JP2007530597A5 - - Google Patents

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  1. キシリトールを製造する方法であって:
    a.ウロン酸化合物を脱炭酸して、キシリトール中間体を製造する工程と;
    b.該キシリトール中間体を水素化して、キシリトールを製造する工程と
    を含む方法。
  2. 前記ウロン酸がフラノース環またはピラノース環を含む、請求項1に記載の方法。
  3. キシリトールを製造する方法であって:
    a.D−グルクロン酸をL−グロン酸に還元する工程と;
    b.L−グロン酸の塩を脱炭酸してL−キシロースを製造する工程と;
    c.このL−キシロースを水素化して、キシリトールを製造する工程と
    を含む方法。
  4. 更に、L−グロン酸の脱炭酸を、銅を含有する試薬を用いて行う、請求項3に記載の方法。
  5. 更に、残留するL−グロネートをリサイクルする工程を含む、請求項3に記載の方法。
  6. キシリトールを製造する方法であって:
    a.D−グルクロン酸化合物を加水分解する工程と;
    b.D−グルクロン酸化合物の塩を脱炭酸して、ジアルデヒドキシリトール中間体を製造する工程と;
    c.水素化触媒の存在下に該キシリトール中間体を水素化して、キシリトールを製造する工程と
    を含む方法。
  7. 更に、前記キシリトール中間体を未反応のD−グルクロン酸化合物から分離する工程を含む、請求項6に記載の方法。
  8. キシリトールを製造する方法であって:
    a.D−グルコピラノシル含有材料を準備する工程と;
    b.該D−グルコピラノシル含有材料を酸化して、D−グルクロノピラノシル部分を含んでなる第一の前駆体材料を形成する工程と;
    c.該第一の前駆体材料を加水分解して、D−グルクロン酸を含んでなる第二の前駆体材料を形成する工程と;
    d.該第二の前駆体材料を還元および水素化して、L−グロン酸を含んでなる反応体基質を形成する工程と;
    e.L−グロン酸を含んでなる該反応体基質を酸化的に脱炭酸して、キシリトール中間体を製造する工程と;
    f.該キシリトール中間体を還元および水素化して、キシリトールを製造する工程と
    を含む方法。
  9. キシリトールを製造する方法であって:
    a.D−グルコピラノシル含有材料を準備する工程と;
    b.該D−グルコピラノシル含有材料を酸化して、D−グルクロノピラノシル部分を含んでなる前駆体材料を形成する工程と;
    c.D−グルクロノピラノシル部分を含んだ前駆体材料を加水分解して、D−グルクロン酸を含んでなる反応体基質を形成する工程と;
    d.D−グルクロン酸を含んでなる該反応体基質を酸化的に脱炭酸して、キシリトール中間体を製造する工程と;
    e.該キシリトール中間体を還元および水素化して、キシリトールを製造する工程と
    を含む方法。
  10. キシリトールを製造する方法であって:
    a.環酸素位置において非置換であるD−フルクツロノフラノシル含有材料を準備する工程と;
    b.該D−フルクツロノフラノシル含有材料を酸化して、D−フルクツロノフラノシル部分を含んでなる前駆体材料を形成する工程と;
    c.D−フルクツロノフラノシル部分を含んだ該前駆体材料を加水分解する工程と;
    d.D−フルクツロノフラノシル部分を含んだ前駆体材料を酸化的に脱炭酸して、キシリトールを製造する工程と
    を含む方法。
  11. キシリトールを製造する方法であって:
    a.D−グルクロン酸化合物を電気化学的に脱炭酸して、キシリトール中間体を製造する工程と;
    b.該キシリトール中間体を触媒の存在下で水素化して、キシリトールを製造する工程と
    を含む方法。
  12. 更に、前記キシリトール中間体を未反応のD−グルクロン酸化合物から分離する工程を含む、請求項11に記載の方法。
  13. 更に、未反応のD−グルクロン酸化合物をリサイクルする工程と、該未反応のD−グルクロン酸化合物を電気化学的に脱炭酸する工程とを含む、請求項11に記載の方法。
  14. キシリトールを製造する方法であって:
    a.ウロン酸化合物を電気化学的に脱炭酸して、ジカルボニルキシリトール中間体を製造する工程と;
    b.前記ジカルボニルキシリトール中間体を触媒の存在下で水素化して、キシリトールおよびD−アラビニトールの混合物を製造する工程と
    を含む方法。
  15. 更に、前記キシリトール中間体を未反応のウロン酸化合物から分離する工程を含む、請求項14に記載の方法。
  16. 更に、残留する前記ウロン酸化合物をリサイクルする工程を含む、請求項15に記載の方法。
  17. キシリトールを製造する方法であって:
    a.L−グロン酸の塩を電気化学的に脱炭酸して、L−キシロースを製造する工程と;
    b.該L−キシロースを触媒の存在下で水素化して、キシリトールを製造する工程と
    を含む方法。
  18. 更に、前記L−キシロースを未反応のL−グロン酸塩から分離する工程を含む、請求項17に記載の方法。
  19. 更に、何れかの未反応のL−グロン酸塩をリサイクルする工程を含む、請求項17に記載の方法。
  20. 前記ウロン酸塩が、水、メタノール、エタノール、ジオキサン、およびアセトニトリルからなる群から選択される水混和性溶媒の中に溶解される、請求項1に記載の方法。
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