルカラム”PSS SDV lenier M”(それぞれ300×8mm)(熱処理:35℃)。
移動相:THF(流量:1.2ml/Min.)。
較正:Fa.Polymer Laboratories社のPS−較正キットでMG500−10000000g/モル。
オリゴマー範囲:エチルベンゼン/1,3−ジフェニルブタン/1,3,5−トリフェニルヘキサン/1,3,5,7−テトラフェニルオクタン/1,3,5,7,9−ペンタフェニルデカン。
評価限度:180g/モル。
検出:RI(屈折率)水410、UV(254nmで)スペクトルシリーズUV100。
記載の分子量は、溶液中での個々のポリマータイプの流体力学的体積の違いの故に、標準物質としてのポリスチレンに関連する相対値であり、従って絶対値ではない。
GPC−測定を用いて測定された面積%(Fl.%)でのオリゴマー含有率は、内部又は外部標準を用いて質量%に換算することができる。
本発明による水素化法で使用される式II(R=CH3)の芳香族ビスグリシジルエーテルのGPC−分析の結果は、例えばモノマーと並んで、相応するオリゴマービスグリシジルエーテルの次の含有率を示した:
180〜<380g/モルの範囲の分子量: >98.5 Fl.%
380〜<520g/モルの範囲: <1.3 Fl.%
520〜<860g/モルの範囲: <0.80 Fl.% 及び
860〜1500g/モルの範囲: <0.15 Fl.% 。
180〜<380g/モルの範囲の分子量: >98.5 Fl.%
380〜<520g/モルの範囲: <1.3 Fl.%
520〜<860g/モルの範囲: <0.80 Fl.% 及び
860〜1500g/モルの範囲: <0.15 Fl.% 。
6.蒸発残分の測定法の記載
各々の試料からそれぞれ約0.5gを秤量瓶中に秤取した。この秤量瓶を、引き続き室温でプレート加熱される真空乾燥箱中に入れ、この乾燥箱を真空にした。3ミリバールの圧力で、温度を200℃まで高め、試料を2時間乾燥させた。更に2時間温度を300℃まで高め、引き続きデシケータ中で室温まで冷却させ、秤量した。
各々の試料からそれぞれ約0.5gを秤量瓶中に秤取した。この秤量瓶を、引き続き室温でプレート加熱される真空乾燥箱中に入れ、この乾燥箱を真空にした。3ミリバールの圧力で、温度を200℃まで高め、試料を2時間乾燥させた。更に2時間温度を300℃まで高め、引き続きデシケータ中で室温まで冷却させ、秤量した。
標準品(Fa.Vantico社のARALDIT GY 240 BD)中のこの方法を用いて測定された残分(オリゴマー含有率)は6.1質量%であった。
蒸留標準品中のこの方法で測定された残分(オリゴマー含有率)は0質量%であった(蒸留条件:1ミリバール、浴温260℃及び塔頂部の移行温度229℃)。
7.シス/シス−シス/トランス−トランス/トランス−異性体比の測定
水素化されたビスフェノール−A−ビスグリシジルエーテル(R=CH3)の生成物取出物をガスクロマトグラフィ(GC及びGC−MS)を用いて分析した。この場合に水素化されたビスフェノール−A−ビスグリシジルエーテルとして3信号が同定された。
水素化されたビスフェノール−A−ビスグリシジルエーテル(R=CH3)の生成物取出物をガスクロマトグラフィ(GC及びGC−MS)を用いて分析した。この場合に水素化されたビスフェノール−A−ビスグリシジルエーテルとして3信号が同定された。
ビスグリシジルエーテルのビスフェノール−A−ユニットの水素化によって、複数の異性体が生じることができる。シクロへキサン−環に付いている置換基の配置に応じて、シス/シス−、トランス/トランス−又はシス/トランス−異性体が生じることができる。
3異性体の同定のために、該当ピークの生成物をカラム接続(Saeulenschaltung)を用いて分取した。引き続き、各々のフラクシヨンをNMR−分光法で特徴付けた(1H、13C、TOCSY、HSQC)。
分取GCのために、カラム接続を伴うGC−系を使用することができる。この場合に、試料をSil−5−毛細管(l=15m、ID=0.53mm、df=3μm)上で前分離させた。シグナルをDEANS−コネクションを用いて2.GC−カラムに区分した。これらのカラムは分取区分の製品の検査のために使用された。最後に、各々のピークを、フラクシヨン捕集器を用いて集めた。試料の約10質量%溶液(これは各々の成分約10μgに相当する)の28インジェクシヨン(Injektion)を調製した。
次いで、単離された成分の特徴付けをNMR−分光法により行った。
水素化されたビスフェノール−F−ビスグリシジルエーテル(R=H)の異性体比の測定のために相応することが当てはまる。
8.式Iの核水素化されたビスグリシジルエーテル中のルテニウムの測定
試料を、適当な有機溶剤(例えばNMP)で100倍希釈した。この溶液中で、ルテニウム含有率を、誘導結合プラズマを用いる質量分析法(ICP−MS)により測定した。
試料を、適当な有機溶剤(例えばNMP)で100倍希釈した。この溶液中で、ルテニウム含有率を、誘導結合プラズマを用いる質量分析法(ICP−MS)により測定した。
装置:ICP−MS−分析計、例えばAgilent 7500s
測定条件:
較正:有機マトリックス中での外較正
噴霧装置:Meinhardt
物質: Ru102
較正度合を、希測定溶液中で必要な発生値が確実に測定できるように選択した。
測定条件:
較正:有機マトリックス中での外較正
噴霧装置:Meinhardt
物質: Ru102
較正度合を、希測定溶液中で必要な発生値が確実に測定できるように選択した。
9.クロリド及び有機結合した塩素の測定
クロリドの測定をイオンクロマトグラフィで行った。
クロリドの測定をイオンクロマトグラフィで行った。
試料準備:
試料約1gをトルエン中に溶かし、純水10mlで抽出した。水相をイオンクロマトグラフィを用いて測定した。
試料約1gをトルエン中に溶かし、純水10mlで抽出した。水相をイオンクロマトグラフィを用いて測定した。
測定条件:
イオンクロマトグラフィ−系: Metrohm
前カラム: DIONEX AG 12
分離カラム: DIONEX AS 12
溶離液:(Na2CO32.7ミリモル+NaHCO30.28ミリモル)/L水
流量: 1ml/分
検出: 化学的抑制の後の導電性
サプレッサー: Metrohm Modul 753
50ミリモルH2SO4;純水(流量約0.4ml/Min.)
目盛定め: 0.01mg/L〜0.1mg/L 。
イオンクロマトグラフィ−系: Metrohm
前カラム: DIONEX AG 12
分離カラム: DIONEX AS 12
溶離液:(Na2CO32.7ミリモル+NaHCO30.28ミリモル)/L水
流量: 1ml/分
検出: 化学的抑制の後の導電性
サプレッサー: Metrohm Modul 753
50ミリモルH2SO4;純水(流量約0.4ml/Min.)
目盛定め: 0.01mg/L〜0.1mg/L 。
DIN 51408、Teil 2”Bestimmung des Chlorgehalts”に相当する、有機結合した塩素(総塩素)の電量分析測定。
試料を、酸素雰囲気中で、約1020℃の温度で燃焼させた。この場合に、試料中に結合している塩素は塩化水素に変換される。燃焼時に生じる硝気ガス、酸化硫黄及び水を除去し、こうして精製された燃焼ガスを電量計セル中に導入する。ここで、
Cl− +Ag+ → AgClに従って形成されるクロリドの電量計測定を行う。
Cl− +Ag+ → AgClに従って形成されるクロリドの電量計測定を行う。
秤量範囲: 1〜50mg
測定限界: 約1mg/kg(物質に依存)
装置: Fa.Euroglas(LHG)、”ECS−1200”
文献: F.Ehrenberger,”Quantitative organische Elementaranalyse” ISBN 3-527-28056-1。
測定限界: 約1mg/kg(物質に依存)
装置: Fa.Euroglas(LHG)、”ECS−1200”
文献: F.Ehrenberger,”Quantitative organische Elementaranalyse” ISBN 3-527-28056-1。
Claims (45)
- 担体材料としての二酸化珪素を含有するルテニウム−不均一系触媒において、触媒表面がアルカリ土類金属イオン(M2+)を含有していることを特徴とする、ルテニウム−不均一系触媒。
- 触媒表面がマグネシウムイオン(Mg2+)を含有していることを特徴とする、請求項1に記載のルテニウム−触媒。
- 触媒がルテニウム0.1〜10質量%を含有し、触媒表面がアルカリ土類金属イオン(M2+)0.01〜1質量%(それぞれ、二酸化珪素−担体材料の質量に対して)を含有していることを特徴とする、請求項1又は2に記載のルテニウム−触媒。
- 触媒がルテニウム0.2〜5質量%を含有し、触媒表面がアルカリ土類金属イオン(M2+)0.05〜0.5質量%(それぞれ、二酸化珪素−担体材料の質量に対して)を含有していることを特徴とする、請求項1又は2に記載のルテニウム−触媒。
- 担体材料をルテニウム(III)塩の溶液で1回−又は数回含浸し、乾燥及び還元することによって触媒を製造している、請求項1から4までのいずれか1項に記載のルテニウム−触媒。
- 前駆ルテニウム−不均一系触媒をアルカリ土類金属(II)塩の溶液で含浸することによって、アルカリ土類金属イオン(M2+)が触媒表面中に導入されていることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項に記載のルテニウム−触媒。
- アルカリ土類金属(II)塩の溶液は硝酸マグネシウム及び/又は硝酸カルシウムの水溶液であることを特徴とする、請求項6に記載のルテニウム−触媒。
- 非晶質二酸化珪素をベースとする担体材料が30〜700m2/gの範囲のBET−表面積(DIN 66131による)を有していることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載のルテニウム−触媒。
- 触媒が、触媒の全質量に対して0.05質量%を下回るハロゲニド(イオンクロマトグラフィで測定)を含有していることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載のルテニウム−触媒。
- ルテニウムがシェルとして触媒表面上で濃縮されていることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項に記載のルテニウム−触媒。
- ルテニウムがシェル中に部分的又は完全に結晶性で存在していることを特徴とする、請求項10に記載のルテニウム−触媒。
- アルカリ土類金属イオンが高分散性で触媒表面中に存在していることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項に記載のルテニウム−触媒。
- 二酸化珪素−担体材料中で、29Si−固体−NMRを用いて測定されるQ2−及びQ3−構造の信号強度の百分比Q2/Q3が25より小さいことを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項に記載のルテニウム−不均一系触媒。
- 二酸化珪素−担体材料中のAl(III)及びFe(II及び/又はIII)の合計濃度が300質量ppmより低いことを特徴とする、請求項1から13までのいずれか1項に記載のルテニウム−触媒。
- 炭素環式芳香族基を水素化して相応する炭素環式脂肪族基にする方法において、請求項1から14までのいずれか1項に記載のルテニウム−不均一系触媒を使用することを特徴とする、炭素環式芳香族基を水素化する方法。
- ベンゼン環を水素化して相応する炭素環式6員環にする、請求項15に記載の方法。
- 使用される式IIの芳香族ビスグリシジルエーテルが、10質量%を下回る相応するオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率を有していることを特徴とする、請求項17に記載の方法。
- 使用される式IIの芳香族ビスグリシジルエーテルが、5質量%を下回る相応するオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率を有していることを特徴とする、請求項17に記載の方法。
- オリゴマービスグリシジルエーテルが、R=Hに対しては568〜1338g/モルの範囲の分子量を有し、R=CH3に対しては624〜1478g/モルの範囲の分子量を有していることを特徴とする、請求項18及び19のいずれか1項に記載の方法。
- 水素化を30〜200℃の範囲の温度で実施することを特徴とする、請求項15から20までのいずれか1項に記載の方法。
- 水素化を10〜325バールの範囲の水素絶対圧で実施することを特徴とする、請求項15から21までのいずれか1項に記載の方法。
- 水素化を触媒固体床に接して実施することを特徴とする、請求項15から22までのいずれか1項に記載の方法。
- 水素化を、懸濁液の形で触媒を含有している液相中で実施することを特徴とする、請求項15から22までのいずれか1項に記載の方法。
- 式IIの芳香族ビスグリシジルエーテルを水素化に対して不活性の有機溶剤中の溶液として使用し、この際、この溶液は溶剤に対して0.1〜10質量%の水を含有していることを特徴とする、請求項17から24までのいずれか1項に記載の方法。
- アルカリ土類金属イオン(M2+)を含有している水素化すべき基質の溶液を使用することを特徴とする、請求項15から25までのいずれか1項に記載の方法。
- マグネシウムイオン(Mg2+)を含有している水素化すべき基質の溶液を使用することを特徴とする、請求項15から25までのいずれか1項に記載の方法。
- 溶液のアルカリ土類金属イオンの含有率は1〜100質量ppmであることを特徴とする、請求項26及び27のいずれか1項に記載の方法。
- 溶液のアルカリ土類金属イオンの含有率は2〜10質量ppmであることを特徴とする、請求項26又は27に記載の方法。
- 5質量%を下回る、相応する核水素化されたオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率を有していることを特徴とする、請求項31に記載のビスグリシジルエーテル。
- 1.5質量%を下回る、相応する核水素化されたオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率を有していることを特徴とする、請求項31項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 0.5質量%を下回る、相応する核水素化されたオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率を有していることを特徴とする、請求項31項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 核水素化されたオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率が、芳香族ビスグリシジルエーテルを200℃に2時間及び更に300℃に2時間加熱する(それぞれ3ミリバールで)ことを用いて測定されていることを特徴とする、請求項31から34までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 核水素化されたオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率が、GPC−測定(ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ)を用いて測定されていることを特徴とする、請求項31から34までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
- GPC−測定を用いて測定される面積%でのオリゴマービスグリシジルエーテルの含有率が質量%での含有率と同一視される、請求項36に記載のビスグリシジルエーテル。
- 1000質量ppmを下回る、DIN51408に従って測定される総塩素含有率を有していることを特徴とする、請求項30から37までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 0.3質量ppmを下回る、誘導結合プラズマを用いる質量分析法(ICP−MS)で測定されるルテニウム含有率を有していることを特徴とする、請求項30から38までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 30より小さい、DIN ISO 6271に従って測定される白金−コバルト−色数(APHA−色数)を有していることを特徴とする、請求項30から39までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 170〜240g/当量の範囲の規格ASTM−D−1652−88に従って測定されるエポキシ−当量を有していることを特徴とする、請求項30から40までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 500質量ppmを下回る、DIN 53188に従って測定される加水分解可能な塩素の割合を有していることを特徴とする、請求項30から41までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 25℃で800mm2/sより低い、DIN 51562に従って測定される動粘度を有していることを特徴とする、請求項30から42までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
- 44〜63%:34〜53%:3〜22%の範囲のシス/シス:シス/トランス:トランス/トランス−異性体比を有していることを特徴とする、請求項30から43までのいずれか1項に記載のビスグリシジルエーテル。
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