DE10043814C1 - Verfahren und Vorrichtungen zum elektrochemischen Behandeln von Gut - Google Patents
Verfahren und Vorrichtungen zum elektrochemischen Behandeln von GutInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft das elektrochemische Behandeln von ebenem und mindestens an der Oberfläche elektrisch leitfähigem Gut. Anwendung findet die Erfindung in Durchlauf- und Tauchbadanlagen u. a. zur präzisen Behandlung von Strukturen mit sehr kleinen Abmessungen, wie sie in der Leiterplattentechnik vorkommen. DOLLAR A Zur Vermeidung der störenden Spitzenwirkung werden die Elektroden 4, 5 sehr dicht an die zu behandelnden Oberflächen des Gutes 1 herangebracht. Zur elektrischen Isolation dient ein dünner, elektrolytdurchlässiger Isolierwerkstoff 12, der zugleich den Anoden-/Kathodenabstand bildet. Während der elektrochemischen Behandlung findet keine transportbedingte Relativbewegung zwischen dem Gut 1 und den Elektroden 4, 5 statt. Zum Transport werden die Elektroden von der Oberfläche des Gutes vorübergehend entfernt. Die Behandlung erfolgt somit schrittweise.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und Vorrichtungen zum elektrochemischen
Behandeln von mindestens an der Oberfläche elektrisch leitfähigem Gut, vor
zugsweise zum ein- und beidseitigen Behandeln von Leiterplatten und Leiterfoli
en. Anwendung findet die Erfindung in Durchlaufanlagen und Tauchbadanlagen.
Derartige Anlagen sind unter anderem aus den nachfolgenden Druckschriften
bekannt.
Die Druckschrift DE 36 45 319 C2 beschreibt eine horizontale Durchlaufanlage
zur elektrolytischen Behandlung von plattenförmigen Gegenständen. Dieses Gut
wird von Klammern gegriffen, elektrisch kontaktiert und unter Badspiegel zwi
schen unteren und oberen Anoden kontinuierlich hindurchtransportiert. Der Elek
trolyt wird mittels Zulaufrohren, die zwischen den Anoden und dem Gut angeord
net sind, eingeleitet.
Eine weitere horizontale Durchlaufanlage beschreibt die Druckschrift DE 41 32 418 C1.
Die Leiterplatten werden mittels Kontaktrollen seitlich erfaßt, elektrisch
kontaktiert und zwischen den oberen und unteren Anoden kontinuierlich durch die
Anlage transportiert. Freilaufende Stützrollen zur Führung der durchlaufenden
Leiterplatten sind zwischen den Anoden und dem Gut angeordnet.
Die Druckschrift DE 42 29 403 C2 beschreibt eine Vorrichtung zum Galvanisieren
von an der Oberfläche elektrisch leitfähigen Kunststofffolien. Der kontinuierliche
Transport durch die Galvanisieranlage erfolgt von Rolle zu Rolle. Die Stromzufuhr
zum Gut erfolgt über schleifende Kontakteinrichtungen quer zur Transportrich
tung. Quetschwalzenpaare sorgen für den kurzschlußfreien Transport der Folie
im Anoden-/Kathodenraum.
In der Druckschrift EP 0 959 153 A2 ist eine horizontale Durchlauf-Galvanisier
anlage beschrieben, bei der Kontaktwalzen aus Metall zur elektrischen Kontaktie
rung des Gutes verwendet werden. Die Kontaktwalzen sind quer zur Transport
bahn angeordnet. Sie rollen auf der Oberfläche des Gutes ab. Zwischen weiteren
elektrisch isolierten Transportwalzen in Durchlaufrichtung sind unlösliche Anoden
angeordnet. Zur Vermeidung von elektrischen Kurzschlüssen zwischen den Ano
den und dem Gut befinden sich vor den Anoden elektrisch isolierende Gitter. Der
Elektrolyt strömt durch die Anoden in die elektrolytischen Zellen ein. Das Gut wird
kontinuierlich durch die Anlage bewegt.
Die Druckschrift EP 0 759 100 B1 beschreibt eine vertikale Durchlaufanlage.
Auch hier wird das Gut durch die mittels der Anoden gebildeten elektrolytischen
Zellen kontinuierlich hindurchbewegt. Die weiteren Merkmale sind mit den oben
beschriebenen Anlagen vergleichbar.
Die vorstehend genannten Anlagen sind geeignet zur vollflächigen elektrolyti
schen Behandlung von Gut mit hoher Stromdichte, beispielsweise mit 12 A/dm2.
Das partielle Behandeln von Oberflächen, die mittels einer elektrisch leitfähigen
und vollflächigen Grundschicht miteinander verbunden sind, kann dagegen nur
mit einer niedrigen Stromdichte, beispielsweise mit 2 A/dm2 elektrolytisch be
handelt werden. Hierzu zählt der Leiterbildaufbau auf Leiterplatten durch Galva
nisieren, d. h. das Verstärken von Leiterbahnen. Die Strukturen werden durch
einen Resist auf der vollflächigen Grundschicht negativ gebildet. Die freien Flä
chen werden bei geeigneter elektrischer Kontaktierung galvanisiert. Zur Fertig
stellung der Leiterplatten wird anschließend die Grundschicht zwischen den Lei
terzügen durch Ätzen entfernt. Voraussetzung für diesen Leiterbildaufbau ist,
dass der Resist das elektrische Kontaktieren der Grundschicht ermöglicht.
Alle diese Anlagen sind gekennzeichnet durch einen, im Vergleich zu den Ab
messungen der Strukturen der Leiterplattentechnik, sehr großen Anoden-
/Kathodenabstand. Bei den beschriebenen Durchlaufanlagen beträgt der Ano
den-/Kathodenabstand etwa 20 mm bis zu 80 mm. Elektrolytisch zu behandeln
sind nach dem derzeitigen Stand der Leiterplattentechnik Strukturen mit einer
Breite, beginnend ab 0,05 mm. In absehbarer Zeit wird sich diese Breite noch
mals halbieren. Somit beträgt das Verhältnis von Anoden-/Kathodenabstand zur
Stukturbreite 400 : 1 und mehr. Störend ist in der Praxis auch, dass dieses Ver
hältnis nicht konstant ist, wenn in den Durchlaufanlagen, wie üblich, unterschied
lich dicke Leiterplatten produziert werden. Die Dicke des Gutes beträgt typisch
0,1 mm bis 8 mm. Bei horizontalen Durchlaufanlagen verändern diese Dic
kenunterschiede an der Leiterplattenoberseite den wirksamen Anoden-
/Kathodenabstand. Aus diesem Grunde sind kleine Abstände, wie zum Beispiel
20 mm, nachteilig. So beträgt der Anoden-/Kathodenabstand an der Leiterplat
tenunterseite konstant 20 mm. An der Oberseite ändert sich dieser Abstand in
Abhängigkeit von der Leiterplattendicke bei den oben genannten Maßen von 19,9 mm
auf 12 mm. Unterschiedliche Zellspannungen und unterschiedliche Struktur
behandlungen sind die Folge. Bei großen Anoden-/Kathodenabständen werden
die relativen Abstandsunterschiede kleiner. Allerdings wird auch die Strukturbe
arbeitung ungünstiger.
Wegen des großen Anoden-/Kathodenabstandes treten in Abhängigkeit vom
Leiterbild Schichtdickenunterschiede von bis zu 20 : 1 auf. Kleine zu galvanisie
rende Flächen mit großer umgebender Isolierfläche werden, in Folge der Feld
linienkonzentration im Vergleich zu großen Galvanisierflächen, überproportional
behandelt. Dieses Verhalten wird kurz als Spitzenwirkung bezeichnet. Ein Leiter
bildaufbau ist zumindest unter Anwendung von wirtschaftlich ausreichend hohen
Stromdichten nicht möglich. Damit werden derartige Anlagen praktisch nicht zur
elektrolytischen Bearbeitung von Strukturen verwendet, sondern nur zur Vollflä
chenbearbeitung.
Aufgabe der in der Druckschrift DE 44 17 551 C2 beschriebenen Erfindung ist es,
die Spitzenwirkung weitgehend zu vermeiden. Elektrisch isolierende Distanzmittel
halten die Anoden und das Gut während des kontinuierlichen Transportes durch
die Durchlaufanlage auf Abstand. Der Abstand sollte das 30-fache der Breite
schmaler Leiterzüge nicht übersteigen. Auch bei einem derartigen Abstand ist die
Spitzenwirkung, wenn auch abgeschwächt, vorhanden. Die auf dem Gut konti
nuierlich abrollenden Anoden stellen zudem für das Gut nur eine linienförmige
Anode dar. Um bei gegebener Anlagenlänge eine ausreichende Schichtdicke
beim Galvanisieren zu erzielen, muss die Stromdichte erhöht werden. Dies ver
stärkt jedoch in nachteiliger Weise die Spitzenwirkung. Die in dieser Druckschrift
beschriebenen planen Anoden vermeiden diesen Nachteil. Allerdings sind zur
Vermeidung von Anoden-/Kathodenkurzschlüssen viele präzise Abstandshalter
erforderlich, die auf den zu bearbeitenden Oberflächen entlangschleifen. Zudem
besteht beim Durchfahren der immer scharfkantigen Leiterplatten durch die An
odenanordnungen die Gefahr der Beschädigung der aus einem Isolierstoff beste
henden und schleifenden oder abrollenden Abstandshalter.
Die Druckschrift DE 43 24 330 C2 beschreibt ein Wischverfahren. Eine Wischvor
richtung stört die Diffusionsabsicht an der Oberfläche des Gutes. Das Wischen
mittels einer Wischvorrichtung erfolgt durch eine Relativbewegung von Anode
und Kathode. Die Wischvorrichtung liegt gleitend an der Oberfläche des kontinu
ierlich durch die Anlage fahrenden Gutes an. Dabei besteht auch die Gefahr der
Beschädigung des Resistes auf der Leiterplatte. Die in der Druckschrift beschrie
benen Wischrollen mit integrierter Anodenfunktion haben wieder den Nachteil
einer nur sehr kurzen, an der Mantellinie wirksamen Anode in Transportrichtung.
Der Wischwerkstoff muss so porös sein, dass er nicht nur Ionendurchlässig,
sondern auch elektrolytdurchlässig ist. Derartige Werkstoffe sind beim Abrollen
an den scharfen Kanten der Leiterplatten verschleißanfällig. Werden, wie in der
Druckschrift vorgeschlagen, das Wischen und die Anodenfunktion getrennt, so
blenden die Wischrollen die Anoden weitgehend ab. Desweiteren ist die Länge
der Wischfläche in Transportrichtung je Wischrolle an der Mantellinie sehr kurz.
Die Anoden und die Wischvorrichtungen behindern sich gegenseitig.
Aufgabe der Erfindung ist es, in Durchlaufanlagen und in Tauchbadanlagen ein
präzises elektrolytisches Behandlen von Gut, insbesondere zum Galvanisieren
von sehr kleinen Leiterbahnstrukturen auf Leiterplatten und Leiterfolien, unter
Vermeidung der oben beschriebenen Nachteile, zu ermöglichen. Die Leiterbahn
strukturen sind mittels einer Grundschicht elektrisch miteinander verbunden.
Gelöst wird die Aufgabe durch das in Patentanspruch 1 beschriebene Verfahren
und durch die Vorrichtungen gemäß der Patentansprüche 20 und 29.
Die Erfindung eignet sich zur Durchführung aller elektrochemischen Prozesse,
das heißt zum elektrochemischen Metallisieren, Ätzen, Oxidieren und Reduzieren
unter Verwendung von Elektrolyten mit und ohne Redoxsystem. Bevorzugt kom
men im Elektrolyten unlösliche Anoden zum Einsatz. Grundsätzlich sind auch
lösliche Anoden verwendbar.
Nachfolgend wird die Erfindung zur Kürzung der Beschreibung nur noch am
Beispiel des Galvanisierens detailliert beschrieben. Die Elektroden werden dem
entsprechend mit Anode und Kathode bezeichnet. Zur weiteren Beschreibung
dienen auch die nachfolgenden, schematisch dargestellten Figuren:
Fig. 1 zeigt das Grundprinzip der elektrolytischen Zelle mit dem minimalen
Anoden-/Kathodenabstand während der elektrolytischen Behandlung.
Fig. 2 zeigt im Ausschnitt eine horizontale Durchlaufanlage zur Leiterplat
tenbehandlung mit einer Walzenkontaktierung des Gutes.
Fig. 3 zeigt im Ausschnitt eine horizontale Durchlaufanlage mit einer Strei
fenkontaktierung des Gutes.
Fig. 4a zeigt im Querschnitt einen Streifenkontakt mit einer Kontaktleiste, die
isoliert und federnd in einem elastischen Werkstoff gelagert ist.
Fig. 4b zeigt desgleichen einen Streifenkontakt, dessen Kontaktleiste in sich
aus einem elastischen und elektrisch leitfähigen Werkstoff besteht und
die mit einem elastischen, elektrisch nichtleitenden Werkstoff isoliert
ist.
Die Fig. 1 zeigt das Grundprinzip der erfindungsgemässen Zelle mit dem Gut 1
sowie mit einer oberen Anodenanordnung 2 und einer unteren Anodenanordnung
3. Die Anodenanordnungen bestehen aus den oberen und unteren Anoden 4 und
5, die vorzugsweise als unlösliche Anoden ausgeführt sind. An den aktiven Flä
chen, d. h. an der dem Gut zugewandten Fläche, sind sie mit einem Isolierwerk
stoff 12 versehen. Dieser ist ionen- und elektrolytdurchlässig. Er besteht z. B. aus
einem aufgespannten dünnen Gewebe. Die Dicke des Isolierwerkstoffes 12 ist
zugleich der wirksame Anoden-/Kathodenabstand bei der elektrolytischen Behandlung.
Eine Gewebedicke von z. B. 0,15 mm bringt den Anoden-
/Kathodenabstand in die Größenordnung der zu behandelnden Strukturen, wie
sie z. B. beim Leiterbildaufbau von Leiterplatten vorkommen. Damit werden Spit
zenwirkungen vermieden. Dies führt zu einer sehr gleichmäßigen Schichtdicken
verteilung.
In Fig. 1 ist die Situation während der elektrolytischen Behandlung des Gutes 1
dargestellt. Der Transportantrieb des Gutes 1 ist ausgeschaltet. Die oberen und
unteren Anodenanordnungen 2 und 3 berühren die elektrolytisch zu behandeln
den Oberflächen, wobei der ionendurchlässige Isolierwerkstoff 12 vor den An
oden einen elektrischen Kurzschluss bei kleinstem Anoden-/Kathodenabstand
sicher verhindert. Zwischen dem Gut 1 und den Anodenanordnungen 2 und 3
findet während der elektrolytischen Behandlung keine relative Transportbewe
gung statt. Nach einer, im allgemeinen zeitlich kurzen Behandlung öffnen sich die
Anodenanordnungen. Sie werden somit von den zu behandelnden Oberflächen
entfernt und das Gut wird einen Schritt in Pfeilrichtung 19 weiterbefördert. Nach
dem erneuten Schließen der Anodenanordnungen 2 und 3 wiederholt sich die
elektrolytische Behandlung. Durch das Öffnen und Schließen der Anodenanord
nungen in Richtung des Doppelpfeiles 8 wird jedesmal auch der Elektrolyt an der
Oberfläche des Gutes und an den Anoden ausgetauscht. Das Öffnen und Schlie
ßen erfolgt mittels einer von einem Hubmotor 7 betätigten Hub- und Senkein
richtung, die nachfolgend kurz Hubeinrichtung genannt wird. Die nicht darge
stellte Hubeinrichtung wird mittels bekannter Techniken des Maschinenbaues
und der Automatisierungstechnik hergestellt.
Bei beidseitiger Behandlung des Gutes befinden sich an beiden Seiten Hubein
richtungen. Zur Unterstützung des elektrochemischen Behandelns kann eine
Rütteleinrichtung 6 verwendet werden. Diese setzt die Anodenanordnung 2 be
ziehungsweise 3 in Vibrationen. Dies verringert die Diffusionsschichtdicke an der
zu behandelnden Oberfläche, welches die Anwendung einer höheren Strom
dichte erlaubt.
Die leitende Oberfläche des Gutes wird von einem Kontaktelement 9 elektrisch
kontaktiert. Als Kontaktelemente eignen sich u. a. Kontaktwalzen, Kontakträder
und Klammern. Elektrische Leiter 10 und 11 verbinden die elektrolytische Zelle
mit einer nicht dargestellten Badstromquelle. Bei dem Badstrom kann es sich um
Gleichstrom, unipolaren oder bipolaren Pulsstrom handeln. In der Fig. 1 ist die
Polarität für das Galvanisieren des Gutes 1 eingezeichnet.
Fig. 2 zeigt in der Seitenansicht eine horizontale Durchlaufanlage zur Leiter
plattenbehandlung mit einer Walzenkontaktierung. Dichtwalzen 13 und Dicht
wände 14 bilden entlang der Transportbahn Arbeitsbehälter 15, die mit Elektrolyt
16 gefüllt sind. Die Dichtwalzen verhindern beim Galvanisieren eine Metallisie
rung der kathodisch gepolten Kontaktwalzen 17. Der Elektrolyt wird durch be
kannte und hier nicht dargestellte Konditionierungseinrichtungen außerhalb des
Arbeitsbehälters 15 konditioniert und im Kreislauf gefördert. Der elektrische An
schluß des Gutes 1 an die Badstromquelle(n) erfolgt über eine oder mehrere
Kontaktwalzen 17. Sie werden von einem nicht dargestellten Transportantrieb
zusammen mit den Dichtwalzen 13, die auch das Gut 1 transportieren, motorisch
angetrieben. Außerhalb des Arbeitsbehälters angeordnete Schleifkontakte 18
oder rotierende Flüssigkontakte leiten den Badstrom von der Badstromquelle zu
den Kontaktwalzen.
Eine metallische und somit harte Kontaktwalze 17 ist zur Vollflächenkontaktie
rung geeignet. Befindet sich ein elektrisch isolierender Resist zur Strukturbildung
auf der Oberfläche des Gutes, so ist die Kontaktierung der leitenden Oberflä
chenbereiche nicht möglich. In diesem Fall wird eine Kontaktwalze 17 verwendet,
die aus einem elastischen und elektrisch leitfähigen Werkstoff besteht. Derartige
Werkstoffe sind z. B. Elastomere oder Silikone, die bei der Herstellung mit elek
trisch leitfähigen Füllstoffen versehen worden sind. Derartige Füllstoffe bestehen
z. B. aus Metallpulver, Metallflocken und ähnlichen Teilchen. Die Abmessungen
derartiger Teilchen betragen im Durchmesser etwa 10 µm oder weniger. Damit
lassen sich Verbundwerkstoffe mit einer elektrischen Leitfähigkeit herstellen, die
nahe an die Leitfähigkeit der üblichen elektrochemisch resistenten Metalle wie
Titan oder Edelstahl herankommen. Derartige elastische Kontaktwalzen 17 über
brücken die etwa 40 µm hohen Resistflanken, zumindest an den nicht mit Resist
abgedeckten größeren Oberflächenbereichen, die stets vorhandenen sind, und
kontaktieren so das Gut.
Die Behandlung des Gutes erfolgt schrittweise. In der Vorrichtung nach Fig. 2 ist
die Situation während der beidseitigen elektrochemischen Behandlung darge
stellt, d. h. während eines Behandlungsschrittes. Der Transportantrieb in Pfeil
richtung ist ausgeschaltet. Die Anodenanordnungen 2 und 3 berühren die zu
behandelnden Oberflächen des Gutes 1. Die Badstromquelle ist eingeschaltet.
Es erfolgt die elektrochemische Behandlung, die durch Einschaltung der Rüttel
einrichtung 6 unterstützt werden kann. Für das synchrone Ein- und Ausschalten
der Bewegungen und der Badstromquellen sorgt eine Synchronisations- und/oder
Schalteinrichtung, wie sie aus der Automatisierungstechnik bekannt sind.
Die mögliche Dauer der Behandlung ist abhängig von der chemischen Zusam
mensetzung des Elektrolyten, von der angewandten Stromdichte, sowie vom
Anoden-/Kathodenabstand, d. h. von der Dicke des Isolierwerkstoffes 12 vor den
Anoden, und von der Art des Isolierwerkstoffes. Die Dicke und die Art des Iso
lierwerkstoffes bestimmen die Menge des für jeden Behandlungsschritt verfügba
ren, konditionierten Elektrolyten. Dieser konditionierte Elektrolyt wird nachfolgend
kurz: frischer Elektrolyt genannt. Als Isolierwerkstoff 12 eignen sich resistente
Tücher, Filz, offenporiger Schaumstoff, Keramiktücher und andere ionendurch
lässige und flüssigkeitsdurchlässige Werkstoffe. Die ionendurchlässigen Isolier
werkstoffe können weich und saugfähig, oder hart und nicht flüssigkeitsaufneh
mend sein. Ein Beispiel für harte Isolierwerkstoffe ist die partielle Isolation der
Anoden mit einem resistenten Isolator, wie z. B. festanhaftende Keramikpartikel
oder Kunststoffpartikel. In diesem Falle sind die Anoden partiell ionendurchlässig
und partiell elektrisch isoliert. Flüssigkeitsaufnehmende und weiche Isolierwerk
stoffe führen, insbesondere zusammen mit der Vibration der Anoden, eine für den
elektrochemischen Prozeß vorteilhafte Walkarbeit aus. Diese Walkarbeit be
schleunigt den Prozeß durch eine Verringerung der Dicke der Diffusionsschicht.
Die Dauer pro Behandlungsschritt liegt bei wenigen Millisekunden, z. B. 10 ms
und sie reicht bis zu einer Stunde.
Nach diesem Behandlungsschritt öffnet die Hubeinrichtung die Anodenanordnun
gen 2 und 3 geradlinig in Pfeilrichtung 8 oder auf einer Kurvenbahn schwenkend
und desgleichen resultierend in Pfeilrichtung 8. Dabei kann die Badstromquelle
eingeschaltet bleiben. Ein Abreißfunken entsteht nicht. Sie kann auch vor dem
Öffnen im Strom reduziert, umgepolt, oder ganz ausgeschaltet werden, damit bei
dem jetzt einsetzenden Transportschritt in Pfeilrichtung 19 an den Kontaktwalzen
17 ein sehr geringer oder kein Strom fließt. Die Weglänge des Transportschrittes
wird in erster Linie von der Expositionszeit bestimmt. Ist diese Zeit lang bei gege
bener Anlagenlänge, d. h. bei gegebener Anzahl von Arbeitsbehältern 15 und
Anodenlängen in Transportrichtung, dann ist der Transportschritt entsprechend
länger. Anlagenlänge und Anlagenleistung werden aufeinander so abgestimmt,
daß die Transportschritte etwa 1 mm und bei Großanlagen bis zu 2 m betragen.
Die Anoden können sich auch relativ zum ruhenden Gut bewegen. Durch das
Öffnen der Anodenanordnungen 2 und 3 gelangt frischer Elektrolyt in den Bereich
der Anode und Kathode. Nach erfolgtem Transportschritt schließen die Anoden
anordnungen wieder. Die Anoden setzen erneut mit den Isolierwerkstoffen 12 auf
den Oberflächen des Gutes auf. Dabei entsteht ein hydrodynamischer Druck des
Elektrolyten, der auch einen erhöhten Stoffaustausch in Durchgangslöchern und
in Sacklöchern des Gutes bewirkt. Spätestens mit dem Aufsetzen der Anodenan
ordnungen auf dem Gut wird der Transportantrieb ausgeschaltet und zugleich
werden die Badstromquellen, falls sie ausgeschaltet waren, mit der erforderlichen
Polarität wieder eingeschaltet. Alle Bewegungen, Transportschritte und das elek
trische Schalten der Badstromquellen werden von einer nicht dargestellten zen
tralen Anlagensteuerung zeitgerecht gesteuert. Die Fig. 2 gilt grundsätzlich auch
für eine vertikale Durchlaufanlage. In diesem Falle stellt die schematische Dar
stellung die Draufsicht dar.
Fig. 3 zeigt in der Seitenansicht eine horizontale Durchlaufanlage zur Leiter
platten- oder Leiterfolienbehandlung mittels einer Streifenkontaktierung. Zugleich
stellt die Fig. 3 in der Draufsicht eine vertikale Durchlaufanlage dar. Die Strei
fenkontakte 20, die weiter unten näher erläutert werden, erfordern in Durch
laufanlage keine Dichtwalzen. Es kann ein durchgehender Arbeitsbehälter, so wie
er in Fig. 3 dargestellt ist, verwendet werden. Der Streifenkontakt 20 stellt eine
elektrische Verbindung von der Oberfläche des Gutes 1 zu der nicht dargestellten
und bereits beschriebenen Badstromquelle her. Der Streifenkontakt 20 wird bei
ausgeschaltetem Transport des Gutes 1 fest an die zu behandelnde Oberfläche
angedrückt. Zugleich sind die Anodenanordnungen 2 und 3 geschlossen. Die
Darstellung in Fig. 3 zeigt den Behandlungsschritt. Danach erfolgt das Öffnen
der Anodenanordnungen 2 und 3. Mit derselben Bewegung werden auch die
Streifenkontakte 20 von der Oberfläche des Gutes 1 abgehoben, was durch die
gestrichelten Linien angedeutet ist. Vorteilhaft ist es, wenn kurz zuvor oder mit
dem Einleiten der Öffnungsbewegung die Badstromquelle ausgeschaltet wird
oder zumindest in der Stromstärke verringert wird. Damit wird eine Funkenbil
dung und/oder eine Metallisierung des Kontaktes vermieden. Durch Umpolung im
geöffneten Zustand der Anordnung ist eine Entmetallisierung der Kontakte bei
Bedarf möglich. Mit dem Öffnen setzt auch ein Transportschritt des Gutes 1 ein.
Danach schließen die Anodenanordnungen 2 und 3 gemeinsam mit den Streif
kontakten. Vor Abschluß der Schließbewegung ist der Transportschritt beendet.
Unterhalb eines Streifenkontaktes findet keine Behandlung statt. Die Transport
schritte werden in ihrer Länge so auf die gegenseitigen Abstände der Streifen
kontakte abgestimmt, dass alle Oberflächenbereiche des Gutes zeitlich
gleichlang elektrochemisch behandelt werden. Nach Abschluß der Schließbewe
gung wird die Badstromquelle wieder eingeschaltet. Die weiteren Abläufe und
Funktionen sind bereits anhand der Fig. 2 beschrieben worden. Der Streifen
kontakt 20 kann quer zur Transportrichtung und zu dieser in einem rechten Win
kel angeordnet sein. Ein davon abweichender Winkel, d. h. schräg angeordnete
Streifenkontakte kontaktieren zwei aufeinanderfolgende Abschnitte von Gut. Der
Streifenkontakt kann nicht in einer Lücke von mit Abstand aufeinanderfolgendem
Gut kontaktieren. Die Anodenanordnungen können auch entsprechend schräg
geschnitten ausgeführt werden. Die Streifenkontaktierung hat folgende weitere
Merkmale:
Es wird kein Schleifkontakt 18 benötigt. Zur Stromzuführung auf den Streifen kontakt 20 können verschleißfreie elektrische Leiter 10 in Form von flexiblen Strombändern oder Hochstromlitzen verwendet werden. Der übliche Schleifkon taktabtrieb entfällt. Desweiteren läßt sich der eigentliche Kontakt im Gegensatz zu Kontaktwalzen elektrisch so isolieren, daß ein unerwünschtes Metallisieren bei einem Galvanisierprozeß vermieden wird. Elastische und angetriebene Dichtwal zen sind nicht erforderlich. Entsprechend kürzer wird die Baulänge der Anlage. Insbesondere wird bei z. B. gleicher Anodenlänge im Vergleich zur Walzenkon taktierung der Abstand von einer Kontaktstelle zur nächsten in Transportrichtung kürzer. Dies erlaubt die Produktion von kürzerem Gut 1 oder von längeren An oden bei gegebener Länge des Gutes 1.
Es wird kein Schleifkontakt 18 benötigt. Zur Stromzuführung auf den Streifen kontakt 20 können verschleißfreie elektrische Leiter 10 in Form von flexiblen Strombändern oder Hochstromlitzen verwendet werden. Der übliche Schleifkon taktabtrieb entfällt. Desweiteren läßt sich der eigentliche Kontakt im Gegensatz zu Kontaktwalzen elektrisch so isolieren, daß ein unerwünschtes Metallisieren bei einem Galvanisierprozeß vermieden wird. Elastische und angetriebene Dichtwal zen sind nicht erforderlich. Entsprechend kürzer wird die Baulänge der Anlage. Insbesondere wird bei z. B. gleicher Anodenlänge im Vergleich zur Walzenkon taktierung der Abstand von einer Kontaktstelle zur nächsten in Transportrichtung kürzer. Dies erlaubt die Produktion von kürzerem Gut 1 oder von längeren An oden bei gegebener Länge des Gutes 1.
Die Fig. 4a zeigt einen Streifenkontakt 20 im Querschnitt. Er erstreckt sich
längs in die Zeichnungsebene hinein. Ein Träger 21, aus Metall oder Kunststoff,
dient zur Stabilisierung und zur Befestigung an einer Hubeinrichtung. Am Träger
21 ist ein elektrisch isolierender und elastischer Werkstoff 22 befestigt, z. B. an
vulkanisiert. In diesen Werkstoff 22 ist eine starre Kontaktleiste 23 eingebettet.
Die Kontaktleiste 23 besteht vorzugsweise aus einem elektrochemisch resisten
ten Metall, z. B. aus Titan oder Niob. Das Metall kann auch mit einer resistenten
Oberflächenbeschichtung versehen sein. Über einen elektrisch isolierten Leiter
10 ist die Kontaktleiste 23 mit der Badstromquelle verbunden. Der Isolierwerkstoff
22 dichtet während des Behandlungsschrittes die Kontaktleiste 23 in Richtung zur
elektrolytischen Zelle völlig ab. Ein unerwünschtes Metallisieren, der beim Galva
nisieren kathodischen Kontaktleiste 23, wird so auch ohne Dichtwalzen 13 sicher
vermieden.
Sind Teilbereiche der zu behandelnden Oberfläche mit Resist abgedeckt, wird die
verbleibende freie Oberfläche von einem metallisch starren Kontakt nicht sicher
kontaktiert. Dafür eignet sich der Streifenkontakt, den Fig. 4b zeigt. Am Träger
21 ist eine elastische Kontaktleiste 24 befestigt. Sie besteht aus dem bereits
oben beschriebenen elastischen und mit elektrisch leitfähigen Füllstoffen verse
henen Werkstoff. Beidseitig ist an der elastischen Kontaktleiste 24 ein elastischer
und elektrisch isolierender Werkstoff 22 angebracht. Dieser Isolierwerkstoff
schützt die Kontaktleiste 24 vor unerwünschter Metallisierung bei kathodischer
Polarität. Durch die Elastizität ist es möglich, auch partiell mit Resist versehenes
Gut 1 sicher zu kontaktieren. Die elektrische Verbindung zur Badstromquelle wird
mittels eines elektrischen Leiters 26 in unmittelbare Nähe des Streifenkontaktes
20 und im weiteren Verlauf mit elektrischen Leitern 10 hergestellt. Der Streifenkontakt
20, gemäß Fig. 4b, kann auch so ausgebildet werden, daß der eigentli
che Kontakt zum Gut aus Metall besteht, aber im Gegensatz zur starren Kon
taktleiste in Fig. 4a besteht die Kontaktleiste aus z. B. gestanzten und gestapel
ten Metallplättchen von beispielsweise 0,1 mm Dicke. Die gestapelten
Metallplättchen werden an Stelle des unteren Teiles der Kontaktleiste 24 einge
legt und z. B. durch Formschluß befestigt. Die Metallplättchen stützen sich nach
oben in Fig. 4b gegen den verbleibenden elastischen und elektrisch leitfähigen
Werkstoff ab, der damit eine gemeinsame elektrische Verbindung aller Metall
plättchen herstellt. Zum Gut hin wirkt ein elastischer metallischer Kontakt.
Zur Anpassung an Oberflächenunebenheiten kann die Kontaktleiste auch aus
Kontaktstücken bestehen, die in sich gefiedert, d. h. mit kleinen Einschnitten ver
sehen sind. Desgleichen sind hierfür federnde metallische Bürstenleisten ver
wendbar.
Die Anwendungsbeispiele wurden für Leiterplatten und Leiterfolien beschrieben.
Diese liegen in der Regel in Form von Abschnitten vor. Die erfindungsgemäßen
Vorrichtungen und das Verfahren eignen sich auch sehr gut zur elektrochemi
schen Behandlung von endlosem Gut in Form von Folien von Rolle zu Rolle.
Hierzu dienen die bekannten Behälter, Antriebe, Führungs- und Umlenkrollen von
elektrochemischen Bandanlagen. Das zu behandelnde Band wird bei jedem
Behandlungsschritt durch eine Schalteinrichtung angehalten. Die Anodenanord
nungen 2 und 3 schliessen und öffnen sich, so wie es bereits oben beschrieben
wurde. Gleiches gilt für das Ein- und Ausschalten der Badstromquellen. Für das
zeitgerechte Steuern sorgt ebenfalls die elektrisch/mechanische Schalteinrich
tung.
Bei großen und schweren Bandrollen ist das fortwährende Anhalten und Wieder
anfahren des zu behandelnden Bandes technisch aufwendig. Zur Vermeidung
des schrittweisen Transportes bei der Behandlung großer und schwerer Bänder
wird das Prinzip der fliegenden Säge angewendet. Das Gut wird kontinuierlich
transportiert. Während des Behandlungsschrittes führen die am Gut anliegenden
Anodenanordnungen 2 und 3 eine synchrone Transportbewegung, d. h. einen
Transportschritt zusammen mit dem Gut aus. Zwischen dem Gut und den An
odenanordnungen findet dabei keine Relativbewegung statt. Nach dem Behand
lungs- bzw. Transportschritt öffnen die Anodenanordnungen und fliegen geöffnet
den Transportschritt zurück. Dann schließen sie wieder und behandeln erneut
mitfliegend das Gut. Bei der Streifenkontaktierung führen auch die Streifenkon
takte diese Öffnungs-, Schließ- und Transportbewegungen mit aus.
In den Figuren sind beidseitige Behandlungen des Gutes dargestellt. Bei einseiti
ger Behandlung entfällt eine Anodenanordnung. An Stelle dieser Anodenanord
nung tritt ein ebener Körper, der die Andruckkraft der verbleibenden einseitigen
Anodenanordnung aufnimmt. Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich auch
zur elektrochemischen Behandlung von geformtem Gut, das elektrisch kontaktiert
ist. Die Anoden und der darauf befindliche Isolierwerkstoff werden der Form des
Gutes genau angepasst. Damit wird eine ungleichmäßige Behandlung in Folge
der Spitzenwirkung sicher vermieden. Die Behandlung erfolgt durch permanentes
Öffnen, Elektrolytaustauschen und Schließen der an das Gut angepaßten Vor
richtung.
Ein weiteres Anwendungsgebiet stellen Tauchbadanlagen dar. Das Gut ruht im
Arbeitsbehälter und die Anodenanordnungen werden zum Elektrolytaustausch
fortwährend geöffnet und geschlossen. Die elektrische Kontaktierung des Gutes
erfolgt mittels bekannter Warenträger, Klammern und/oder Gestelle. Zur präzisen
Behandlung von Strukturen auf Leiterplatten kann im Vergleich zum Stand der
Technik eine wesentlich höhere Stromdichte angewendet werden. Zusätzlich
erfolgt eine Energieeinsparung durch die sehr niedrige Zellspannung. In Durch
laufanlagen ist auch jede andere, hier nicht beschriebene Art der elektrischen
Kontaktierung des Gutes möglich. Auf die bekannten einseitigen Kontaktierungen
am Rand von ebenem Gut, wie die Klammerkontaktierung oder die Radkontaktie
rung, soll besonders hingewiesen werden. Auch sie eignen sich sehr gut zur
Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
1
Gut
2
obere Anodenanordnung
3
untere Anodenanordnung
4
obere Anode
5
untere Anode
6
Rütteleinrichtung, auf die Anoden wirkend
7
Hubmotor
8
Kennzeichnungspfeil für die Bewegungen
9
Kontaktelement für das Gut
10
elektrischer Leiter zum Badstromquellen-Minuspol
11
elektrischer Leiter zum Badstromquellen-Pluspol
12
Isolierwerkstoff
13
Dichtwalzen
14
Dichtwände
15
Arbeitsbehälter
16
Elektrolyt
17
Kontaktwalze
18
Schleifkontakt
19
Transportrichtungspfeil
20
Streifenkontakt
21
Träger
22
elastischer Isolierwerkstoff
23
starre Kontaktleiste
24
elastische Kontaktleiste
25
Transportwalze
26
flexible Strombänder
Claims (37)
1. Verfahren zum elektrochemischen Metallisieren, Ätzen, Oxidieren und Redu
zieren von ebenem und geformtem Gut, wie zum Beispiel Leiterplatten und
Leiterfolien oder Hohlwaren in Durchlaufanlagen oder Tauchbadanlagen mit
Elektrolytbehältern, Elektrolyt, Elektroden, Badstromquellen und Transpor
teinrichtungen, bestehend aus den Verfahrensschritten:
- a) Transportieren des Gutes in das elektrolytische Bad,
- b) In-Kontakt-Bringen des Gutes mit dem Elektrolyten im Bad,
- c) elektrisches Kontaktieren und leitendes Verbinden der zu behandelnden, elektrisch leitfähigen Oberflächen mit mindestens einer Badstromquelle,
- a) dass die Elektrode(n) auf die Oberfläche(n) des Gutes aufgesetzt wird, beziehungsweise werden, wobei die dem Gut zugewandten Oberflächen der Elektrode(n) zumindest partiell ionendurchlässig elektrisch isoliert sind,
- b) und dass der Transport des Gutes durch die von den Elektroden und dem Gut gebildete(n) elektrolytische(n) Zelle(n) so erfolgt, dass spätestens ab dem Zeitpunkt des Aufsetzens der Elektroden zwischen diesen und dem Gut keine Relativbewegung stattfindet,
- c) und dass während des Aufsitzens der Elektroden auf der Oberfläche des Gutes ein elektrolytischer Behandlungsschritt mit einem Anoden- /Kathodenabstand stattfindet, der von der Dicke der Isolation der Elektro de(n) bestimmt wird,
- d) und dass nach dem Behandlungsschritt die Elektrode(n) von der Oberflä che des Gutes wieder abgehoben wird beziehungsweise werden,
- e) und dass während der abgehobenen Elektrode(n) ein transportbedingter relativer Bewegungsschritt zwischen dem Gut und den Elektroden stattfin det,
- f) und dass sich dieser Ablauf entsprechend der Verfahrensschritte d) bis h) fortwährend wiederholt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Behand
lungsschritt bei jeder Ablaufwiederholung 10 Millisekunden bis 1 Stunde lang
andauert.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gut bei jeder Ablaufwiederholung durch den relativen Transportschritt 1 Mil
limeter bis 2 Meter transportiert wird.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gut im elektrolytischen Bad durch elektrisch leitfähige Streifenkontakte kon
taktiert wird.
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gut im elektrolytischen Bad durch elektrisch leitfähige Kontaktwalzen kontak
tiert wird.
6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gut im elektrolytischen Bad durch elektrisch leitfähige Kontakträder elektrisch
kontaktiert wird, die mindestens am Rand des Gutes abrollen.
7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gut im elektrolytischen Bad durch elektrisch leitfähige Klammern kontaktiert
wird, die am Rand des Gutes klammern.
8. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die
Streifenkontakte gemeinsam mit der Elektrode oder mit den Elektroden vom
Gut abgehoben und wieder aufgesetzt werden.
9. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 6 und 8, dadurch gekennzeichnet,
dass der Badstrom, in Transportrichtung des Gutes gesehen, vor und nach
jeder Elektrode, beziehungsweise vor und nach jeden oberen und unteren
Elektroden, in das Gut eingespeist wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass elektrisch isolie
rende Walzen, die quer zur Transportrichtung und parallel zu den elektri
schen Kontaktelementen angeordnet sind, den Anoden-/Kathodenraum von
den Kontaktelementen elektrisch trennen.
11. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die
Badstromquelle(n) immer dann ausgeschaltet ist oder sind, wenn die Elek
trode(n) nicht auf der Oberfläche der Gutes aufsitzen.
12. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 4 und 8, dadurch gekennzeichnet, dass die
Badstromquelle(n) immer dann umgepolt betrieben wird oder werden, wenn
die Elektrode(n) nicht auf der Oberfläche der Gutes aufsitzen.
13. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die
dem Gut zugewandte(n) Seite(n) der Elektrode(n) mit einem Isoliermittel
elektrisch und ionendurchlässig so isoliert wird oder werden, dass damit zu
gleich der Abstand der Elektrode(n) zum Gut präzise eingehalten wird.
14. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die
Elektroden durch Rütteleinrichtungen zu Vibrationen mindestens dann ange
regt werden, wenn die elektrolytische Behandlung stattfindet.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass bei beidseitiger
elektrolytischer Behandlung die beidseitig angeordneten Rütteleinrichtungen
mit gleicher oder unterschiedlicher Phasenlage der Schwingungen betrieben
werden.
16. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4 und 8 bis 15 dadurch gekennzeich
net, dass bei kontinuierlichem Transport des Gutes durch die elektrolytische
Anlage, die Elektroden allein, und bei vorliegender Streifenkontaktierung die
Elektroden und die Streifenkontakte gemeinsam zur elektrolytischen Be
handlung an die Oberfläche des Gutes angedrückt werden und so mit dem
Gut eine kurze Strecke synchron mitfliegen und dass sie nach dieser Strecke
wieder abgehoben werden und gegen die Transportrichtung des Gutes ge
öffnet schnell zurückfahren, mit anschließendem erneuten Schließen und ei
ner weiteren mitfliegenden elektrolytischen Behandlung und dass sich diese
Vorgänge fortwährend wiederholen.
17. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekenn
zeichnet, dass ein Transport des Gutes durch die elektrolytische Anlage
dann erfolgt, wenn kerne elektrolytische Behandlung stattfindet.
18. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekenn
zeichnet, dass die Transportbewegung des Gutes durch die elektrischen
Kontaktmittel, wie z. B. durch Klammern, Kontakträder oder Kontaktwalzen
auf das Gut übertragen wird.
19. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekenn
zeichnet, dass zusätzliche Transportmittel in Form von Dichtwalzen das Gut
transportieren.
20. Vorrichtung zum elektrochemischen Metallisieren, Ätzen, Oxidieren und
Reduzieren von ebenem Gut, wie zum Beispiel Leiterplatten und Leiterfolien
in Durchlaufanlagen und Tauchbadanlagen mit Elektrolytbehältern, Elektrolyt,
Elektroden, Badstromquellen und Transporteinrichtungen, insbesondere zur
Durchführung des Verfahrens nach Patentanspruch 1 bestehend aus:
- a) einer Transporteinrichtung zur Förderung des Gutes durch die elektroly tische Anlage,
- b) einer Pumpeinrichtung zur Kreislaufförderung des Elektrolyten im elek trolytischen Bad und durch Einrichtungen zur Elektrolytregenerierung,
- c) mindestens einer Badstromquelle zur Speisung der elektrolytischen Zelle oder der Zellen,
- d) elektrischen Kontaktelementen zur Stromübertragung von der Bad- Stromquelle auf das Gut,
- a) Elektroden, die jeweils mit einem ionendurchlässigen, elektrischen Iso lierwerkstoff an jener Fläche versehen sind, die in Richtung der zu be handelnden Oberfläche des Gutes weist.
- b) mindestens eine Hubeinrichtung für die Elektrode(n) zur fortwährenden, nahezu senkrechten Annäherung, Ruhestellung mit elektrochemischer Behandlung des Gutes und Entfernung der Elektrode(n) von der Ober fläche des Gutes,
- c) eine Transporteinrichtung zum Transport des Gutes durch die elektrolyti sche(n) Zeile(n) derart, dass während der elektrolytischen Behandlung zwischen den Elektroden und dem Gut keine Relativbewegung stattfin det,
- d) und eine Schalteinrichtung zum koordinierten Ein- und Ausschalten der Hubeinrichtungen für die Elektroden und Kontakte, sowie der Transpor teinrichtungen für das Gut.
21. Vorrichtung nach Anspruch 20, gekennzeichnet durch eine Schalteinrichtung
zum koordinierten Ein- und Ausschalten des Badstromes.
22. Vorrichtung nach den Ansprüchen 20 und 21, gekennzeichnet durch eine
Umpoleinrichtung zum koordinierten Umpolen der Badspannung(en).
23. Vorrichtung nach den Ansprüchen 20 bis 22, gekennzeichnet durch elektri
sche Kontaktelemente in Form von seitlich das Gut ergreifende Klammem.
24. Vorrichtung nach den Ansprüchen 20 bis 22, gekennzeichnet durch elektri
sche Kontaktelemente in Form von seitlich auf dem Gut abrollenden Kontakt
rädern.
25. Vorrichtung nach den Ansprüchen 20 bis 22, gekennzeichnet durch elektri
sche Kontaktelemente in Form von abrollenden Kontaktwalzen, die langge
streckt und quer zur Transportrichtung des Gutes angeordnet sind.
26. Vorrichtung nach Anspruch 25, gekennzeichnet durch elektrische Kontakt
walzen mit einer elastischen und elektrisch leitfähigen Oberfläche.
27. Vorrichtung nach den Ansprüchen 20 bis 26, gekennzeichnet durch minde
stens eine Rütteleinrichtung, die die Elektrode(n) und damit auch das Gut,
zumindest während der Zeit der elektrolytischen Behandlung, in Vibration
versetzt.
28. Vorrichtung nach Anspruch 27, gekennzeichnet durch beidseitig am Gut
angeordnete Elektroden, mit jeweils unabhängig voneinander angetrieben
und in der Schwingungsphase einstellbaren Rütteleinrichtungen.
29. Vorrichtung zum elektrischen Kontaktieren von flachem Gut in elektrolyti
schen Durchlaufanlagen und in Bandanlagen, vorzugsweise in Anlagen zur
Herstellung von Leiterplatten und Leiterfolien und insbesondere zur Durch
führung des Verfahrens nach Patentanspruch 1 und zur Verwendung in der
Vorrichtung nach Patentanspruch 20 bestehend aus:
- a) einem elektrisch leitfähigen Streifenkontakt, der sich quer zur Durchlauf richtung des Gutes über dieses erstreckt,
- b) einer elektrisch leitfähigen Verbindung von diesem Streifenkontakt zur Badstromquelle,
- c) einer Hub- und Senkeinrichtung zum Abheben des Streifenkontaktes von der zu kontaktierenden Gutoberfläche und zum Aufsetzen und Andrüc ken des Streifenkontaktes auf derselben an einer anderen Stelle,
- d) einer Synchronisationseinrichtung, zur Koordinierung der Bewegungen des Streifenkontaktes mit den übrigen, in der elektrolytischen Anlage ablaufenden Bewegungen, insbesondere mit den Elektrodenbewegun gen und den Transportbewegungen des Gutes.
30. Vorrichtung nach Anspruch 29, gekennzeichnet durch einen Streifenkontakt
mit einer Kontaktleiste, die mit Ausnahme der Kontaktfläche zum Gut in ei
nem elektrisch isolierenden und chemisch beständigen Werkstoff eingebettet
ist und die zusammen eine Baueinheit bilden.
31. Vorrichtung nach den Ansprüchen 29 und 30, gekennzeichnet durch eine
Kontaktleiste, die aus einem starren Metallkörper besteht.
32. Vorrichtung nach den Ansprüchen 29 und 30, gekennzeichnet durch eine
Kontaktleiste, die aus gefiederten metallischen Kontaktstücken besteht.
33. Vorrichtung nach den Ansprüchen 29 und 30, gekennzeichnet durch eine
Kontaktleiste, die aus federnden metallischen Bürstenleisten besteht.
34. Vorrichtung nach den Ansprüchen 29 und 30, gekennzeichnet durch eine
Kontaktleiste, die aus dünnen, gestapelten Metallplättchen besteht.
35. Vorrichtung nach den Ansprüchen 29 und 30, gekennzeichnet durch eine
Kontaktleiste, die aus einem in sich elastischen und elektrisch leitfähigen
Werkstoff besteht.
36. Vorrichtung nach den Ansprüchen 29 bis 35, gekennzeichnet durch einen
Streifenkontakt, der in einem Winkel ungleich 90° zur Transportrichtung an
geordnet ist.
37. Vorrichtung nach den Ansprüchen 29 bis 36, gekennzeichnet durch eine
Stromzuführung zum Streifenkontakt in Form von flexiblen elektrischen Lei
tern.
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DE2000143814 DE10043814C1 (de) | 2000-09-06 | 2000-09-06 | Verfahren und Vorrichtungen zum elektrochemischen Behandeln von Gut |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005026415A1 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-24 | Atotech Deutschland Gmbh | Device and method for electrolytically treating electrically insulated structures |
EP1688518A2 (de) | 2005-02-04 | 2006-08-09 | Höllmüller Maschinenbau GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur elektrochemischen Behandlung von Bauteilen in Durchlaufanlagen |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4132418C1 (de) * | 1991-09-28 | 1993-02-11 | Hans Hoellmueller Maschinenbau Gmbh & Co, 7033 Herrenberg, De | |
DE4324330A1 (de) * | 1992-08-01 | 1994-02-03 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von insbesondere flachem Behandlungsgut, sowie Anordnung, insbesondere zur Durchführung des Verfahrens |
DE4229403A1 (de) * | 1992-09-03 | 1994-03-10 | Hoellmueller Maschbau H | Vorrichtung zur Galvanisierung dünner, eine Vielzahl von Durchgangsbohrungen enthaltender Kunststoffolien |
DE4417551A1 (de) * | 1994-05-19 | 1995-11-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Elektrolytisches Verfahren zum präzisen Behandeln von Leiterplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
EP0759100B1 (de) * | 1994-05-11 | 1998-03-11 | Siemens S.A. | Vorrichtung zur behandlung von leiterplatten |
EP0959153A2 (de) * | 1998-05-20 | 1999-11-24 | Process Automation International Limited | Vorrichtung zur Elektroplattierung |
-
2000
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-
2002
- 2002-01-30 TW TW91101532A patent/TW573077B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4132418C1 (de) * | 1991-09-28 | 1993-02-11 | Hans Hoellmueller Maschinenbau Gmbh & Co, 7033 Herrenberg, De | |
DE4324330A1 (de) * | 1992-08-01 | 1994-02-03 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von insbesondere flachem Behandlungsgut, sowie Anordnung, insbesondere zur Durchführung des Verfahrens |
DE4229403A1 (de) * | 1992-09-03 | 1994-03-10 | Hoellmueller Maschbau H | Vorrichtung zur Galvanisierung dünner, eine Vielzahl von Durchgangsbohrungen enthaltender Kunststoffolien |
EP0759100B1 (de) * | 1994-05-11 | 1998-03-11 | Siemens S.A. | Vorrichtung zur behandlung von leiterplatten |
DE4417551A1 (de) * | 1994-05-19 | 1995-11-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Elektrolytisches Verfahren zum präzisen Behandeln von Leiterplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
EP0959153A2 (de) * | 1998-05-20 | 1999-11-24 | Process Automation International Limited | Vorrichtung zur Elektroplattierung |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005026415A1 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-24 | Atotech Deutschland Gmbh | Device and method for electrolytically treating electrically insulated structures |
EP1688518A2 (de) | 2005-02-04 | 2006-08-09 | Höllmüller Maschinenbau GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur elektrochemischen Behandlung von Bauteilen in Durchlaufanlagen |
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TW573077B (en) | 2004-01-21 |
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