JP2007524989A - 自己組織化単分子層を含む電子デバイスおよびこれを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 電子デバイスは、ソース領域およびドレイン領域と、ソース領域およびドレイン領域に隣接して配置され、少なくとも1つの共役分子を含む自己組織化単分子層と、自己組織化単分子層に隣接した導電性基板と、を含む。
【選択図】 図7
Description
図1は、分子層10を示し、図2〜4は、自己組織化単分子層に隣接して配置された導電性基板を有しないデバイス150、160、170を示す。
分子層における分子は、導電性(例えば金属)基板の表面の上にまたはこれに近接して付着させる(例えば化学的に結合させるかまたは吸収させる)。基板は、テンプレートであり、この上に分子層を組織化して整然とした構造を形成する。更に、基板(例えば近接金属表面)は、π系の電気的特性を改善し、ゲート電界による優れた導電および変調に役立つようにバンドを変更するという証拠がある。
SAMのπ系は、化学基またはバッファ層を用いて、基板から電気的に絶縁することができる。例えば、移動のバリアを形成するために、チオール基が知られている(M. A. Reed等、「Conductanceof a Molecular Junction」、Science278,252(1997年)、M. Diventra等、「First-Principles Calculation of Transport Properties of a MolecularDevice」、Phys.Rev.Lett.84,979(2000年))。かかるバリアは、π電子を更に閉じ込め、基板(例えば金(金属)基板)から導電チャネルを分離するのに役立てることができる。この閉じ込めは、短チャネル挙動を軽減させ、コンタクト・バリアを介した電荷注入を改善するように作用することができる。
図7〜12は、本発明によるSAMFETの例を示す。例えば、これらの図に示すように、SAMFETは、分子π層(例えばSAM層)の上面または側面に接触するソース電極およびドレイン電極(例えば金属コンタクト)を含むことができる。構造のゲート制御を向上させるように、分子π層(例えばSAM膜)のほとんどを、ゲート電界にさらさなければならない(例えばゲート電極に近接させる)。
上述の構造(例えば図7〜12に示したような)では、誘電体層によってソースおよびドレイン領域からゲート電極を分離することができる。更に、SAM層によって配置された面に対して垂直に電界を印加することができる。例えば、誘電体層は、酸化シリコン、金属酸化物、有機膜、または他の誘電体層材料から成るものとすることができる。ゲートの幾何学的形状は、分子層において有効な伝導の変調が行われるように選択しなければならない。
図16に示すように、本発明は、自己組織化単分子層(SAMFET)を含む電子デバイス(例えば電界効果トランジスタ)を製造する発明の方法1100も含む。本発明の方法1100は、ソース領域およびドレイン領域を形成するステップ(1110)と、ソース領域およびドレイン領域に隣接して、少なくとも1つの共役分子を含む自己組織化単分子層を形成するステップ(1120)と、自己組織化単分子層に隣接して導電性基板を形成するステップ(1130)と、を含む。
Claims (25)
- 電子デバイスであって、
ソース領域およびドレイン領域と、
前記ソース領域および前記ドレイン領域に隣接して配置され、少なくとも1つの共役分子を含む自己組織化単分子層と、
前記自己組織化単分子層に隣接した導電性基板と、
を含む、電子デバイス。 - 前記導電性基板が金属基板を含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記自己組織化単分子層がチャネル層を含み、
前記自己組織化単分子層内に注入されたキャリアが、前記自己組織化単分子層によって配される面に沿って伝搬する、請求項1に記載の電子デバイス。 - 前記自己組織化単分子層が官能基を更に含み、前記官能基が、前記基板上で前記自己組織化単分子層の分子を整然と組織化するのに役立つ、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記自己組織化単分子層に隣接したゲート電極を更に含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記ゲート電極が前記基板と同じ層を含み、前記基板が、前記自己組織化単分子層を組織化し、前記自己組織化単分子層の静電機能を制御する、請求項5に記載の電子デバイス。
- 前記ゲート電極および前記基板の少なくとも一方が前記自己組織化単分子層から電気的に絶縁されている、請求項6に記載の電子デバイス。
- 前記少なくとも1つの共役分子が、前記自己組織化単分子層の分子間のπ重複を増大させるように選択された複数の分子を含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記複数の分子が整列され1つに集められて2次元の膜を形成する、請求項8に記載の電子デバイス。
- 前記自己組織化単分子層が、前記自己組織化単分子層のπ電子系と隣接する導電層との間の導通を低減させるための官能基を更に含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記自己組織化単分子層が、前記ソースおよびドレイン領域による前記自己組織化単分子層に対する電気的接触を与える官能基を更に含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記自己組織化単分子層が、絶縁体との界面において電流変調および電荷移動を担うアクィブ層を含む、請求項11に記載の電子デバイス。
- 前記自己組織化単分子層が、前記基板に付着するための第1の官能基を更に含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記自己組織化単分子層が、前記自己組織化単分子層と隣接する層との間の電気的絶縁を増大させる第2の官能基を更に含む、請求項13に記載の電子デバイス。
- 前記第1および第2の官能基が、ホスフィン酸化物、亜リン酸塩、リン酸塩、フォスファゼン、アジド、ヒドラジン、スルホン酸、硫化物、二硫化物、アルデヒド、ケトン、シラン、ゲルマン、アルシン、ニトリル、イソシアニド、イソシアン酸塩、チオシアン酸塩、イソチオシアン酸塩、アミド、アルコール、セレノール、ニトロ、ボロン酸、エーテル、チオエーテル、カルバミン酸塩、チオカルバミン酸、ジチオカルバミン酸、ジチオカルボン酸塩、キサントゲン酸塩、チオキサントゲン酸塩、アルキルチオリン酸塩、ジアルキルジチオリン酸塩、ホスホン酸、ヒドロキサム酸、およびこれらの基のいずれかの組み合わせの少なくとも1つを含む、請求項14に記載の電子デバイス。
- 前記電子デバイスが電界効果トランジスタを含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記ソースおよびドレイン領域の各々が金属コンタクトを含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記ソースおよびドレイン領域が前記自己組織化単分子層の上面上に配置されている、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記導電性基板が前記自己組織化単分子層の上面上に配置されている、請求項18に記載の電子デバイス。
- 前記ソースおよびドレイン領域が各々、前記自己組織化単分子層の側面上に配置されている、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記導電性基板が前記自己組織化単分子層の上面上に配置されている、請求項20に記載の電子デバイス。
- 前記ソースおよびドレイン領域の一方が前記自己組織化単分子層の側面上に配置され、前記ソースおよびドレイン領域の他方が前記自己組織化単分子層の上面上に配置されている、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記ソースおよびドレイン領域の一方が前記自己組織化単分子層の下面および側面上に配置され、前記ソースおよびドレイン領域の他方が前記自己組織化単分子層の上面および側面上に配置されている、請求項1に記載の電子デバイス。
- 前記少なくとも1つの共役分子が、オリゴフェニルアセチレン、ポリアセン、オリゴチオフェン、フェニレン、フェニレンビニレン、ポルフィリン誘導体、またはこれらのいずれかの組み合わせを含む、請求項1に記載の電子デバイス。
- 電子デバイスを製造する方法であって、
ソース領域およびドレイン領域を形成するステップと、
前記ソース領域および前記ドレイン領域に隣接して、少なくとも1つの共役分子を含む自己組織化単分子層を形成するステップと、
前記自己組織化単分子層に隣接して導電性基板を形成するステップと、
を含む、方法。
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---|---|---|---|
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8890234B2 (en) | 2012-09-05 | 2014-11-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
US8896052B2 (en) | 2012-09-05 | 2014-11-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device and method of manufacturing the same |
US9231114B2 (en) | 2013-02-21 | 2016-01-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
JP2018505968A (ja) * | 2015-01-20 | 2018-03-01 | ビーエーエスエフ コーティングス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングBASF Coatings GmbH | 可撓性有機−無機積層品の製造方法 |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2839505B1 (fr) * | 2002-05-07 | 2005-07-15 | Univ Claude Bernard Lyon | Procede pour modifier les proprietes d'une couche mince et substrat faisant application du procede |
US6913649B2 (en) * | 2003-06-23 | 2005-07-05 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | System and method for forming single-crystal domains using crystal seeds |
US7119356B2 (en) * | 2003-07-18 | 2006-10-10 | Lucent Technologies Inc. | Forming closely spaced electrodes |
US7510942B2 (en) * | 2003-11-25 | 2009-03-31 | Arizona Board Of Regents, Acting For And On Behalf Of Arizona State University | Molecular modifications of metal/dielectric interfaces |
DE102004022603A1 (de) * | 2004-05-07 | 2005-12-15 | Infineon Technologies Ag | Ultradünne Dielektrika und deren Anwendung in organischen Feldeffekt-Transistoren |
US8703113B2 (en) * | 2004-07-08 | 2014-04-22 | Reva Medical Inc. | Side-chain crystallizable polymers for medical applications |
KR101102152B1 (ko) * | 2005-06-28 | 2012-01-02 | 삼성전자주식회사 | 유기박막 트랜지스터의 제조방법 및 그에 의해 제조된유기박막 트랜지스터 |
KR100708720B1 (ko) * | 2005-10-19 | 2007-04-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 박막 트랜지스터, 이의 제조 방법 및 이를 구비한평판 표시 장치 |
US20070176629A1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-08-02 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Molecular electronic device having organic conducting electrode as protective layer |
KR100711804B1 (ko) * | 2005-12-22 | 2007-04-30 | 주식회사 포스코 | 단전자 트랜지스터의 제조 방법 |
US7615779B2 (en) * | 2006-03-23 | 2009-11-10 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | Forming electrodes to small electronic devices having self-assembled organic layers |
US7759677B2 (en) | 2006-09-05 | 2010-07-20 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Molecular electronic device including organic dielectric thin film and method of fabricating the same |
KR101151159B1 (ko) * | 2006-09-19 | 2012-06-01 | 삼성전자주식회사 | 포스페이트계 자기조립단분자막을 포함하는 유기 박막트랜지스터 및 그 제조방법 |
KR100836759B1 (ko) * | 2006-10-04 | 2008-06-10 | 삼성전자주식회사 | 유기 메모리 소자 및 그 형성 방법 |
KR100809430B1 (ko) * | 2006-10-24 | 2008-03-07 | 한국전자통신연구원 | 비대칭 디설파이드 정착기를 가지는 분자 전자소자용화합물 및 그 제조 방법과 그 화합물로부터 얻어지는 분자활성층을 가지는 분자 전자소자 |
KR100833516B1 (ko) | 2006-11-16 | 2008-05-29 | 한국전자통신연구원 | 전도성 고분자 전극층을 포함하는 전극을 구비한 분자 전자소자 |
JP5111949B2 (ja) * | 2007-06-18 | 2013-01-09 | 株式会社日立製作所 | 薄膜トランジスタの製造方法及び薄膜トランジスタ装置 |
KR101004734B1 (ko) * | 2008-07-29 | 2011-01-04 | 한국전자통신연구원 | 표면 에너지 제어를 이용한 유기 박막 트랜지스터 제조방법 |
GB0819274D0 (en) * | 2008-10-21 | 2008-11-26 | Plastic Logic Ltd | Method and apparatus for the formation of an electronic device |
WO2010068619A1 (en) | 2008-12-08 | 2010-06-17 | The Trustees Of The University Of Pennsylvania | Organic semiconductors capable of ambipolar transport |
EP2278636A1 (en) * | 2009-07-21 | 2011-01-26 | Sony Corporation | Uses of dithiocarbamate compounds |
US8647535B2 (en) | 2011-01-07 | 2014-02-11 | International Business Machines Corporation | Conductive metal and diffusion barrier seed compositions, and methods of use in semiconductor and interlevel dielectric substrates |
US9419097B2 (en) * | 2014-11-24 | 2016-08-16 | International Business Machines Corporation | Replacement metal gate dielectric cap |
US9574107B2 (en) | 2015-02-16 | 2017-02-21 | International Business Machines Corporation | Fluoro-alcohol additives for orientation control of block copolymers |
KR102038124B1 (ko) | 2016-06-27 | 2019-10-29 | 숭실대학교산학협력단 | 유기 반도체 소자의 제조 방법 |
US10991894B2 (en) | 2015-03-19 | 2021-04-27 | Foundation Of Soongsil University-Industry Cooperation | Compound of organic semiconductor and organic semiconductor device using the same |
KR102455433B1 (ko) | 2015-07-03 | 2022-10-17 | 삼성전자주식회사 | 수직 정렬된 2차원 물질을 포함하는 소자 및 수직 정렬된 2차원 물질의 형성방법 |
DE102018203848A1 (de) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | Robert Bosch Gmbh | Ligand, SAMFET, Verfahren zu dessen Herstellung und Sensor |
US11445616B2 (en) * | 2018-04-16 | 2022-09-13 | Intel Corporation | Interfacial layer for high resolution lithography (HRL) and high speed input/output (IO or I/O) architectures |
WO2020046746A1 (en) * | 2018-08-27 | 2020-03-05 | Versum Materials Us, Llc | Selective deposition on silicon containing surfaces |
CN111208125B (zh) * | 2020-01-21 | 2022-02-22 | 陕西师范大学 | 一种双模式传感器阵列及其区分识别肼和有机胺的应用 |
US20220045274A1 (en) * | 2020-08-06 | 2022-02-10 | Facebook Technologies Llc | Ofets having organic semiconductor layer with high carrier mobility and in situ isolation |
CN112379238B (zh) * | 2020-10-14 | 2023-07-28 | 安徽科技学院 | 一种tfet器件研究用模拟系统 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0227766A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機デバイスおよびその製造方法 |
JP2002309013A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 導電性有機薄膜とその製造方法、それを用いた電子デバイス、電気ケーブル、電極、ピロリル化合物及びチェニル化合物 |
WO2002086913A1 (fr) * | 2001-04-17 | 2002-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Film mince organique conducteur et son procede de production, electrode et cable electrique utilisant ce film |
JP2003031816A (ja) * | 2001-05-17 | 2003-01-31 | Lucent Technol Inc | 装置、有機トランジスタ及び能動有機デバイス |
JP2003092411A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-03-28 | Lucent Technol Inc | 有機半導体デバイス、有機電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0339677B1 (en) * | 1988-04-28 | 1992-11-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Process for producing polyacetylene or polyacene type super long conjugated polymers |
WO1993010564A1 (en) | 1991-11-22 | 1993-05-27 | The Regents Of The University Of California | Semiconductor nanocrystals covalently bound to solid inorganic surfaces using self-assembled monolayers |
US5677545A (en) | 1994-09-12 | 1997-10-14 | Motorola | Organic light emitting diodes with molecular alignment and method of fabrication |
KR100399283B1 (ko) * | 2001-05-02 | 2003-09-26 | 권영수 | 고성능 유기 박막 트랜지스트의 소자 구조 및 그 제조방법. |
WO2003007399A2 (en) * | 2001-07-09 | 2003-01-23 | Plastic Logic Limited | Low melting point polymer alignment |
US6734038B2 (en) * | 2001-09-04 | 2004-05-11 | The Trustees Of Princeton University | Method of manufacturing high-mobility organic thin films using organic vapor phase deposition |
US6674121B2 (en) * | 2001-12-14 | 2004-01-06 | The Regents Of The University Of California | Method and system for molecular charge storage field effect transistor |
US6949762B2 (en) * | 2002-01-11 | 2005-09-27 | Xerox Corporation | Polythiophenes and devices thereof |
US6646285B1 (en) * | 2002-04-05 | 2003-11-11 | International Business Machines Corporation | Molecular electronic device using metal-metal bonded complexes |
US7285440B2 (en) * | 2002-11-25 | 2007-10-23 | International Business Machines Corporation | Organic underlayers that improve the performance of organic semiconductors |
US6791338B1 (en) * | 2003-01-31 | 2004-09-14 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Gated nanoscale switch having channel of molecular wires |
-
2003
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-
2005
- 2005-09-13 IL IL170838A patent/IL170838A/en active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0227766A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機デバイスおよびその製造方法 |
JP2002309013A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 導電性有機薄膜とその製造方法、それを用いた電子デバイス、電気ケーブル、電極、ピロリル化合物及びチェニル化合物 |
WO2002086913A1 (fr) * | 2001-04-17 | 2002-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Film mince organique conducteur et son procede de production, electrode et cable electrique utilisant ce film |
JP2003031816A (ja) * | 2001-05-17 | 2003-01-31 | Lucent Technol Inc | 装置、有機トランジスタ及び能動有機デバイス |
JP2003092411A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-03-28 | Lucent Technol Inc | 有機半導体デバイス、有機電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8890234B2 (en) | 2012-09-05 | 2014-11-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
US8896052B2 (en) | 2012-09-05 | 2014-11-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device and method of manufacturing the same |
US9356111B2 (en) | 2012-09-05 | 2016-05-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device and method of manufacturing the same |
US9536898B2 (en) | 2012-09-05 | 2017-01-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
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