JP2007504950A5 - - Google Patents

Claims (23)

1. 伝導性炭素の表面に担持された、ルテニウム及びコバルトの硫化物を含む、酸素還元のための触媒。
2. Ｒｕ：Ｃｏの原子比は、０．２〜５である、請求項１に記載の触媒。
3. 前記伝導性炭素が、１２０m^２/gを超える表面積を有するカーボンブラックである、請求項１に記載の触媒。
4. ルテニウム及びコバルトの前駆体塩を用いて前記伝導性炭素を初期湿式含浸すること、溶媒を蒸発させること、そして、得られた生成物を硫化水素の雰囲気下で処理すること、によって得られる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の触媒。
5. 前記硫化水素の雰囲気は不活性キャリヤガスを含み、硫化水素の雰囲気下での前記処理は３００〜５００℃の温度で実施される、請求項４に記載の触媒。
6. 硫化水素の雰囲気下での前記処理は、流通反応器中で実施される、請求項５に記載の触媒。
7. 硫化水素の雰囲気下での前記処理は、１時間〜４時間の時間継続される、請求項５に記載の触媒。
8. 前記不活性キャリヤガスは窒素であり、前記窒素対前記硫化水素のモル比は０．５〜４である、請求項７に記載の触媒。
9. 伝導性ウェブを含むガス拡散電極であって、請求項１〜８のいずれか１項に記載の触媒が前記伝導性ウェブの少なくとも１つの面の表面に施用されている、ガス拡散電極。
10. 前記伝導性ウェブは炭素の布である、請求項９に記載のガス拡散電極。
11. 前記触媒は、疎水性バインダーと混合されている、請求項１０に記載のガス拡散電極。
12. 前記伝導性ウェブの少なくとも１つの面の表面を、第１の疎水性バインダーと混合された前記触媒でコーティングすることを含む、請求項９〜１１のいずれか１項に記載のガス拡散電極の製造方法。
13. 前記伝導性ウェブは炭素の布である、請求項１２に記載の方法。
14. 前記第１の疎水性バインダーは過フッ化される、請求項１２に記載の方法。
15. 前記触媒で前記コーティングをする前に、前記伝導性ウェブは、その少なくとも１つの面の表面に、炭素粉末と第２の疎水性バインダーとの混合物がコーティングされる、請求項１２に記載の方法。
16. 最終焼結工程をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
17. 前記最終焼結工程は、水素雰囲気下で室温から中間温度まで加熱することと、それに続いて不活性雰囲気下で前記中間温度から最終温度まで加熱することとを含む、請求項１６に記載の方法。
18. 前記中間温度は１００〜１２０℃である、請求項１７に記載の方法。
19. 前記最終温度は３００〜３５０℃である、請求項１７に記載の方法。
20. 前記不活性雰囲気はアルゴン雰囲気である、請求項１７に記載の方法。
21. ルテニウムの前駆体塩を用いて伝導性炭素を初期湿式含浸すること、溶媒を蒸発させること、そして、得られた生成物を硫化水素の雰囲気下で処理すること、を含む伝導性炭素の表面に担持された硫化ルテニウム触媒の製造方法。
22. ルテニウムの前記前駆体塩が、Ｎｉ、Ｒｅ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｉｒからなる群から選択される遷移金属の前駆体塩と混合される、請求項２１に記載の方法。
23. 請求項９〜１１のいずれか１項に記載のガス拡散電極を、塩酸水溶液を入れた電解セルのカソードとして組み立てること、及び、電流をかけている間に前記カソードへ酸素を供給すること、を含む減極塩酸電気分解のプロセス。