DE102007033814B4 - Vorrichtung und Verfahren zum Messen der Position von Marken auf einer Maske - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zum Messen der Position von Marken auf einer Maske Download PDFInfo
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Abstract
Vorrichtung (1) zum Messen der Position von Marken (M) auf einer Maske (2), mit
einem Maskenhalter (3) zum Halten der Maske (2),
einer Aufnahmeeinheit (7) zum Aufnehmen der Marken (M) der vom Maskenhalter (3) gehaltenen Maske (2),
einem Stellmodul (12) zum relativen Bewegen von Maskenhalter (3) und Aufnahmeeinheit (7) zueinander und
einem Auswertemodul (17), das die aufgrund der Schwerkraft auftretende Durchbiegung der Maske (2) im Maskenhalter (3) numerisch berechnet und auf Basis der berechneten Durchbiegung, der Aufnahmen der Aufnahmeeinheit (7) und der Relativbewegung von Maskenhalter (3) und Aufnahmeeinheit (7) die Position der Marken (M) auf der Maske (2) bestimmt,
wobei vor der Berechnung der Durchbiegung die tatsächlich vorliegende Lage der Maske (2) im Maskenhalter (3) bestimmt und bei der numerischen Berechnung berücksichtigt wird und
wobei ein erstes Meßmodul (13) vorgesehen ist, das zur Bestimmung der tatsächlich vorliegenden Lage die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter mißt.
einem Maskenhalter (3) zum Halten der Maske (2),
einer Aufnahmeeinheit (7) zum Aufnehmen der Marken (M) der vom Maskenhalter (3) gehaltenen Maske (2),
einem Stellmodul (12) zum relativen Bewegen von Maskenhalter (3) und Aufnahmeeinheit (7) zueinander und
einem Auswertemodul (17), das die aufgrund der Schwerkraft auftretende Durchbiegung der Maske (2) im Maskenhalter (3) numerisch berechnet und auf Basis der berechneten Durchbiegung, der Aufnahmen der Aufnahmeeinheit (7) und der Relativbewegung von Maskenhalter (3) und Aufnahmeeinheit (7) die Position der Marken (M) auf der Maske (2) bestimmt,
wobei vor der Berechnung der Durchbiegung die tatsächlich vorliegende Lage der Maske (2) im Maskenhalter (3) bestimmt und bei der numerischen Berechnung berücksichtigt wird und
wobei ein erstes Meßmodul (13) vorgesehen ist, das zur Bestimmung der tatsächlich vorliegenden Lage die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter mißt.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Messen der Position von Marken auf einer Maske.
- Bei einer solchen Vorrichtung besteht eine Schwierigkeit darin, daß sich die Maske aufgrund ihres Eigengewichtes, wenn sie beispielsweise auf einer 3-Punktauflage gehalten wird, durchbiegt. Bei einer Maske, die im wesentlichen quaderförmig ausgebildet ist und eine Breite von 152 mm, eine Länge von 152 mm sowie eine Höhe von 6,35 mm aufweist, führt diese Durchbiegung (je nachdem wie die drei Auflagepunkte angeordnet sind) zu einer Verschiebung des Musters auf der Maske (also des Musters, das zur Belichtung bei der Herstellung von Halbleiter verwendet wird) in z-Richtung (also senkrecht zur Maskenebene) um ca. 600–800 nm und in x-y-Richtung (also innerhalb der Maskenebene) um ca. 60–80 nm. Um diese Verschiebung des Musters zu korrigieren, wird bisher die Durchbiegung der Maske häufig mit einer Finite-Elemente-Modell-Rechnung simuliert und dann bei der Auswertung der optischen Messung berücksichtigt. Inzwischen werden Meßgenauigkeiten in x-y-Richtung von kleiner als 1 nm verlangt und es hat sich gezeigt, daß dann die erreichbare Genauigkeit nicht mehr ausreicht.
- Der Artikel „YAMAMOTO, H. et al.: Distortion management strategy for EPL reticle. In: SPIE, vol. 5037, 2003, S. 991–998.” und die
US 2004/0 268 289 A1 US 2003/0 197 841 A1 - Ausgehend hiervon ist es Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung zum Messen der Position von Marken auf einer Maske zur Verfügung zu stellen, mit der die gewünschte Meßgenauigkeit in der Maskenebene erreicht werden kann. Ferner soll ein entsprechendes Verfahren zur Messung der Position von Marken auf einer Maske bereitgestellt werden.
- Die Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung zum Messen der Position von Marken auf einer Maske, mit einem Maskenhalter zum Halten der Maske, einer Aufnahmeeinheit zum Aufnehmen der Marken der vom Maskenhalter gehaltenen Maske, einem Stellmodul zum relativen Bewegen von Maskenhalter und Aufnahmeeinheit zueinander und einem Auswertemodul, das die aufgrund der Schwerkraft auftretende Durchbiegung der Maske im Maskenhalter numerisch berechnet und auf der Basis der berechneten Durchbiegungen, der Aufnahmen der Aufnahmeeinheit und der Relativbewegung von Maskenhalter und Aufnahmeeinheit die Position der Marken auf der Maske bestimmt, wobei
vor der Berechnung der Durchbiegung die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter bestimmt und bei der numerischen Berechnung berücksichtigt wird, wobei ein erstes Meßmodul vorgesehen ist, das zur Bestimmung der tatsächlich vorliegenden Lage die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter misst. - Durch die Berücksichtigung der vorliegenden also tatsächlichen Lage der Maske im Maskenhalter kann eine ausreichende Genauigkeit bei der Berechnung der Durchbiegung erreicht werden. Es hat sich nämlich gezeigt, daß schon geringste Änderungen der Lage der Maske auf den Maskenhalter zu Änderungen der Durchbiegung führen. Es kann erfindungsgemäß sichergestellt werden, daß stets die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt wird, was zu sehr guten Meßergebnissen führt.
- Ferner können die geometrischen Abmessungen der Maske bei der numerischen Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden.
- Die Berücksichtigung der geometrischen Abmessungen der Maske führt zu einer weiteren Erhöhung der Genauigkeit bei der Berechnung der Durchbiegung der Maske.
- Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann so ausgebildet sein, daß sie zumindest eine geometrische Abmessung der Maske (z. B. im vom Maskenhalter gehaltenen Zustand) mißt. Natürlich kann die erfindungsgemäße Vorrichtung auch mehrere oder alle (notwendigen) geometrischen Abmessungen der Maske messen. Alternativ ist es möglich, daß eine, mehrere oder alle (notwendigen) geometrischen Abmessungen von einer separaten Meßvorrichtung gemessen und dann der erfindungsgemäßen Vorrichtung zugeführt werden, so daß diese die geometrischen Abmessungen bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigen kann.
- Der Maskenhalter kann bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung als 3-Punktauflage ausgebildet sein. Es ist jedoch auch jede andere Art von Maskenhalter möglich.
- Die Berechnung der Durchbiegung wird insbesondere als Finite-Elemente-Berechnung durchgeführt. Es ist jedoch auch jede andere Art der numerischen Modellierung möglich.
- Das erste Meßmodul kann zumindest die Lage einer Maskenkante relativ zum Maskenhalter messen. Eine solche Messung der Maskenkante kann relativ leicht mit der gewünschten Genauigkeit durchgeführt werden.
- Es kann natürlich auch für mehrere Maskenkanten mittels dem ersten Meßmodul die Lage relativ zum Maskenhalter gemessen werden.
- Die Maske kann im wesentlichen als Quader ausgebildet sein, wobei dann die gemessene Länge, Breite und Höhe des Quaders bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden.
- Ferner ist es möglich, daß die Vorrichtung ein zweites Meßmodul aufweist, das das Gewicht der Maske mißt und von den drei Abmessungen Länge, Breite und Höhe des Quaders zwei Abmessungen mißt und die dritte Abmessung aus den beiden gemessenen Abmessungen und dem gemessenen Gewicht berechnet. Von besonderem Vorteil ist es, wenn Länge und Breite gemessen werden. Dies kann beispielsweise mittels eines herkömmlichen Mikroskops erfolgen.
- Die Messung der geometrischen Abmessungen und/oder des Gewichts können innerhalb oder auch außerhalb der Vorrichtung zum Messen der Position von Marken auf einer Maske durchgeführt werden.
- Die Vorrichtung kann ferner ein Handhabungsmodul enthalten, das zur Bestimmung der Lage der Maske im Maskenhalter die Maske in einer vorbestimmten Lage hochgenau positioniert.
- Das Handhabungsmodul kann die Positionierung der Maske im Maskenhalter beispielsweise geregelt durchführen. Dazu können optische und/oder mechanische Messungen durchgeführt werden. Auch können mechanische Taster eingesetzt werden, um die gewünschte Position (Soll-Position) im Maskenhalter vorzugeben.
- Wenn die Maske transparent ist, ist es möglich, die Dicke der Maske optisch zu messen. Insbesondere kann die Aufnahmeeinheit zur Dickenmessung eingesetzt werden. Bevorzugt wird die Dicke an den Auflagepunkten des Maskenhalters gemessen.
- Die Aufgabe wird ferner gelöst durch ein Verfahren zum Messen der Position von Marken auf einer Maske, bei dem
- a) die Maske auf einem Maskenhalter positioniert wird,
- b) die Marken der vom Maskenhalter gehaltenen Maske aufgenommen werden und
- c) die aufgrund der Schwerkraft auftretende Durchbiegung der Maske im Maskenhalter numerisch berechnet und auf der Basis der berechneten Durchbiegung sowie Aufnahmen die Position der Marken auf der Maske bestimmt wird, wobei
- d) vor der Berechnung der Durchbiegung die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter bestimmt und bei der numerischen Berechnung berücksichtigt wird, und wobei die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter zur Bestimmung der tatsächlich vorliegenden Lage gemessen wird.
- Durch dieses Verfahren ist es möglich, hochgenau die Durchbiegung der Maske zu berechnen und damit die Positionsbestimmung mit der erforderlichen Genauigkeit innerhalb der Maskenebene durchzuführen.
- Bei dem Verfahren wird zur Durchführung der Aufnahmen der Marken bevorzugt eine Relativbewegung zwischen der Maske und der entsprechenden Aufnahmeeinheit durchgeführt. Insbesondere kann die Maske relativ zur Aufnahmeeinheit bewegt werden. Bei der Bestimmung der Position der Marken wird diese Relativbewegung berücksichtigt.
- Der Maskenhalter kann als 3-Punktauflage ausgebildet werden. Insbesondere kann in einem Normierungsschritt die genaue Lage der einzelnen Auflagen der 3-Punktauflagen relativ zu einem Referenzpunkt des Maskenhalters gemessen werden.
- Insbesondere kann die Lage der Maske (der ein Punkt des Maskenhalters selbst sein kann) im Maskenhalter gemessen werden. Diese Messung kann natürlich relativ zum Referenzpunkt durchgeführt werden.
- Zumindest die Lage einer Maskenkante kann relativ zum Maskenhalter gemessen werden. Daraus kann bei vorbekannter Geometrie der Maske die Lage der Maske im Maskenhalter abgeleitet werden.
- Ferner können die geometrischen Abmessungen der Maske bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden.
- Die geometrischen Abmessungen, die bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden, können durch Messungen ermittelt werden. Insbesondere können diese Messungen an der auf dem Maskenhalter positionierten Maske durchgeführt werden. Es ist jedoch auch möglich, die Vermessung der Maske durchzuführen, bevor sie auf dem Maskenhalter positioniert wird. Es kann beispielsweise das Gewicht der Maske gemessen werden und aus dem gemessenen Gewicht kann eine geometrische Abmessung abgeleitet werden.
- Die Maske kann beispielsweise im wesentlichen als Quader ausgebildet sein, so daß dann die gemessene Länge, Breite und Höhe des Quaders bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden.
- Ferner ist es möglich, wenn die Maske als Quader ausgebildet ist, das Gewicht der Maske und von den drei Abmessungen Länge, Breite und Höhe des Quaders zwei Abmessungen zu messen und die dritte Abmessung aus den beiden gemessenen Abmessungen und dem gemessenen Gewicht zu berechnen.
- Die Maske kann im Maskenhalter zur Bestimmung der Lage der Maske im Maskenhalter in einer vorbestimmten Lage hochgenau positioniert werden. Dies kann insbesondere geregelt durchgeführt werden.
- Es versteht sich, daß die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale nicht nur in den angegebenen Kombinationen, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung einsetzbar sind, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
- Nachfolgend wird die Erfindung beispielshalber anhand der beigefügten Zeichnungen, die auch erfindungswesentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Es zeigen:
-
1 eine schematische Ansicht der Vorrichtung zum Messen der Position von Marken auf einer Maske; -
2 eine Draufsicht auf die zu messende Maske2 , und -
3 eine schematische Ansicht zur Erläuterung der Durchbiegung der im Maskenhalter3 gehaltenen Maske2 . - Bei der in
1 gezeigten Ausführungsform umfaßt die Vorrichtung1 zum Messen der Position von Marken M auf einer Maske2 einen Maskenhalter3 zum Halten der Maske2 . - Der Maskenhalter
3 ist als 3-Punktauflage ausgebildet und weist die schematisch in1 dargestellten Auflagen4 ,5 und6 auf. - In
2 ist die Maske2 schematisch in Draufsicht dargestellt, wobei die Marken M schematisch und nicht maßstabsgetreu dargestellt sind. Die Positionen, an denen die Maske2 mit ihrer Unterseite auf den Auflagen4 –6 aufliegt, ist in2 jeweils als gestrichelte Kreislinie dargestellt. - Die Vorrichtung
1 zum Messen der Position von Marken M auf der Maske2 umfaßt eine Aufnahmeeinheit7 , von der hier schematisch ein Meßobjektiv8 und ein Detektor9 dargestellt sind. Ferner enthält die Aufnahmeeinheit7 einen Strahlteiler10 sowie eine Beleuchtungsquelle11 , so daß die Marken M mit Auflichtbeleuchtung aufgenommen werden können. - Der Maskenhalter
3 kann mittels einem Stellmodul12 relativ zum Meßobjektiv8 in einer Ebene senkrecht zur Zeichenebene bewegt werden. Mit dem Stellmodul12 kann der Maskenhalter3 und somit die Maske2 jeweils so positioniert werden, daß die Aufnahmeeinrichtung7 eine der Marken M mit hoher Vergrößerung aufnehmen kann. - Am Maskenhalter
3 ist ein erstes Meßmodul13 angebracht, mit dem die Lage und Ausrichtung der Kante14 der Maske2 relativ zu den Auflagen4 –6 gemessen werden kann. - Die Vorrichtung
1 enthält ferner ein zweites Meßmodul15 , das, wie durch den Doppelpfeil16 angedeutet ist, anstatt der Aufnahmeeinheit7 oberhalb der Maske2 positioniert werden kann. Mit dem zweiten Meßmodul15 können die Abmessungen in Draufsicht der Maske (also Länge und Breite) gemessen werden. - Die Aufnahmeeinheit
7 , das zweite Meßmodul15 , das erste Meßmodul13 sowie das Stellmodul12 sind mit einem Auswertemodul17 verbunden, das die Position der Marken M der Maske2 bestimmt. Diese Bestimmung basiert auf den Aufnahmen und der Relativbewegung zwischen Aufnahmeeinheit7 und Maske2 . Ferner wird die durch die Schwerkraft bedingte Durchbiegung der Maske, die in3 schematisch und stark übertrieben für die vordere Kante18 dargestellt ist, mittels einer Finite-Elemente-Berechnung modelliert (in3 ist die gestrichelte Linie18 die Nullfaser bei schwerelosem Zustand und ist die gestrichelte Linie19 die Nullfaser bei der durch die Schwerkraft bedingten Durchbiegung) Bei dieser Berechnung wird die mittels des ersten Meßmoduls13 gemessene Lage und Ausrichtung der Kante14 bzw. der Maske2 relativ zu den Auflagen4 ,5 und6 berücksichtigt. Damit wird die tatsächlich vorliegende Durchbiegung äußerst genau rechnerisch modelliert, was im Ergebnis zu einer sehr exakten Positionsbestimmung der Marken M auf der Maske2 führt. - Neben der Lage der Maske
2 auf den Auflagen4 –6 können ferner die geometrischen Abmessungen der Maske2 berücksichtigt werden. Die Dicke D der Maske2 kann mittels des ersten Meßmoduls13 gemessen werden. Die Länge L und Breite B (in Draufsicht) der Maske2 kann mittels dem zweiten Meßmodul15 gemessen werden, das für diese Messung in eine Position oberhalb der gehaltenen Maske2 positioniert wird. Die Berücksichtigung der gemessenen geometrischen Abmessungen der Maske2 bei der Berechnung der Durchbiegung führt zu einer höheren Genauigkeit. - Die Messung der geometrischen Abmessungen muß nicht in der Vorrichtung
1 zum Messen der Position von Marken M auf der Maske2 durchgeführt werden. Es ist möglich, daß die Maske2 vermessen wird, bevor sie in die Vorrichtung1 eingelegt wird. Jedoch muß die Messung der Lage der Maske2 relativ zu den Auflagen4 –6 in der Vorrichtung1 selbst durchgeführt werden. - Die geometrischen Abmessungen können auch so ermittelt werden, daß beispielsweise nur Länge L und Breite B optisch vermessen werden. Ferner wird die Maske
2 gewogen, so daß bei bekanntem Material die Dicke der Maske2 berechnet werden kann. - In einem Normierungsschritt können die Positionen der Auflagen
4 ,5 und6 , ohne Maske2 , hochgenau z. B. zum ersten Meßmodul13 vermessen werden. Dann können durch Messung der Lage der Maske2 im Maskenhalter3 die exakten Positionen ermittelt werden, an denen die Maske2 auf den Auflagen4 –6 aufliegt. - Anstatt die Position der Maske
2 relativ zu den Auflagen4 –6 zu messen, ist es auch möglich, die Maske2 hochgenau auf den Auflagen4 –6 zu positionieren. Dazu kann ein (nicht gezeigtes) Handhabungsmodul, das Bestandteil der Vorrichtung1 ist, die Maske stets in der gleichen Ausrichtung auf den Auflagen4 –6 positionieren. Die Positionierung kann bevorzugt geregelt durchgeführt werden. Es ist beispielsweise möglich, gleichzeitig optisch die Position zu messen. Ferner können auch mechanische Taster verwendet werden, um die gewünschte Ausrichtung auf den Auflagen4 –6 vorzugeben bzw. einzustellen.
Claims (16)
- Vorrichtung (
1 ) zum Messen der Position von Marken (M) auf einer Maske (2 ), mit einem Maskenhalter (3 ) zum Halten der Maske (2 ), einer Aufnahmeeinheit (7 ) zum Aufnehmen der Marken (M) der vom Maskenhalter (3 ) gehaltenen Maske (2 ), einem Stellmodul (12 ) zum relativen Bewegen von Maskenhalter (3 ) und Aufnahmeeinheit (7 ) zueinander und einem Auswertemodul (17 ), das die aufgrund der Schwerkraft auftretende Durchbiegung der Maske (2 ) im Maskenhalter (3 ) numerisch berechnet und auf Basis der berechneten Durchbiegung, der Aufnahmen der Aufnahmeeinheit (7 ) und der Relativbewegung von Maskenhalter (3 ) und Aufnahmeeinheit (7 ) die Position der Marken (M) auf der Maske (2 ) bestimmt, wobei vor der Berechnung der Durchbiegung die tatsächlich vorliegende Lage der Maske (2 ) im Maskenhalter (3 ) bestimmt und bei der numerischen Berechnung berücksichtigt wird und wobei ein erstes Meßmodul (13 ) vorgesehen ist, das zur Bestimmung der tatsächlich vorliegenden Lage die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter mißt. - Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der der Maskenhalter (
3 ) als 3-Punktauflage ausgebildet ist. - Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der das erste Meßmodul (
13 ) zumindest die Lage einer Maskenkante (14 ) relativ zum Maskenhalter (3 ) mißt. - Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei der die geometrischen Abmessungen der Maske (
2 ) bei der numerischen Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden. - Vorrichtung nach Anspruch 4, bei der die Maske (
2 ) als Quader ausgebildet ist und die gemessene Länge, Breite und Höhe des Quaders bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden oder bei der die Maske (2 ) als Quader ausgebildet ist und die Vorrichtung ein zweites Meßmodul (15 ) aufweist, das das Gewicht der Maske (2 ) mißt und von den drei Abmessungen Länge, Breite und Höhe des Quaders zwei Abmessungen mißt und die dritte Abmessung aus den beiden gemessenen Abmessungen und dem gemessenen Gewicht berechnet. - Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, mit einem Handhabungsmodul, das zur Bestimmung der Lage der Maske (
2 ) im Maskenhalter (3 ) die Maske (2 ) in einer vorbestimmten Lage positioniert. - Vorrichtung nach Anspruch 6, bei der das Handhabungsmodul die Positionierung der Maske (
2 ) im Maskenhalter (3 ) geregelt durchführt. - Verfahren zum Messen der Position von Marken auf einer Maske, bei dem a) die Maske auf einem Maskenhalter positioniert wird, b) die Marken der vom Maskenhalter gehaltenen Maske aufgenommen werden und c) die aufgrund der Schwerkraft auftretende Durchbiegung der Maske im Maskenhalter numerisch berechnet und auf Basis der berechneten Durchbiegung sowie der Aufnahmen die Position der Marken auf der Maske bestimmt wird, wobei d) vor der Berechnung der Durchbiegung die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter bestimmt und bei der numerischen Berechnung berücksichtigt wird und wobei die tatsächlich vorliegende Lage der Maske im Maskenhalter zur Bestimmung der tatsächlich vorliegenden Lage gemessen wird.
- Verfahren nach Anspruch 8, bei der der Maskenhalter als 3-Punktauflage ausgebildet wird.
- Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, bei dem zumindest die Lage einer Maskenkante relativ zum Maskenhalter gemessen wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, bei dem die geometrischen Abmessungen der Maske bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden.
- Verfahren nach Anspruch 11, bei dem die geometrischen Abmessungen der Maske, die bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden, durch Messungen ermittelt werden.
- Verfahren nach Anspruch 12, bei dem die Messungen der geometrischen Abmessungen der Maske an der auf dem Maskenhalter positionierten Maske durchgeführt werden.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, bei dem die Maske als Quader ausgebildet ist und die gemessene Länge, Breite und Höhe des Quaders bei der Berechnung der Durchbiegung berücksichtigt werden, oder bei dem die Maske als Quader ausgebildet ist und das Gewicht der Maske und von den drei Abmessungen Länge, Breite und Höhe des Quaders zwei Abmessungen gemessen werden und die dritte Abmessung aus den beiden gemessenen Abmessungen und dem gemessenen Gewicht berechnet wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 14, bei dem zur Bestimmung der Lage der Maske im Maskenhalter die Maske in einer vorbestimmten Lage positioniert wird.
- Verfahren nach Anspruch 15, bei dem die Positionierung der Maske im Maskenhalter geregelt durchgeführt wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US91013707P | 2007-04-04 | 2007-04-04 | |
US60/910,137 | 2007-04-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102007033814A1 DE102007033814A1 (de) | 2008-10-09 |
DE102007033814B4 true DE102007033814B4 (de) | 2014-08-28 |
Family
ID=39535477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102007033814.9A Active DE102007033814B4 (de) | 2007-04-04 | 2007-07-19 | Vorrichtung und Verfahren zum Messen der Position von Marken auf einer Maske |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100153059A1 (de) |
DE (1) | DE102007033814B4 (de) |
TW (1) | TW200907610A (de) |
WO (1) | WO2008122338A1 (de) |
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JP6310263B2 (ja) | 2014-01-30 | 2018-04-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置 |
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-
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- 2008-03-11 WO PCT/EP2008/001936 patent/WO2008122338A1/en active Application Filing
- 2008-03-11 US US12/594,373 patent/US20100153059A1/en not_active Abandoned
- 2008-03-26 TW TW097110766A patent/TW200907610A/zh unknown
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DE102007033814A1 (de) | 2008-10-09 |
WO2008122338A1 (en) | 2008-10-16 |
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R020 | Patent grant now final | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
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