JP2007534025A - リソグラフィにおける誤差縮小方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ガラス・プレートを保持する場合、保持デバイス及びガラス・プレート自体の重量によってガラス・プレートが変形する。また、ガラス・プレートに付着している表面膜中の自蔵応力及び前記膜のパターニングによってひずみが生じることもある。半導体マスクは、通常、152×152×6.25mmであり、パターン化される面積は、場合によっては127×127mmである。図2bは、プレート201が重力の力によって湾曲し、ガラスの上部領域が収縮する様子を示したものである。たとえば垂直方向に保持されているプレートを解放すると、プレートは、図2aに示すプレートの本来の形にはね返り、収縮が消滅する。プレートが湾曲している間にパターンがプレートに書き込まれると、書き込まれたパターンは、プレートが解放されると伸張することになる。図3は、プレートが図2に示すようにその両端に沿って支持された場合に生じる最大誤差を線図で示したものである。図3には、プレートの厚さ及びサイズ即ち2つの支持端間の距離を関数とした横方向の期待位置誤差が示されている。図3から帰結される興味深い結論は、ガラス・プレートの不適切な支持によるものと考えられる誤差の大きさの程度が、ハイエンド・マスクで許容可能な誤差の大きさの程度より大きいことである。ポイントAは、152×152×6.25mmの標準半導体レチクルを示したもので、最大偏位は約400nmである。ポイントBは、225×225×9mmの新しい標準化マスク・フォーマットであり、ガラス・プレートがより分厚いという事実にもかかわらず、偏位は1μmを超えている。最後にポイントCは、マスクの面積が広い場合、問題がさらに深刻化することを示しており、800mmプレート8mmの可能誤差は60μmである。また、図3から、ガラス・プレートの厚さを分厚くしても誤差を小さくする効果はそれほど期待できないことが分かる。800mmプレートの厚さを分厚くすることによって誤差を0.1μmまで小さくすることは可能である。これは、Bで示す225mmのマスクに対しても同様であり、一辺が225mmのガラス・キューブであっても、その編位は10nmより大きい。
クランピング変形によって配置誤差即ち位置決め誤差がもたらされる。最終製品におけるもう1つの大きな配置誤差源は、半導体用のウェハ・ステッパ或いはディスプレイ・パネル用の投影型露光装置などの露光ツールのひずみである。マスク・ライタにはステージ誤差があるが、通常、これらの誤差は、たとえばNikon及びLeicaから商用的に入手することができるxy度量衡学システムに対する較正の後、良好に制御されている。ワークピースに付着した膜或いはワークピースから除去された膜には自蔵応力があり、そのためにワークピースが変形するため、また、処理工程の中にはワークピースが収縮又は湾曲する原因になる工程、たとえば高温焼きなまし工程があるため、配置は、処理によっても影響されることがある。マスク上で使用されるペリクルは、重大な誤差源である。マスク・プレートへのフレームの嵌合もマスク・プレートを湾曲させる原因になっている。
マスク業界で使用されている用語は、通常は理想数学格子である基準格子からの位置決め誤りを実際に意味する「位置決め」である。過去においては、理想数学格子に対する最終製品の位置決めは不要であった。同じタイプの露光ステーションを使用してすべての層(半導体チップの場合は約25層、TFTの場合は約6層)を印刷する場合、すべての層が同じようにひずむため、露光ステーションの系統的で、且つ、同様の挙動が相殺される。
フィードフォワード修正又はフィードバック修正509によって、或いはとりわけその2つを組み合わせることにより、誤差全体の大部分を制御し、且つ、修正することができる。残留誤差は、マスク書込み中、露光中及び処理中の確率的誤差によるものであり、したがって、たとえばより良好な温度制御、振動絶縁、プロセス・オートメーション等によって対処しなければならない。また、残留誤差は、不完全な誤差モデル及びモデル・パラメータの不確実性によるものである。本出願人らは、本発明のフレームワークが確立されると、よりいっそう良好なモデルが開発され、最終的には真性雑音誤差を除くあらゆる誤差が除去されることを確信している。誤差を特性化するためのモデル及びソフトウェアの開発及び使用は、当然、個々の営利企業の使命になるものと思われる。
図7は、ガラス・ブロック及びCADファイルから最終チップ又はTFTディスプレイまでの作業の流れ、及びモデル化し、且つ、修正することができる重要な誤差メカニズムを示したものである。作業の流れは、マスク・ブランクを製造する部分、マスク・ブランク上にマスクを書き込む部分、及びリソグラフィ生産のためにマスクを使用する部分の3つに分割されており、また、個々の部分は、いくつかの異なる工程に分割されている。さらに、工程毎に、前記工程の間に生じる可能性のある異なるタイプの誤差が示されている。しかしながら、これらの誤差は、個々の工程の間に生じる可能性のある誤差の単なる例にすぎず、他の多くの誤差が同時に生じる可能性がある。上で説明したように、少なくともいくつかの工程の誤差が測定され、書き込まれるパターン中の誤差を予測し、且つ、マスク製造における露光工程の間、前記予測した誤差を補償するための修正を生成するべく、フィードバック・ループ又はフィードフォワード・ループのいずれかに使用される。
書込み中及び使用中に全く同じ方法で保持される場合、誤差は存在しない。これまで、クランピングが慎重に実施されることを条件として、クランピングによって変形が生じない剛直なプレートとして半導体マスクを取り扱うことが可能であった。クランピングによって生じる変形が将来的により重大な問題になる2つの開発が存在しており、マスク・サイズが拡大され、且つ、精度要求事項が劇的に厳格になる。225×225×9mmの新しいマスク・フォーマットが画定され、マスクに許容される幾何学誤差は、2001年には30nmになり、今後数年のうちに10nm未満になることが予想される。フォトマスク上のフィーチャに許容される位置決め誤差は、通常、5%であり、また、臨界寸法(CD)の誤差は2.5%未満でなければならない。リソグラフィ予測に対する現在の計画では、2010年にはフィーチャは約25nmになる。縮率が4の場合、フィーチャはマスク上で100nmであり、したがって位置決め要求事項は5nmであり、CD許容誤差は2.5nmである。この要求事項は、進展がより小さいスケールに向かって継続する場合、数年後にはサブ・ナノメートルになることが予測される。従来技術に基づくマスク製造では、これらの要求事項を満足するマスクを製造することはできない。本発明による方法は、多くの系統的誤差を1桁以上小さくすることができるように工夫されている。
マスク・ブランクは、ガラス製造会社で切断され、且つ、研磨される。表面の形状は、ガラス製品の品質等級に対応する最大誤差まで制御されている。クロムのスパッタ膜によってガラス・プレートにコーティングが施され、フォトレジストがスピン塗布される。本発明の好ましい実施例では、クロム塗布の前後及びレジストを塗布した後に、ガラスの前面及び裏面の平面度が測定される。ガラス材料の正確な厚さ及びヤング率などの他の補助情報と共にガラスの前面及び裏面の平面度マップが生成される。ガラス・プレートの各々は、クロムの塗布に先立ってクロム表面の周囲に刻印された連続番号を有しており、したがってガラス・プレートの寿命を通してその同一性を追跡することができる。連続番号は、クリア・テキストで、且つ、機械可読フォーマットで、たとえばレーザ・アブレーションによってガラス表面又はクロム膜に刻印される。また、ガラスの体積の内側に識別マークをレーザ刻印することも可能であり、クロム・コーティング中への磁気記録或いはガラス・プレートへのメモリ素子の埋込みなどの他のマーキング方法を使用することも可能である。刻印されたマーキングによる半導体ウェハの識別は、半導体業界では当然の行為であり、本発明においてもマスク・ブランクに適用されている。他の確実な任意の識別システムを使用することができ、たとえばマークが施され、且つ、バーコード・ラベルが振られた箱にマスク・ブランクを保管し、出荷することができる。
好ましい実施例では、マスク・ライタは、パターニングから使用に至るプロセス連鎖によって生じるひずみを修正するためのいくつかの設備を有している。先ず、マスク・ライタは、レーザ干渉計によって制御される、一様な収縮又は膨張に対応し、且つ、場合によっては自蔵膜応力によってもたらされる、個々の軸を横切る一様な湾曲に対応するxスケール及びyスケールを調整することができる精密ステージを有している。第2に、マスク・ライタは、サーボの駆動を修正することによって、また、ソフトウェアによって直交性ひずみ及び台形ひずみを調整する手段を有している。バレル歪曲、ミラー彎曲及び座標系の不規則性などのより高次の誤差に対しては、マスク書込み機は、サーボ・システムに位置依存オフセットを送り出すxy修正マップを有している。情報収集及び誤差予測システムは、書き込まれるマスク毎に一様なスケール及びxyマップをマスク・ライタに送り出す。前記マップは、すべての既知の誤差を修正するために必要なパターン修正量である。当然、これらにはマスク・ライタ自体のステージ誤差が含まれている。
マスク書込み設備と同様、マスクを使用してワークピースにパターンを印刷する露光ステーション即ちステッパも、露光工程における画像ひずみ及び後続するプロセスにおけるそりなどの多くの誤差を有している。好ましい実施例では、マスクは3つのサポートによって支持されており、重力によるたるみ以外に、クランピングによって余計な曲げ力が生じることはない。他の好ましい実施例では、他の設計制約が運動学的に過剰拘束によるマスクのクランプ、即ち4点以上の支持を使用したマスクのクランプを余儀なくしている。不完全な幾何構造によって生じる曲げ力によるパターンのひずみは、マスク・ライタの場合と同様、クランピング構造を修正することによって相殺することができ、或いはマスクの予測及び事前修正によって相殺することができる。
マスク及び露光済みのワークピースは、たとえばLeica及びNikon社から商用的に入手することができる座標測定システムを使用して測定される。これらの度量衡学ツールも、機械幾何構造ファイルに記述することができるクランピング幾何構造及び自蔵誤差を有している。度量衡学ツールの誤差がマスクに直接影響することはないが、度量衡学ツールを基準にして他のすべてのシステムが較正されるため、度量衡学ツールの誤差は間接的に影響している。
マスク・ブランクは、その幾何構造が単純であり、高品質の水晶又はガラスでできている。したがって、機械設計の専門家には良く知られているように、単純な有限要素モデルを使用して表すことができる。プレートのサイズと比較するとすべての誤差が小さく、結果として生じる誤差は、異なる誤差源によるひずみを線形重畳することによって計算することができ、たとえば重力によるたるみ及びクランピングによる湾曲は加法的である。この計算によって、異なる湾曲モードの分解による弾性ガラス・プレートの解析方法が単純になる。これは、マスク・ライタに埋め込まれたコンピュータ上での実時間修正に有利であるが、適切なメモリ及び能力を備えた埋設コンピュータ上での全有限要素シミュレーションの実行或いはオフライン・ワークステーションでの実行も同様に可能である。
レジストの厚さ、クロムの厚さ及びクロムの反射率などのマスク・ブランクの他の特性は、画像の品質に影響する。これらの特性は、平面度の測定と同じ方法で測定することができ、或いは実際に同じ設備を使用して測定することができる。
誤差が予測され、且つ、適切な修正量が計算されると、主として2つの異なる方法がそれらに適用される。パターン・データが修正され、たとえば個々のフィーチャの隅のポイントが移動されるか、或いは配置のための位置サーボ及び変調器又は強度制御のための光源などの書込みハードウェアに修正量が供給される。前者の方法は、より汎用的であり、原理的には任意の大規模な修正が得られる。また、前者の方法は、セリフ及び同様のフィーチャを含む形状修正のための唯一の可能代替である。修正量が少なく、且つ、緩やかに変化する修正の場合、解像度が干渉計の解像度であり、且つ、アドレス・グリッドの解像度を有しているのはデータの修正のみであるため、第2の方法によってより円滑な修正が得られる。第2の利点は、マスク・ブランク及び機械に固有の知識を必要とすることなく、また、書込み時に適用される修正を必要とすることなく、オフラインでデータを準備することができることである。しかしながら、パターンの密度が極めて高い場合、いずれにしても実時間でデータを準備しなければならないため、修正がパターンに適用されるにせよ、或いは書込みハードウェアに適用されるにせよ、ロジスティックスにほとんど差はない。パターンの修正は完全に柔軟であり、配置、サイズ及び形状の修正に適用することができ、修正のサイズ又は複雑性に制限はない。
処理能力の高い実時間データ経路の場合、書込み時に、他のすべての修正と共に、ビーム・サイズ効果又は解像度効果及び迷露光に修正を適用することが可能であり、且つ、有利である。典型的な実施態様では、場合によってはデータ準備における異なる工程を実行するグループに編成された、最大数百個のCPU及びASICを備えたずらりと並んだ並列プロセッサが存在している。たとえばクランピングひずみに対する緩やかに変化する修正は、作業負荷又はデータ・フローに重大な影響を及ぼすことはないが、解像度効果、ビーム・サイズ効果及びストレイ効果の修正には、莫大な量の余剰データの生成が伴うため、そのデータ・フローに整合する処理能力が必要である。しかしながら、正にそのために実時間修正という大きな利点がある。このデータの量は、オフライン修正で処理することは困難である。また、修正データを全書込み容量でマスク・ライタに供給するためには同様に強力なコンピュータが必要であるため、マスク・ライタが本質的に1日に24時間稼動している商用マスク・ショップの場合、修正をオフラインで実施する費用便益は存在しない。
情報システムは、マスク・ブランク・メーカから最終製品のユーザに至る連鎖におけるリソグラフィ誤差を管理するように構築されている。情報システムの中枢はマスク・メーカであり、ジョブを計画している間、誤差を予測し、且つ、予測した誤差を事前補償するためのあらゆる情報が収集され、使用される。
必要な修正を見出すことは、系統的な位置決め誤差を伴うことなく特定のレチクルを印刷することになるマスク・ショップの責任である。顧客即ちマスク・ユーザは、1つ又は複数のパターン・ファイル及びあらゆる特殊処理、度量衡学等を要求した他の書類を提供する。本発明の好ましい実施例では、マスクを使用することになる露光ステーションが注文書に明記され、また、任意選択でプロセス誤差の記述が注文書に明記される。ジョブを計画している間及びマスク・メーカのコンピュータをセット・アップしている間、マスク・ユーザからのデータがアクセスされる。データには、既知の不完全性及び画像ひずみと共に露光ステーションの幾何構造が明記されている。また、機械ファイルには、任意選択で、露光工程で生成されるサイズ誤差のマップが含まれている。プロセス・ファイルが注文書に明記されている場合、そのプロセス・ファイルには、後続する処理によって生じるワークピースの湾曲が明記され、また、任意選択で、プロセスによってもたらされるサイズ誤差が明記されている。たとえばプラズマ・エッチング工程は、「ローディング」即ちプラズマに露出されるパターン領域の局部密度に敏感であり、チップの縁に沿って別様にエッチングされる。これは、多かれ少なかれすべての設計で繰り返される系統的な挙動であるため、前記マスクに関する情報を使用してマスク内で部分的に修正することができる。
データ・ファイル・フォーマットは、キーワードを使用してデータ・ファイルにタグを振ることによって拡張することができるように設計されている。新しいキーワードを定義した後に新しいフィーチャを包含することができ、尚且つ古いデータ・ファイルを両立させることができる。単純にするために、好ましい実施例では、データ・ファイルはASCII文字ファイルである。このASCII文字ファイルによってデバッギングが単純になり、また、任意のテキスト・エディタ又はスプレッドシート・プログラムを使用してファイルを修正し、或いは作成することができる。ファイルは、うかつなファイル変更の危険を回避するためにチェックサムによってロックされており、また、ディジタル署名によって検証される。機械作成ファイルの場合、これらのチェックサム及びディジタル署名は自動的に作成されるが、人手による編集ファイルの場合、専用の検証プログラムを使用してチェックサム及びディジタル署名を追加しなければならない。専用の検証プログラムを使用することにより、機密保護及び柔軟性に富んだエンジニアリング並びにデバッギングの間に合理的なトレードオフが提供される。暗号化を使用する場合、市販の任意の暗号化プログラムを使用することができる。
次に、本発明の一実施例によるひずみ制御を備えた大型ディスプレイを製造するためのシステムについて、より詳細に説明する。
フォトマスクの場合、CDの一様性は場合によっては重要な仕様である。最終結果は、場合によってはパターン・ジェネレータ設備の一様性と処理設備の一様性の組合せになる。
SLMライタは、プログラム可能マスクを備えたDUVステッパとして動作させることができる。したがって、一連の二次元投影SLMスタンプとして画像全体を生成することができ、個々のSLMスタンプは、継続期間が短い個別のレーザ・フラッシュを使用して印刷することができる。SLMスタンプに対する系統的CD誤差を実質的に小さくする、パスとパスの間にオフセットを含んだ多重パス印刷を使用することができる。
Claims (9)
- ワークピース上にパターンを印刷する際のプロセスの変化を補償する方法であって、
前記ワークピース上に印刷された前記パターン内の二次元CDプロファイルを決定するステップと、
前記二次元CDプロファイル内の変動を等化するための二次元補償ファイルを作成するステップと、
前記二次元補償ファイルでワークピースをパターニングするステップと
を含む方法。 - 前記決定ステップが前記二次元CDプロファイルを予測するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記決定ステップが前記二次元CDプロファイルを測定するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記二次元補償ファイルにパターン・データが含まれている、請求項1に記載の方法。
- 前記二次元補償ファイルに線量補償データが含まれている、請求項1に記載の方法。
- 前記二次元補償ファイルが修正マップである、請求項1に記載の方法。
- 前記二次元補償ファイルが二次元線量補償プロファイルである、請求項1に記載の方法。
- ワークピース上にパターンを印刷する際のプロセスの変化を補償する方法であって、
前記ワークピース上に印刷された前記パターン内の二次元CDプロファイルを決定するステップと、
前記二次元CDプロファイル内の変動を等化するための二次元線量補償プロファイルを作成するステップと、
前記二次元線量補償プロファイルでワークピースをパターニングするステップとを含む方法。 - ワークピース上にパターンを印刷する際のプロセスの変化を補償する方法であって、
前記ワークピース上に印刷される前記パターン内の二次元CDプロファイルを予測するステップと、
前記二次元CDプロファイル内の変動を等化するための二次元線量補償プロファイルを作成するステップと、
前記二次元線量補償プロファイルで前記ワークピースをパターニングするステップとを含む方法。
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