JP2007505213A - 電気絶縁構造体を電解処理するための装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
2 電解槽上部
3 電解槽下部
4 対向電極、陽極
5 対向電極ホルダ、陽極ホルダ
6 接触電極、接触ローラ
7 シールローラ
8 補助シールローラ
9 シール壁
10 モジュール壁、槽壁
11 電解液供給ライン
12 収集タンク
13 イオン透過性絶縁部
14 接触ブラシ
15 浴表面レベル
16 シールローラ軸受
17 電解液吐き出しライン
18 偏向ローラ
19 上部陽極ホルダ用の軸受表面
20 カバーキャップ
21 隔壁部材
22 ピンチローラ
23 シールリップ
24 内部隔壁
25 駆動ローラ
M、M1〜M5 処理モジュール
M1 処理モジュール
M2 処理モジュール
M3 処理モジュール
M4 処理モジュール
M5 処理モジュール
Claims (34)
- ワークピース(1)の表面上の互いに電気絶縁された導電性構造体を、前記ワークピース(1)を搬送経路においてかつそれにより前記構造体が電解処理される移送方向に連続的に搬送することを含む方法を用いることによって、電解処理するための装置であって、前記装置が、
a)前記ワークピース(1)と接触するための少なくとも1つの電極(6、14)と、少なくとも1つの電解領域であって、そのそれぞれ1つにおいて、少なくとも1つの対向電極(4)および前記ワークピース(1)が処理液に接触する電解領域と、を含む少なくとも1つの配列を含み含み、
b)前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が、前記少なくとも1つの電解領域の外に配置され、前記処理液と接触しないことと、
c)前記少なくとも1つの接触電極(6、14)および前記少なくとも1つの電解領域が、共に非常に接近して離間配置されているので、小さな導電性構造体を電解処理することができることと、
を特徴とする装置。 - 5cmの導電性構造体を電解処理できることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 少なくとも2つの接触電極(6、14)が設けられ、それらのうちの少なくとも1つが、前記電解領域の一側に配置され、前記少なくとも他の1つが、前記電解領域の他側に配置されることを特徴とする、請求項1および2のいずれか一項に記載の装置。
- 前記電解領域が非常に短いので、前記導電性構造体が、前記接触電極(6、14)のうちの1つと絶えず電気接触することを特徴とする、請求項3に記載の装置。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置であって、前記装置が、前記処理液および前記少なくとも1つの対向電極(4)を含む少なくとも1つの処理モジュール(M、M1、M2、M3、M4、M5、M6)をさらに含み、それを通って、前記ワークピース(1)が水平移送方向に搬送され、前記少なくとも1つの処理モジュール(M、M1、M2、M3、M4、M5、M6)が、その入口および出口側にそれぞれ、前記ワークピース(1)が出入りするための少なくとも1つの通路を含み、前記モジュールおよび前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が、前記通路に沿って配置されていることを特徴とする装置。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置であって、前記装置が、前記処理液および前記少なくとも1の対向電極(4)を含む少なくとも1つのタンク(12)をさらに含むことと、前記搬送経路が、前記処理液の表面を介して前記タンク(12)に入って、前記処理液内に配置された前記少なくとも1つの対向電極(4)に至り、そこから再び前記処理液の表面を介して前記タンク(12)から出て、前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が、前記処理液の表面に沿って配置されていることと、を特徴とする装置。
- 前記搬送経路が、前記処理液の表面を介して、前記タンク(12)の中に繰り返し入り、前記液体を通り、再び表面を介して前記タンク(12)から出て、その結果、偏向手段(18)によって向きを変えられることを特徴とする、請求項6に記載の装置。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の装置であって、前記装置が、前記ワークピース(1)の通過のための通路およびシール部材(7、23)を含む隔壁部材(21)を含み、前記隔壁部材(21)が、前記少なくとも1つの接触電極(6、14)と前記処理液との間に配置され、前記シール部材(7、23)が、処理液が前記少なくとも1つの接触電極(6、14)と接触するのを防ぐことができるような方法で、配置されていることを特徴とする装置。
- 前記シール部材が、絞りローラ(7)、シールリップ(23)およびスクレーパを含む群から選択されることを特徴とする、請求項8に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が前記隔壁(24)に固定されていることを特徴とする、請求項8および9のいずれか一項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が、ローラおよびブラシ(14)を含む群から選択されることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ローラ(6)が非常に小さな直径を有し、かつ前記ローラ(6)の長手方向軸と前記少なくとも1つの電解領域との間の間隔が非常に小さいので、2cmの導電性構造体を電解処理できることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの対向電極(4)と前記ワークピース(1)との間に、非導電性のイオン透過性コーティング(13)が配置されていることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載の装置。
- 前記コーティング(13)が、前記搬送経路に非常に接近して配置されているので、前記ワークピース(1)が、前記少なくとも1つの対向電極(4)を通って案内されるときに前記コーティング(13)に接触し、かくして前記コーティング(13)がシールとして働くことを特徴とする、請求項13に記載の装置。
- 前記搬送経路が水平に傾いていることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの接触電極(6、14)を連続的または断続的にリンスすることができるリンス設備が設けられていることを特徴とする、請求項15に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの対向電極(4)および前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が、細長く、前記搬送経路とほぼ平行かつ前記移送方向に直角に向けられていることを特徴とする、請求項1〜16のいずれか一項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が陰極の極性を与えられていることを特徴とする、請求項1〜17のいずれか一項に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの対向電極(4)が不溶性陽極であることを特徴とする、請求項18に記載の装置。
- 前記陽極(4)がフラッド陽極であることを特徴とする、請求項19に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの接触電極(6、14)および前記少なくとも1つの対向電極(4)が、共通のキャリアフレーム(5)に配置されていることを特徴とする、請求項1〜20のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ワークピース(1)を格納するために、少なくとも1つの第1の格納設備および少なくとも1つの第2の格納設備をそれぞれさらに含むことを特徴とする、請求項1〜21のいずれか一項に記載の装置。
- 請求項22に記載の装置であって、前記装置を通って、前記少なくとも1つの第1の格納設備から前記少なくとも1つの第2の格納設備に、前記ワークピース(1)を搬送するための搬送部材(18、25)をさらに含むことを特徴とする装置。
- ワークピース(1)の表面上の互いに電気絶縁された導電性構造体を電解処理するための方法であって、前記方法が、
a)搬送経路においてかつ少なくとも1つの電解領域を通る移送方向に、前記ワークピース(1)を連続的に搬送し、前記領域が、少なくとも1つの対向電極(4)および処理液を含むことと、
b)前記ワークピース(1)を、前記少なくとも1つの電解領域の外の少なくとも1つの接触電極(6、14)と接触させることと、
を含み含み、
c)前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が、前記処理液との接触を防止されることと、
d)前記少なくとも1つの接触電極(6、14)と前記少なくとも1つの電解領域との間の間隔が、小さな導電性構造体を電解処理できるほどに小さくなるように調節されることと、
を特徴とする方法。 - 5cmの導電性構造体を電解処理できることを特徴とする、請求項24に記載の方法。
- 前記ワークピース(1)が、最初に接触電極(6、14)と接触し、次に電解領域を通過し、その次に接触電極(6、14)と再び接触することを特徴とする、請求項24および25のいずれか一項に記載の方法。
- 前記電解領域が非常に短く選択されるので、前記導電性構造体が、前記電解領域を通過するときに、前記接触電極(6、14)のうちの1つと絶えず電気接触することを特徴とする、請求項26に記載の方法。
- 前記ワークピース(1)が、前記処理モジュール(M、M1、M2、M3、M4、M5、M6)のそれぞれ1つに含まれる少なくとも1つの電解領域を通って水平移送方向に案内され、前記ワークピース(1)が、モジュール(M、M1、M2、M3、M4、M5、M6)に、その入口側に位置する少なくとも1つの通路を通って案内され、その出口側に位置する少なくとも1つの通路を通って前記モジュール(M、M1、M2、M3、M4、M5、M6)から外に案内され、前記ワークピース(1)が、前記モジュール(M、M1、M2、M3、M4、M5、M6)に入る前および/またはおよび/または前記モジュール(M、M1、M2、M3、M4、M5、M6)から出た後に、少なくとも1つの接触電極(6、14)によって電気接触されることを特徴とする、請求項24〜27のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ワークピース(1)が、タンク(12)に含まれる前記処理液の表面を介して、前記タンク(12)内に、および前記処理液に配置された前記少なくとも1つの対向電極(4)に案内され、そこから、前記処理液の表面を介して、前記タンク(12)から外に案内されることと、前記ワークピース(1)が、前記液体に導入される前および/またはおよび/または前記液体がから出た後に、少なくとも1つの接触電極(6、14)によって電気接触されることと、を特徴とする、請求項24〜27のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ワークピース(1)が、前記処理液の表面を介して前記タンク(12)の中に繰り返し案内され、前記液体を通り再び前記表面を介して前記タンク(12)から出て、それにより偏向手段(18)によって向きを変えられることを特徴とする、請求項29に記載の方法。
- 非導電性のイオン透過性コーティング(13)が、前記少なくとも1つの対向電極(4)と前記ワークピース(1)との間に取り付けられていることを特徴とする、請求項24〜30のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ワークピース(1)が、前記非導電性のイオン透過性コーティング(13)に沿って非常に接近して案内されるので、前記コーティングが前記ワークピース(1)に接触することを特徴とする、請求項31に記載の方法。
- 前記搬送経路が水平にに傾いていることと、前記少なくとも1つの接触電極(6、14)が、連続的にまたは断続的にリンスされることと、を特徴とする、請求項24〜32のいずれか一項に記載の方法。
- 金属が前記ワークピース(1)上に析出されることを特徴とする、請求項24〜33のいずれか一項に記載の方法。
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