JP2007317883A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ウエーハ内にライフタイムキラーとなる重金属を低濃度にかつ選択的に簡単に導入できるようにする。
【解決手段】中心部に凹部21を有する重金属の板体20を載置するステージ10を用意し、該ステージ10の載置部に板体20を載置した後、この板体20にウエーハ薄板化工程を終えたウエーハ2を重ね合せる。そして、この状態で、板体20に設けた細孔23を通じてウエーハ2を吸引して、板体20の環状表面22とウエーハ2とを平面接触させる。この平面接触によりライフタイムキラーとしての重金属の微粒子がウエーハ2に選択的に付着し、その後、ステージ20から切離してウエーハ2を熱処理する。周辺部のライフタイムが中心部よりも長い傾向にあるウエーハを対象にした場合、ウエーハ2の周辺部に対する重金属導入によって、ウエーハ面内のライフタイムが均一化される。
【選択図】図3
【解決手段】中心部に凹部21を有する重金属の板体20を載置するステージ10を用意し、該ステージ10の載置部に板体20を載置した後、この板体20にウエーハ薄板化工程を終えたウエーハ2を重ね合せる。そして、この状態で、板体20に設けた細孔23を通じてウエーハ2を吸引して、板体20の環状表面22とウエーハ2とを平面接触させる。この平面接触によりライフタイムキラーとしての重金属の微粒子がウエーハ2に選択的に付着し、その後、ステージ20から切離してウエーハ2を熱処理する。周辺部のライフタイムが中心部よりも長い傾向にあるウエーハを対象にした場合、ウエーハ2の周辺部に対する重金属導入によって、ウエーハ面内のライフタイムが均一化される。
【選択図】図3
Description
本発明は、半導体装置の製造方法に係り、特にウエーハ内部にライフタイムキラーとしての重金属を導入する工程を有する半導体装置の製造方法に関する。
トランジスタ等の半導体装置のスイッチング特性の向上を図る目的で、ウエーハ内部にAu、Pt、Fe、Cu、Ni等の重金属(ライフタイムキラー)を導入することが従来より行われている。そして、このライフタイムキラーの導入には、ウエーハの一面(裏面)に蒸着等により重金属の薄膜を形成した後、熱処理を行って重金属をウエーハ内部に熱拡散させる方法が一般に採用されていた。しかるに、これら重金属は拡散係数が大きく、このため、前記した方法ではウエーハ内部に重金属が高濃度に導入されてしまい、場合によっては、重金属が過多に導入されて、オン動作時のコレクタ−エミッタ間電圧を急激に上昇させる、いわゆるスナップバックの発生を招くことになる。
また、ウエーハ製造工程やデバイス工程における種々の要因で、ウエーハ面内のライフタイムにバラツキが生じることがあるが、前記したようにウエーハの一面に重金属の薄膜を形成してライフタイムキラーを導入する方法では、ウエーハ面内のライフタイムのバラツキが増幅されてしまうという問題もあった。
また、ウエーハ製造工程やデバイス工程における種々の要因で、ウエーハ面内のライフタイムにバラツキが生じることがあるが、前記したようにウエーハの一面に重金属の薄膜を形成してライフタイムキラーを導入する方法では、ウエーハ面内のライフタイムのバラツキが増幅されてしまうという問題もあった。
ところで、特許文献1には、溶着防止用の多結晶シリコン粒子にライフタイムキラーとなる重金属元素を混在させたパウダーをウエーハ表面に付着させて、熱処理を行う半導体装置の製造方法が記載されており、この方法によれば、ウエーハに接触する重金属の量が制限されるので、ウエーハ中に重金属を低濃度に導入できるようになる。
また、特許文献2には、予めウエーハの裏面に重金属の拡散を抑えるストッパ薄膜を所定のパターンで形成し、このストッパ薄膜を含むウエーハの裏面全面にライフタイムキラーとなる重金属の薄膜を形成して、熱処理を行う半導体装置の製造方法が記載されており、この方法によれば、前記ストッパ薄膜により所定の領域での熱拡散を抑えることができるので、重金属を選択的に導入してウエーハ面内のライフタイムの均一化を図ることができる。
また、特許文献2には、予めウエーハの裏面に重金属の拡散を抑えるストッパ薄膜を所定のパターンで形成し、このストッパ薄膜を含むウエーハの裏面全面にライフタイムキラーとなる重金属の薄膜を形成して、熱処理を行う半導体装置の製造方法が記載されており、この方法によれば、前記ストッパ薄膜により所定の領域での熱拡散を抑えることができるので、重金属を選択的に導入してウエーハ面内のライフタイムの均一化を図ることができる。
しかしながら、特許文献1に記載される方法によれば、パウダーを介して重金属をウエーハに接触および付着させるので処理が面倒で、製造性の悪化が避けれない。
また、特許文献2に記載される方法によれば、ウエーハに重金属の薄膜を形成する点は従来と変わりがなく、重金属を低濃度にウエーハに導入することは困難である。また、予めウエーハの裏面にストッパ薄膜を形成する余分な成膜工程が必要で、製造コストの上昇も避けられない。
また、特許文献2に記載される方法によれば、ウエーハに重金属の薄膜を形成する点は従来と変わりがなく、重金属を低濃度にウエーハに導入することは困難である。また、予めウエーハの裏面にストッパ薄膜を形成する余分な成膜工程が必要で、製造コストの上昇も避けられない。
本発明は、上記した技術的背景に鑑みてなされたもので、第1の課題とするところは、ウエーハ内にライフタイムキラーとなる重金属を簡単に低濃度に導入できるようにすることにある。また、第2の課題とするところは、第1の課題に加え、ウエーハ内にライフタイムキラーとなる重金属を選択的にかつ低コストで導入できるようにすることにある。
第1の課題を解決するための第1の発明は、ライフタイムキラーとしての重金属をウエーハに平面接触させて、該ウエーハの一面に重金属の微粒子を付着させる重金属付着工程と、前記重金属付着工程を終えたウエーハを加熱して、該ウエーハ内部に重金属を熱拡散させる熱処理工程とを含むことを特徴とする。
半導体製造プロセスにおいては、重金属汚染が大きな問題になっており、この重金属汚染を防止するための種々の対策が採られている。重金属汚染の発生原因には、他の固体や流体などの媒体を介して付着する場合と重金属との接触によって付着する場合とがあるが、重金属との接触によって付着する場合は、原子レベルの汚染となる。
本第1の発明は、半導体製造プロセスにおいて有害とされている重金属汚染を積極的に利用するもので、ライフタイムキラーとしての重金属をウエーハに平面接触させることにより、重金属の微粒子をウエーハに付着させることを特徴とする。ここで、前記微粒子は原子レベルの微粒子であり、重金属の蒸着薄膜をウエーハに形成する場合に比べれば、その付着量はきわめてわずかとなる。したがって、その後の熱処理工程でウエーハ内部に熱拡散される重金属濃度は低濃度範囲に制限され、この結果、スナップバックの発生が確実に防止される。しかも、ウエーハに重金属を平面接触させるだけなので、処理は簡単となる。
第2の課題を解決するための第2の発明は、上記第1の発明における重金属付着工程において、重金属を任意のパターンでウエーハに接触させることを特徴とする。この場合は、例えば、ウエーハ製造工程やデバイス工程での何らかの要因によって、ウエーハ面内にライフタイムの長くなる領域が形成されることが事前にわかっている場合は、その領域のみに重金属を平面接触させることで、ウエーハ面内でのライフタイムの均一化を図ることができる。
本第1および第2の発明において、上記重金属付着工程は、重金属の板体を載置させる載置部を有するステージ上で、該板体にウエーハを重ね合せて行うことができ、これにより、簡単かつ確実に重金属をウエーハに平面接触させることができる。この場合、前記ステージに吸引手段を付設し、該吸引手段により重金属の板体を通じてウエーハを吸引し、該板体に吸着させるようにしてもよく、この場合は、より確実に重金属をウエーハに平面接触させることができる。
本発明は、上記重金属付着工程を、ウエーハ薄板化工程の後に設定するようにしてもよく、この場合は、重金属の拡散距離を短くできる分、熱処理温度を下げることができ、これによって熱処理に要するエネルギーコストが低減する。また、半導体製造プロセス全体の熱履歴に制約がある場合にも、これを回避することができる。
本発明はさらに、上記重金属付着工程の前または後に、ウエーハにイオンまたは電子線を照射する照射工程を設定するようにしてもよい。ウエーハにイオンまたは電子線を照射して、シリコン結晶内に欠陥を生じさせてライフタイムを制御することは従来より行われており、所望により、このイオンまたは電子線の照射を追加的に行うことで、ライフタイムをより広範に制御することが可能になる。
第1の発明によれば、ウエーハにライフタイムキラーとなる重金属を平面接触させるだけで、簡単かつ確実にウエーハ内に重金属を低濃度に導入できるので、製造性の悪化を招くことはなくなる。
また、第2の発明によれば、上記第1の発明の効果に加え、ウエーハ内にライフタイムキラーとなる重金属を選択的にかつ低コストで導入できるので、性能的に優れた半導体装置を安定して得ることができる。
また、第2の発明によれば、上記第1の発明の効果に加え、ウエーハ内にライフタイムキラーとなる重金属を選択的にかつ低コストで導入できるので、性能的に優れた半導体装置を安定して得ることができる。
以下、本発明を実施するための最良の形態を添付図面に基づいて説明する。
図1は、本発明に係る半導体装置の製造方法の一つの実施形態である製造工程を示したものである。本実施形態は、基板の厚さ方向に電流が流れる、後述のトランジスタ1(図2)を製造しようとするもので、このトランジスタ1の基板となるウエーハを製造するウエーハ製造工程A、トランジスタ1を前記ウエーハに形成するデバイス工程B、トランジスタ1が形成されたウエーハ2(図3、4)の背面を研削して薄板化するウエーハ薄板化工程C、薄板化されたウエーハ2の裏面に重金属の微粒子を付着させる重金属付着工程D、重金属の微粒子を付着させたウエーハ2を加熱して重金属をウエーハ2の内部に熱拡散させる熱処理工程E、ウエーハ2の裏面に電極(コレクタ電極)を形成する裏面電極形成工程Fおよびダイシング、マウンティング、ボンディング、シーリング等を含む組立工程Gから概略構成されている。
ウエーハ2に形成するトランジスタ1は、ここでは絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(IGBT)となっており、図2に示されるように、表面側にゲート絶縁膜3とエミッタ層4とを備えると共に、裏面側にコレクタ層5を備えている。また、ゲート絶縁膜3上にはゲート電極6が、エミッタ層4上にはエミッタ電極7が、コレクタ層5上にはコレクタ電極8がそれぞれ形成されている。本実施形態において、上記デバイス工程Bは表面側にゲート電極6およびエミッタ電極7を形成して終了し、この段階では、裏面側のコレクタ電極8は存在しない。上記ウエーハ薄板化工程Cにおいては、前記デバイス工程を終えたウエーハ2の裏面側のコレクタ層5を研削してウエーハ2の全体を薄板化する。この場合、ウエーハ2の薄板化方法は任意であり、例えば、電極6,7を含むウエーハ2の表面に保護テープを貼付けて反転し、研削砥石で裏面を研削する方法を採用することができる。なお、薄板化されたウエーハ2の厚さは、一例として400μm程度となっている。
本実施形態において、上記重金属付着工程Dは、図3および4に示すようにステージ10を利用して行われる。このステージ10は、重金属の板体20を載置させる載置部(段部)11を開口端部内周に有する箱形のステージ本体12とこのステージ本体12の内部を配管13を通じて排気する吸引手段14と、配管13内の管路を吸引手段14と大気側とに切り換える切換弁15とを備えている。ステージ本体12の、載置部11より開口端側の筒状部分16は、重金属の板体20を嵌合可能な大きさを有しており、これにより重金属の板体20は、該筒状部分16によって水平方向へ拘束された状態で載置部11に載置可能となる。
ここで、重金属の板体20の表面側の中央部には凹部21が形成されており、該板体20は、前記凹部21の周りの環状表面22がウエーハ2との接触面となっている。また、この板体20には、前記環状表面22から裏面側に貫通する細孔23が多数穿設されている。この細孔23の存在により、上記吸引手段14によりステージ本体12内を排気すると、該細孔22を通じてウエーハ2が吸引されて重金属の板体20の環状表面22に吸着される。この吸着に応じて重金属の板体20とウエーハ2とが密に平面接触するようになる。
重金属付着に際しては、ライフタイムキラーとして導入する重金属の種類に応じて、例えばAu、Pt、Fe、Cu、Ni等からなる板体20を用意し、これを上記ステージ10の載置部11に載置する。次に、上記ウエーハ薄板化工程Cを終えたウエーハ2を前記ステージ10上の重金属の板体20に重ね合せ、続いて配管13中の切換弁15を吸引手段14側に切換えてステージ本体12の内部を排気する。すると、重金属の板体20に設けた細孔23を通じてウエーハ2が吸引されて該板体20に吸着され、板体20の環状表面22とウエーハ2とが平面接触する。そして、この平面接触を適当時間(一例として、5秒程度)維持したら、切換弁15を大気側へ切換えてステージ本体12の内部を大気に開放し、これによりステージ10上からのウエーハ2の取外しが可能になる。
上記重金属の板体20とウエーハ2との平面接触により、板体20を形成する重金属の微粒子が原子レベルでウエーハ2の裏面に付着する。この場合、板体20の環状表面22だけがウエーハ2に平面接触しているため、ウエーハ2における重金属の付着領域は前記環状表面22を転写したリング形状となる。
上記重金属付着工程Dを終えたウエーハ2は、ステージ10上から切離されて熱処理工程Eに搬入される。熱処理は、例えば、複数枚のウエーハ2をボートに載せて炉心管内に装入して行われる。この熱処理によって、ウエーハ2の裏面に微粒子として付着していた重金属がウエーハ2の内部に熱拡散し、これによってライフタイムキラーがウエーハ2の内部に導入される。このとき、上記したようにウエーハ2における重金属の付着領域がリング形状となっているため、重金属の熱拡散はウエーハ2の周辺部を中心に起こり、したがってウエーハ2の周辺部で重金属濃度が高くなる。
本実施形態において、ウエーハ製造工程Aおよびデバイス工程Bを経て製造されたウエーハ2は、周辺部のライフタイムが中心部より長くなっていることが事前にわかっており、前記したウエーハ2の周辺部に対する重金属の選択的導入によって、ウエーハ面内のライフタイムが均一化される。一方、ウエーハ2に対する重金属の付着量は、上記した平面接触によりわずかとなっているので、ウエーハ2の内部に熱拡散される重金属は低濃度範囲に制限される。本実施形態においては特に、ウエーハ2の厚さが、事前のウエーハ薄板化工程Bで十分に薄くなっているので、熱処理温度を低くすることができる(一例として、400℃程度)と共に、熱処理時間を短くすることができ、その分、熱処理に要するエネルギーコストは低減する。
その後、上記した裏面電極形成工程Fにおいてウエーハ2の裏面にコレクタ電極8(図2)を形成し、最終的に組立工程Gを経て半導体装置は完成する。このようにして得られた半導体装置のライフタイムは、図5の中段に示されるように短い水準で均一化しており、この結果、スナップバックの発生が防止されることはもちろん、所望の半導体性能が確保される。因みに、周辺部のライフタイムが中心部よりも長い傾向にあるウエーハに対し、その裏面に全面的に重金属を付着させて熱処理を行った場合は、図5の上段に示されるように、ライフタイムの分布がウエーハ面内で不均一な状態が維持されることとなる。
なお、上記実施形態においては、重金属の板体20に細孔23を設けて、該細孔23を通じてウエーハ2を板体20に吸着するようにしたが、重金属の板体20を、例えば、焼結体のような多孔質材から形成する場合は、前記細孔23は不要となる。また、上記実施形態においては、製造すべき半導体装置としてIGBTを例示したが、この半導体装置の種類は任意であり、PINダイオード、バイポーラトランジスタ、MOS電界効果トランジスタ(MOSFET)等であってもよい。
ここで、周辺部が中心部よりもライフタイムが短い傾向にあるウエーハを対象にする場合は、重金属の板体として、その中心部のみにウエーハとの接触面を有するものを用いるようにする。すなわち、図3、4に示される板体20において、その凹部21と環状表面22とを内・外逆の配置にした板体を用いるようにする。
また、重金属の板体は、ライフタイムキラーの導入対象であるウエーハの面内のライフタイム分布に応じて種々の形状(パターン)としてもよいことはもちろんである。さらに、ウエーハの部位によってライフタイムに差がない場合は、ウエーハの裏面全体に重金属の板体を接触させるようにする。
本発明はまた、板体の組成を変更することで、重金属の付着量を任意に調整し、あるいは複数の重金属を同時に導入することも可能である。さらに、板体の形状を変更することで、ウエーハ面内で積極的にライフタイム分布に変化をつけることも可能である。
本発明は、上記重金属付着工程Dの前または後に、ウエーハにイオンまたは電子線を照射するなどの他のライフタイム制御工程を設定するようにしてもよく、この場合は、ライフタイムをより広範に制御することが可能になる。
1 NPN型トランジスタ
2 ウエーハ
10 ステージ
14 吸引手段
20 重金属の板体
21 凹部
22 環状表面
23 細孔
2 ウエーハ
10 ステージ
14 吸引手段
20 重金属の板体
21 凹部
22 環状表面
23 細孔
Claims (6)
- ライフタイムキラーとしての重金属をウエーハに平面接触させて、該ウエーハの一面に重金属の微粒子を付着させる重金属付着工程と、前記重金属付着工程を終えたウエーハを加熱して、該ウエーハ内部に重金属を熱拡散させる熱処理工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 重金属付着工程において、重金属を任意のパターンでウエーハに接触させることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 重金属付着工程を、重金属の板体を載置させる載置部を有するステージ上で、該板体にウエーハを重ね合せて行うことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- ステージに吸引手段を付設し、該吸引手段により重金属の板体を通じてウエーハを吸引し、該板体に吸着させることを特徴とする請求項2または3に記載の半導体装置の製造方法。
- 重金属付着工程を、ウエーハ薄板化工程の後に設定することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 重金属付着工程の前または後に、ウエーハにイオンまたは電子線を照射する照射工程を設定することを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006145781A JP2007317883A (ja) | 2006-05-25 | 2006-05-25 | 半導体装置の製造方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2012169053A1 (ja) * | 2011-06-09 | 2012-12-13 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
-
2006
- 2006-05-25 JP JP2006145781A patent/JP2007317883A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
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WO2012169053A1 (ja) * | 2011-06-09 | 2012-12-13 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP5630579B2 (ja) * | 2011-06-09 | 2014-11-26 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
US9064711B2 (en) | 2011-06-09 | 2015-06-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Semiconductor device and method for fabricating semiconductor device |
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