JP7066747B2 - 自由形状歪み補正 - Google Patents
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Description
からの
のバリエーションとしてモデル化することができる。これは、方程式(1)及び(2)で、
として表すことができる。
ここで、
は、xの歪みの量を位置の関数として表し、
は、yの歪みの量を位置の関数として表す。
及び
の関数は、測定データに基づいて多項式係数を較正できる多項式形式をとりうる。
を計算し、それに応じてそのセクション内でピクセル化された設計を移動することにより、補正の1つの形式を離散的に適用することができる。方法500はまた、基板をセクションに分割するオプションのブロック504も含むことができる。ブロック504は、ブロック510の前のいつでも起こりうる。実例として、ブロック504は、ブロック506の前に起こるものとして示される。図6は、セクションに分割された基板600の実施形態を示す。例示のみを目的として、基板600は、9つのセクション6021、6022、6023、6024、6025、6026、6027、6028、及び6029(まとめて「セクション602」)に分割される。セクションのそれぞれはまた、測定可能な複数の特徴ロケーション点も含む。例えば、セクション6024は、8つの特徴ロケーション点を含む。
を以下によって定義される新しいロケーション
に移動することにより、補正の一形態をポリゴンの設計に適用することができる。
ここで、
は新しいロケーションであり、
及び
は設計ロケーションを表し、
はxの歪みの量を位置の関数として表し、
はyの歪みの量を位置の関数として表す。
ここで、
は所与の
位置の
の歪みであり、
はロケーション特徴/点を含むセクションを表し、
は、各セクションの多項式項の数を表し、
はセクションの数を表し、
は、以下の方程式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、及び(11)によって提供される多項式項であり、
p 1,x0 及びp 1,x1
は、測定値を近似することにより得られる
などの係数である。
ここで、
は所与の
位置の
の歪みであり、
はロケーション特徴/点を含むセクションを表し、
は、各セクションの多項式項の数を表し、
はセクションの数を表し、
は、以下の方程式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、及び(11)によって提供される多項式項であり、
p 1,y0 及びp 1,y1
は、測定値を近似することにより得られる、
、などの係数である。
)が測定される。本明細書で使用される「ずれ(separation)」は、ある層の特徴の印刷ロケーションと別の層の特徴の印刷ロケーションとの差である。測定されたずれは、後で使用するためにメモリ204に保存することができる。
が測定される。測定されたずれはメモリに保存でき、測定されたずれの逆数を使用して、補正された第3の層を再印刷及び処理することができる。ブロック812の後、方法800はブロック808に向けて処理され、別の基板上で、第1の層、補正された第2の層、及び補正された第3の層が印刷及び処理される。その後、方法800は、上述のようにブロック810及び812に進む。この実施形態では、オプションのブロック808、810、及び812は、所望の層が印刷、位置合わせ、処理、及び測定されるまで、動作する反復ループを形成する。
ここで、
は基板の中心から所与の距離
に対する基板上の新しい点を定義し、
は
とその特徴の印刷ロケーションとの差である。
ここで、
はrとその特徴の印刷ロケーションとの差であり、
は座標系の中心からの距離であり、
は最大の歪みである。例えば、
が100ミクロンの場合、最大の歪みは100ミクロンになりうる。
ここで、
はxの歪みの量、
はx係数のスケーリング、
は位置である。
ここで、
はyの歪みの量、
はy係数のスケーリングであり、
は位置である。
ここで、
は所与の
位置の
の歪みであり、
は多項式の項の指数を表し、
は多項式の項の数を表し、
は、方程式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、及び(11)によって提供される多項式の項である。
ここで、
は所与の
位置の
の歪みであり、
は多項式の項の指数を表し、
は多項式の項の数を表し、
は、方程式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、及び(11)によって提供される多項式の項である。
、並びに
及び
を決定するために、較正アルゴリズムを適用することができる。本明細書で開示される文書に従って使用することができる較正アルゴリズムの例は、コレスキーアルゴリズム(「コレスキー分解」としても知られている)である。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
(態様1)
基板の上に第1の層を印刷及び処理することと、
前記第1の層の上の実際の特徴ロケーションを測定することと、
前記第1の層の前記実際の特徴ロケーションと設計された特徴ロケーションから少なくとも1つの歪みモデルを作成することと、
前記少なくとも1つの歪みモデルを反転して、少なくとも1つの補正モデルを作成することと、
前記少なくとも1つの補正モデルを使用して、第2の層を印刷及び処理することと
を含む方法。
(態様2)
前記少なくとも1つの歪みモデルが多項式形式で表される、態様1に記載の方法。
(態様3)
前記少なくとも1つの歪みモデルが、前記実際の特徴ロケーションと前記設計された特徴ロケーションとの差に応じて選択される、態様1に記載の方法。
(態様4)
前記印刷することと、
前記測定することと、
前記作成することと、
前記反転することと
を、最後から2番目の層が印刷及び処理されるまで繰り返すこと、及び、
前記最後から2番目の層の上の実際の特徴ロケーションと前記最後から2番目の層の設計された特徴ロケーションから作成された前記少なくとも1つの補正モデルを使用して、最後の層を印刷及び処理すること
を更に含む、態様1に記載の方法。
(態様5)
測定前に前記基板をセクションに分割すること
を更に含み、
前記セクションの各々が、前記実際の特徴ロケーション中の少なくとも1つの実際の特徴ロケーションを含む、態様1に記載の方法。
(態様6)
前記少なくとも1つの歪みモデルが複数の歪みモデルであり、前記複数の歪みモデルの各歪みモデルが反転され、前記少なくとも1つの補正モデルを作成し、前記少なくとも1つの補正モデルの各補正モデルが組み合わされ、グローバルな補正モデルを作成する、態様5に記載の方法。
(態様7)
ローパスフィルタが、前記セクションの隣接する境界に適用される、態様5に記載の方法。
(態様8)
前記少なくとも1つの補正モデルが、複数の代表的なプロセスから測定された平均歪みに基づいている、態様1に記載の方法。
(態様9)
前記少なくとも1つの補正モデルが、前記少なくとも1つの歪みモデルの平均から作成される、態様1に記載の方法。
(態様10)
第1の基板の上に第1の層を印刷及び処理することと、
プレートのシフトと回転のために、第2の層を前記第1の層と位置合わせすることと、
前記第2の層を印刷及び処理することと、
前記第1の層と前記第2の層との間のずれを測定することと
を含む方法。
(態様11)
前記第1の層と前記第2の層との間の測定された前記ずれを使用して、前記第1の層及び補正された第2の層を再印刷することであって、前記第1の基板とは異なる第2の基板の上で行われる、前記第1の層及び補正された第2の層を再印刷することと、
プレートのシフトと回転のために、第3の層を前記第2の層と位置合わせすることと、
前記第3の層を印刷及び処理することと、
前記第3の層と前記第2の層との間のずれを測定することと
を更に含む、態様10に記載の方法。
(態様12)
前記第2の層と前記第3の層との間の測定された前記ずれを使用して、前記第1の層、前記補正された第2の層、及び補正された第3の層を再印刷することであって、前記第1の基板及び前記第2の基板とは異なる第3の基板の上で行われる、前記第1の層、前記補正された第2の層、及び補正された第3の層を再印刷すること
を更に含む、態様11に記載の方法。
(態様13)
前記第2の層が、前記第1の層の後の各々の個々の層であり、
プレートのシフト及び回転のために、各第2の層を前記第1の層と位置合わせすることと、
各第2の層を印刷及び処理することと、
各第2の層と前記第1の層との間のずれを測定することと
を含む、態様10に記載の方法。
(態様14)
基板の上に第1の層を印刷及び処理することと、
プレートのシフトと回転のために、第2の層を前記第1の層と位置合わせすることと、
前記基板の上に前記第2の層を印刷及び処理することと、
前記第1の層と前記第2の層との間のずれを測定することと、
プレートのシフトと回転のために、第3の層を前記第1の層と位置合わせすることと、
前記基板の上に前記第3の層を印刷及び処理することと、
前記第3の層と前記第1の層との間のずれを測定することと
を含む方法。
(態様15)
前記第1の層と前記第3の層との間に少なくとも1つの中間層を更に含み、
前記少なくとも1つの中間層の各層それぞれが、
プレートのシフトと回転のために、前記第1の層と位置合わせされ、
前記基板の上に印刷及び処理され、
前記第1の層とのずれについて測定される、態様14に記載の方法。
Claims (11)
- 基板の上に複数のセクションで第1の層を印刷及び処理することと、
前記第1の層の上の、設計された特徴ロケーションに対応する実際の特徴ロケーションを測定することと、
前記第1の層の各セクションの前記実際の特徴ロケーション、及び前記第1の層の前記設計された特徴ロケーションから、少なくとも1つの歪みモデルを作成することと、
前記少なくとも1つの歪みモデルを反転させて、該歪みモデルに対する少なくとも1つの非線形補正を含む少なくとも1つの補正モデルを作成することと、
前記少なくとも1つの補正モデルを使用して、前記第1の層の上部に第2の層を印刷及び処理することと
を含む方法。 - 前記少なくとも1つの歪みモデルが多項式形式で表される、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの歪みモデルが、前記実際の特徴ロケーションと前記設計された特徴ロケーションとの差に応じて選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記印刷することと、
前記測定することと、
前記少なくとも一つの歪みモデルを作成することと、
前記反転させることと
を、最後から2番目の層が印刷及び処理されるまで繰り返すこと、及び、
前記最後から2番目の層の上の実際の特徴ロケーションと前記最後から2番目の層の設計された特徴ロケーションから作成された前記少なくとも1つの補正モデルを使用して、最後の層を印刷及び処理すること
を更に含む、請求項1に記載の方法。 - 測定前に前記基板をセクションに分割すること
を更に含み、
前記セクションの各々が、前記実際の特徴ロケーション中の少なくとも1つの実際の特徴ロケーションを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記少なくとも1つの歪みモデルが複数の歪みモデルであり、前記複数の歪みモデルの各歪みモデルを反転させて、前記少なくとも1つの補正モデルを作成し、前記少なくとも1つの補正モデルの各補正モデルを組み合わせてグローバルな補正モデルを作成する、請求項5に記載の方法。
- ローパスフィルタが、前記セクションの隣接する境界に適用される、請求項5に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの補正モデルが、複数の代表的なプロセスから測定された平均歪みに基づいている、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの補正モデルが、前記少なくとも1つの歪みモデルの平均から作成される、請求項1に記載の方法。
- 第1の基板の上に、第1の層を印刷及び処理することと、
プレートのシフトと回転のために、第2の層を前記第1の層と位置合わせすることと、
前記第2の層を印刷及び処理することと、
前記第1の層と前記第2の層との間のずれを測定することと
を含む方法であって、
前記第1の層と前記第2の層との間の測定された前記ずれを使用して、前記第1の基板とは異なる第2の基板の上で前記第1の層及び補正された第2の層を再印刷することと、
プレートのシフトと回転のために、第3の層を前記第2の層と位置合わせすることと、
前記第3の層を印刷及び処理することと、
前記第3の層と前記第2の層との間のずれを測定することと、
前記第2の層と前記第3の層との間の測定された前記ずれを使用して、前記第1の基板及び前記第2の基板とは異なる第3の基板の上で、前記第1の層、前記補正された第2の層、及び補正された第3の層を再印刷することを更に含む、方法。 - 前記第2の層が、前記第1の層の後の各個別の層であり、
プレートのシフト及び回転のために、各第2の層を前記第1の層と位置合わせすることと、
各第2の層を印刷及び処理することと、
各第2の層と前記第1の層との間のずれを測定することと
をさらに含む、請求項10に記載の方法。
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