JP2007293306A - ネガ型感放射線性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明者らは、フォトアプリケーションに好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を既に提案している(特許文献1参照)。この組成物を用いれば、銅、金等の基板上に高精度なバンプを形成することができる。
(1)均一な厚みの塗膜が形成できること。
(2)鋳型となるパターンの側壁が垂直に近く、パターンがマスク寸法に忠実であること。
(3)工程の生産効率を高めるために、高感度で現像性に優れていること。
(4)メッキ液に対する良好な濡れ性を有していること。
(5)メッキ時にレジスト成分がメッキ液中に溶出してメッキ液を劣化させることがないこと。
(6)メッキ時にメッキ液が基板とレジストとの界面にしみ出さないように、基板に対して高い密着性を有すること。
(7)メッキ後は、剥離液により容易に剥離されること。
近年、LSIのダウンサイジング化に伴い、狭ピッチにおいても高さのバラツキが少ないバンプが必要とされており、このようなバンプを形成するためには、狭ピッチにおいて低電流密度かつ長時間のメッキ処理が必要であるとされている。しかしながら、上記の組成物から樹脂膜を形成してバンプを形成する場合、メッキ液に長時間浸漬すると、レジストパターンが膨潤してパターンと基板との界面にメッキ液がしみ出したり、また、光に対して感度良く硬化する反面、解像性が悪いという問題があった。
(A)下記式(1)で表される構造単位および下記式(2)で表される構造単位を含有する重合体、
(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および
(C)感放射線性ラジカル重合開始剤
を含有することを特徴とする。
式(1)中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2は炭素数6〜12の直鎖状、環状もしくは芳香族の炭化水素基、またはこれらの基の少なくとも1つの水素原子が炭化水素基に置換された置換炭化水素基を表し、R4は−(CnH2n)−基を表わし、mは1〜10の整数であり、nは2〜4の整数である。
本発明に係るメッキ造形物の製造方法は、
(1)バリアメタル層を有するウェハー上に、前記に記載のネガ型感放射線性樹脂組成物から形成される樹脂膜を形成する工程、
(2)上記樹脂膜を露光した後に現像してパターンを形成する工程、
(3)上記パターンを鋳型として、電解メッキにより電極材料を析出させる工程、および(4)残存する樹脂膜を剥離した後、バリアメタルをエッチングにより除去する工程を含むことを特徴とする。
本発明に係るネガ型感放射線性樹脂組成物は、(A)下記式(1)で表される構造単位および下記式(2)で表される構造単位を含有する重合体、(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および(C)感放射線性ラジカル重合開始剤を含有する。
<重合体(A)>
本発明に用いる重合体(A)は上記式(1)で表される構造単位および上記式(2)で表される構造単位を含有する重合体である。
上記式(1)の構造は、例えば、下記式で表される単量体(1’)を用いて重合体(A)を重合することにより得ることができる。
上記炭素数6〜12の環状炭化水素基としては、たとえば、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基;アダマンタン、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンなどの有橋式炭化水素類に由来する基などが挙げられる。
また、重合体(A)が上記式(2)で表される構造単位を含有することで、メッキ時のレジストの膨潤を抑え、その結果、レジストの浮きや剥れが発生せず、長時間のメッキ時にメッキ液が基板とレジストとの界面にしみ出すことをより防ぐ効果がある。また、硬化膜の架橋密度を抑えることができ、解像性を良好にする効果がある。
上記式(2)の構造は、例えば、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−イソプロペニルフェノールなどの水酸基含有芳香族ビニル化合物(以下、「単量体(2’)」という。)を用いて重合体(A)を重合することにより得ることができる。
物が得られる点で、p−ヒドロキシスチレン、p−イソプロペニルフェノールが好ましく、p−イソプロペニルフェノールがより好ましい。
≪単量体(I)≫
重合体(A)は、さらに、単量体(1’)および(2’)と共重合可能なその他の単量体(以下、「単量体(I)」という。)から誘導される構成単位を含有することができる。
スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレンなどの芳香族ビニル化合物;
N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタムなどのヘテロ原子含有脂環式ビニル化合物;
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノ基含有ビニル化合物;
1.3−ブタジエン、イソプレンなどの共役ジオレフィン類;
アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基含有ビニル化合物;
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステル類;
p−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
重合体(A)の重合は、例えば、ラジカル重合によって行うことができる。また、重合方法としては、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法、塊状重合法などが挙げられるが、特に溶液重合法が好ましい。
重合体(A)を製造する際に用いられる重合開始剤としては、通常のラジカル重合開始剤を用いることができる。
ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、tert−ブチルペルオキシピバレート、1,1’−ビス−(tert−ブチルペルオキシ)シクロヘキサンなどの有機過酸化物および過酸化水素などが挙げられる。また、前記有機過酸化物をラジカル重合開始剤に使用する場合には、還元剤を組み合わせてレドックス型の開始剤としてもよい。
また、重合体(A)を溶液重合法で製造する際に用いられる重合溶媒としては、使用される単量体成分と反応せず、生成する重合体を溶解するものであれば特に限定されるものでない。
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどの多価アルコールのアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、ジアセトンアルコールなどのケトン類;
酢酸エチル、酢酸ブチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類が挙げられる。
上記ラジカル共重合で得られる重合体(A)の重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマト法により測定され、ポリスチレン換算で通常1,000〜100,000であり、好ましくは2,000〜50,000、より好ましくは3,000〜20,000の範囲である。
本発明に用いられる化合物(B)は、分子中にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する常温で液体または固体の化合物である。化合物(B)としては、(メタ)アクリロイル基を持つ(メタ)アクリレート化合物、またはビニル基を持つ化合物が好ましく用いられる。前記(メタ)アクリレート化合物は、単官能性化合物と多官能性化合物に分類されるが、いずれの化合物も用いることができる。
(メタ)アクリレート、ドデシルアミル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカジエニル(メタ)アクリレート、トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカニル(メタ)アクリレート、トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デセニル(メタ)
アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、tert−オクチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、エチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、(メタ)アクリロニトリルなどが挙げられる。
機化学工業(株)製)などが挙げられる。
化合物(B)の使用量は、アルカリ可溶性を有する重合体(A)100重量部に対して、通常30〜80重量部、好ましくは40〜70重量部である。化合物(B)の量が上記の範囲内であると、得られる感放射線性樹脂膜の露光時の感度が良好で、かつ、前記重合体(A)との相溶性に優れ、塗液の保存安定性が向上する。
本発明に用いられる感放射線性ラジカル重合開始剤(C)とは、放射線の照射により、ラジカルを発生し、前記のエチレン性不飽和化合物(B)のラジカル重合を開始させるものである。
(1)該樹脂膜のi線(365nmの放射線)の透過率が、好ましくは10%以上、より好ましくは12〜30%であり、かつ
(2)該樹脂膜のh線(405nmの放射線)の透過率が好ましくは60%以上、より好ましくは65〜80%であること。
になる。
まず、前記(A)重合体、(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と、(C)感放射線性ラジカル重合開始剤とを所定の量で含有する組成物の乳酸エチル溶液(65重量%)を調製し、スピンコート法で、厚さ1mmの石英基板上に樹脂膜を形成し、その後、ホットプレートにて120℃で5分間ベークして、溶媒を除去し、塗布膜を形成する。なお、この場合予めベーク後における塗布膜の膜厚が70μmとなるように、スピンコート時の回転数をコントロールする。
(1)365nmの放射線について15000m-1以下の吸光係数、かつ
(2)405nmの放射線について4000m-1以下の吸光係数
となる組成物であることが好ましい。
り求めることができる(ここで、εは吸光係数(m-1)、Iは樹脂膜を透過した直後の光の強さ(cd)、I0は樹脂膜を透過する前の光の強さ(cd)、Lは樹脂膜の乾燥膜厚
(m)を示す)。
本発明の樹脂組成物は必要に応じて有機溶媒を含有していてもよい。有機溶媒(D)としては、重合体(A)および各成分を均一に溶解させることができ、また各成分と反応しないものが用いられる。このような有機溶媒としては、重合体(A)を製造する際に用いられる重合溶媒と同様の溶媒を用いることができる。また、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどの高沸点溶媒も用いることができる。
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類;
3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルなどのエステル類;
ジアセトンアルコールなどのケトン類が好適である。
<その他の成分>
本発明に係るネガ型感放射線性樹脂組成物には、その他に、必要に応じて、熱重合禁止剤、界面活性剤、接着助剤、その他添加剤を使用することができる。
また、本発明の感放射線性樹脂組成物には、熱重合禁止剤を含有させることができる。このような熱重合禁止剤としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、tert−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メチルヒドロキノン、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、n−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル、4,4’−(1−メチルエチリデン)ビス(2−メチルフェノール)、4,4’−(1−メチルエチリデン)ビス(2,6−ジメチルフェノール)、4,4’−[1−〔4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル〕エチリデン]ビスフェノール、4,4’,4”−エチリデントリス(2−メチルフェノール)、4,4’,4”−エチリデントリスフェノール、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパンなどを挙げることができる。これら化合物の使用量は、重合体(A)100重量部に対して、好ましくは5重量部以下である。
また、本発明に係る感放射線性樹脂組成物には、塗布性、消泡性、レベリング性などを向上させる目的で界面活性剤を含有させることもできる。
ー社製)、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183(以上、大日本インキ化学工業(株)製)、フロラードFC−135、同FC−170C、同FC−430、同FC−431(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−112、同S−113、同S−131、同S−141、同S−145(以上、旭硝子(株)製)、SH−28PA、同−190、同−193、SZ−6032、SF−8428(以上、東レダウコーニングシリコーン(株)製)などが挙げられる。これらの中ではFTX−216D,FTX−218、FTX−220Dが好ましい。
≪接着助剤≫
本発明の感放射線性樹脂膜に、チップ基材との接着性を向上させるために接着助剤を使用することもできる。接着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましい。
ンなどが挙げられる。
≪その他添加剤≫
また、本発明の感放射線性樹脂膜を形成する際に、アルカリ現像液に対する溶解性の微調整を行うため、
酢酸、プロピオン酸、n−酪酸、iso−酪酸、n−吉草酸、iso−吉草酸、安息香酸、けい皮酸などのモノカルボン酸;
乳酸、2−ヒドロキシ酪酸、3−ヒドロキシ酪酸、サリチル酸、m−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシけい皮酸、3−ヒドロキシけい皮酸、4−ヒドロキシケイ皮酸、5−ヒドロキシイソフタル酸、シリンギン酸などのヒドロキシモノカルボン酸;
シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、1,2,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸などの多価カルボン酸;
無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス無水トリメリテート、グリセリントリス無水トリメリテートなどの酸無水物;
を塗布液に添加することもできる。
充填材としては、シリカ、アルミナ、タルク、ベントナイト、ジルコニウムシリケート、粉末ガラスなどが挙げられる。着色剤としては、アルミナ白、クレー、炭酸バリウム、硫酸バリウムなどの体質顔料;亜鉛華、鉛白、黄鉛、鉛丹、群青、紺青、酸化チタン、クロム酸亜鉛、ベンガラ、カーボンブラックなどの無機顔料;ブリリアントカーミン6B、パーマネントレッド6B、パーマネントレッドR、ベンジジンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどの有機顔料;マゼンタ、ローダミンなどの塩基性染料;ダイレクトスカーレット、ダイレクトオレンジなどの直接染料;ローセリン、メタニルイエローなどの酸性染料が挙げられる。
これら添加剤の使用量は、本発明の目的を損なわない範囲内であればよく、好ましくは、前記成分(A)、(B)、(C)の合計量を100重量%としたときに50重量%以下である。
(1)バリアメタル層を有するウェハー上に、上記のネガ型感放射線性樹脂組成物からなる樹脂膜を形成する工程、
(2)上記樹脂膜を露光した後に現像してパターンを形成する工程、
(3)上記パターンを鋳型として、電解メッキにより電極材料を析出させる工程、および(4)残存する樹脂膜を剥離した後、バリアメタルをエッチングにより除去する工程
を含むことを特徴とする。
本発明に係る転写フィルムは、支持フィルムを剥離して、ネガ型感放射線性樹脂膜とすることができる。上記樹脂膜は、本発明に係る組成物と同様にメッキ造形物の製造に使用することができる。
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
<重合体A1の合成>
窒素置換したドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコ中に、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル5.0g、乳酸エチル150gを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。この溶液に、メタクリル酸(10g)、p−イソプロペニルフェノール(15g)、イソボルニルアクリレート(40g)、n−ブチルアクリレート(5g)、トリシクロ(5.2.1.02,6)デカニルメタクリレート(15g)、フェノキシトリプ
ロピレングリコールアクリレート(15g)を仕込み、ゆるやかに攪拌を開始し、80℃まで昇温した。その後、80℃で6時間重合を行った。
<重合体A2〜A9および比較例CA1〜CA4の合成>
下記表1の組成に従い、化合物の種類と量を変更した他は合成例1の重合体A1の合成と同様にして、重合体A2〜A9およびCA1〜CA4を合成した。
窒素置換したドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコ中に、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル5.0g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
(PGMEA)150gを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。この溶液に、メタクリル酸(10g)、p−イソプロペニルフェノール(15g)、イソボロニルアクリレート(40g)、n−ブチルアクリレート(5g)、トリシクロ(5.2.1.02,6
)デカニルメタクリレート(15g)、フェノキシトリプロピレングリコールアクリレート(15g)を仕込み、ゆるやかに攪拌を開始し、80℃まで昇温した。その後、80℃で6時間重合を行った。
<樹脂組成物の調整>
重合体A1(100g)、エチレン性不飽和化合物(B)として東亜合成(株)アロニックスM8100(60g)、東亜合成(株)アロニックスM320(10g)、感放射線性ラジカル重合開始剤(C)として2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール(4g)、2−メチル−1−〔
4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モンフォリノプロパノン−1(10g)、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(0.2g)、界面活性剤として(株)ネオス製FTX−218(0.3g)、溶媒として乳酸エチル(150g)を混合し
、攪拌して均一な溶液を調製した。この成物溶液を、孔径10μmのカプセルフィルターでろ過して感放射線性樹脂組成物を得た。
〔実施例2〜11および比較例1〜4〕
表2に従い、組成を変更した以外は実施例1と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製した。
<樹脂組成物の調整>
重合体A10(100g)、溶媒としてPGMEA(150g)を用いた以外は実施例1と同様にして感放射線性樹脂組成物を得た。
金スパッタ基板にスピンコーターを用いて、上記の樹脂組成物を塗布した後、ホットプレート上で、110℃で5分間加熱して、厚さ25μmの樹脂膜を形成した。次いで、パターンマスクを介し、超高圧水銀灯(OSRAM社製HBO、出力1,000W)を用いて、300〜1000mJ/cm2の紫外光を照射した。露光量は、照度計〔(株)オー
ク製作所製UV−M10(照度計)にプローブUV−42(受光器)をつないだもの〕により確認した。現像液として2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて室温で現像したのち、流水洗浄し、窒素ブローしてレジストパターンを形成した。以下、このレジストパターンを形成した基板を、「パターニング基板」という。
パターニング基板に対して、電解メッキの前処理として、酸素プラズマによるアッシング処理(出力100W、酸素流量100ミリリットル、処理時間1分)を行って、親水化処理を行った。次いで、この基板を、メッキ液として日本高純度化学株式会社製テンペレジストEXを用い、60℃、0.5A/dm2、50分間または75分間で電解銅メッキ
し、高さ15μmのバンプを形成した。その後、剥離液としてTHB−S2(JSR社製)を用い、50℃で10分間攪拌しながら浸漬して樹脂膜を剥離し、メッキ造形物を有する基板を得た。以下、このメッキ造形物を有する基板を、「メッキ基板」という。
前記パターニング基板を走査型電子顕微鏡により1000倍で観察し、解像度を測定した。ここで、解像度とはマスク設計寸法で50μm×50μmの正方形パターンの解像で判断し、レジストの残さが無く解像され、かつレジストパターンの側壁と基板の角度が85〜95°の場合を「○」で、これ以外の場合を「×」とした。
基板との密着性は、前記パターニング基板の断面を走査型電子顕微鏡を用いて1500倍で観察することにより評価した。
<メッキ液濡れ性の評価>
メッキ液に対する濡れ性は、パターニング基板をメッキ液に浸漬したとき、パターニング基板表面がメッキ液に対して親和性を有し、パターン内部の気泡が完全に抜けることによってメッキの欠陥が発生しないことを基準とし、メッキ基板を光学顕微鏡で10倍で観察することにより評価した。
メッキ液耐性は、パターニング基板をメッキ液に浸漬してバンプを形成した後、流水洗浄し、窒素ガスにてブローして乾燥した基板(樹脂膜部分を剥離していない基板)を光学顕微鏡にて基板表面を観察して評価した。レジスト開口部周辺や基板端部でレジストの浮きが観察されない場合を「○」、レジストの浮きや剥れが観察される場合を「×」とした。この際、50分の浸漬試験をメッキ浸漬時間(短)、75分の浸漬試験をメッキ浸漬時間(長)とした。
剥離性の評価は、メッキ後にレジスト硬化膜を剥離した被試験体を走査型電子顕微鏡で1500倍で観察して行った。
これらの評価結果を表3にまとめて示す。
Claims (9)
- 上記ネガ型感放射線性樹脂組成物がメッキ造形物製造用ネガ型感放射線性樹脂組成物であることを特徴とする請求項1または2に記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。
- 上記メッキ造形物がバンプであることを特徴とする請求項3に記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。
- 前記重合体(A)100重量部に対して、前記化合物(B)が30〜80重量部含まれることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。
- 前記重合体(A)100重量部に対して、前記感放射線性ラジカル重合開始剤(C)が1〜40重量部含まれることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。
- 上記組成物が有機溶媒(D)をさらに含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物。
- 支持フィルムと、該支持フィルム上に請求項1〜7のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物から形成される樹脂膜とを有することを特徴とする転写フィルム。
- (1)バリアメタル層を有するウェハー上に、請求項1〜7のいずれかに記載のネガ型感放射線性樹脂組成物から形成される樹脂膜を形成する工程、
(2)上記樹脂膜を露光した後に現像してパターンを形成する工程、
(3)上記パターンを鋳型として、電解メッキにより電極材料を析出させる工程、および
(4)残存する樹脂膜を剥離した後、バリアメタルをエッチングにより除去する工程を含むことを特徴とするメッキ造形物の製造方法。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009042720A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP2009192613A (ja) * | 2008-02-12 | 2009-08-27 | Jsr Corp | ネガ型感放射線性樹脂組成物 |
KR20110020871A (ko) | 2008-07-01 | 2011-03-03 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 네가티브형 감방사선성 수지 조성물 |
JP2012137660A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Jsr Corp | 隔壁形成用感光性組成物、電子ペーパー用隔壁の形成方法、電子ペーパー用隔壁及び電子ペーパー。 |
JP2015087429A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びレジストパターンの形成方法 |
WO2016017191A1 (ja) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | Jsr株式会社 | 表示素子、感光性組成物およびエレクトロウェッティングディスプレイ |
CN105393171A (zh) * | 2013-07-23 | 2016-03-09 | 日立化成株式会社 | 投影曝光用感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法、印刷配线板的制造方法和引线框的制造方法 |
US9625706B2 (en) | 2014-07-31 | 2017-04-18 | Jsr Corporation | Display element, photosensitive composition and electrowetting display |
US9784965B2 (en) | 2014-03-04 | 2017-10-10 | Jsr Corporation | Display element, photosensitive composition and electrowetting display |
KR20230019012A (ko) | 2021-07-30 | 2023-02-07 | 후지필름 가부시키가이샤 | 전사 필름 및 도체 패턴을 갖는 적층체의 제조 방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05341521A (ja) * | 1992-04-06 | 1993-12-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメントおよびめっきレジストの製造法 |
JP2004302389A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Jsr Corp | 感光性樹脂膜およびこれからなる硬化膜 |
-
2007
- 2007-03-27 JP JP2007081862A patent/JP4765974B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05341521A (ja) * | 1992-04-06 | 1993-12-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメントおよびめっきレジストの製造法 |
JP2004302389A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Jsr Corp | 感光性樹脂膜およびこれからなる硬化膜 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009042720A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP2009192613A (ja) * | 2008-02-12 | 2009-08-27 | Jsr Corp | ネガ型感放射線性樹脂組成物 |
KR20110020871A (ko) | 2008-07-01 | 2011-03-03 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 네가티브형 감방사선성 수지 조성물 |
US8178279B2 (en) | 2008-07-01 | 2012-05-15 | Jsr Corporation | Negative radiation-sensitive resin composition |
JP2012137660A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Jsr Corp | 隔壁形成用感光性組成物、電子ペーパー用隔壁の形成方法、電子ペーパー用隔壁及び電子ペーパー。 |
CN105393171A (zh) * | 2013-07-23 | 2016-03-09 | 日立化成株式会社 | 投影曝光用感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法、印刷配线板的制造方法和引线框的制造方法 |
CN105393171B (zh) * | 2013-07-23 | 2019-11-26 | 日立化成株式会社 | 投影曝光用感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法、印刷配线板的制造方法和引线框的制造方法 |
CN104678700A (zh) * | 2013-10-28 | 2015-06-03 | 日立化成株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性元件以及抗蚀图案的形成方法 |
JP2015087429A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びレジストパターンの形成方法 |
US9784965B2 (en) | 2014-03-04 | 2017-10-10 | Jsr Corporation | Display element, photosensitive composition and electrowetting display |
WO2016017191A1 (ja) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | Jsr株式会社 | 表示素子、感光性組成物およびエレクトロウェッティングディスプレイ |
US9625706B2 (en) | 2014-07-31 | 2017-04-18 | Jsr Corporation | Display element, photosensitive composition and electrowetting display |
JPWO2016017191A1 (ja) * | 2014-07-31 | 2017-04-27 | Jsr株式会社 | 表示素子、感光性組成物およびエレクトロウェッティングディスプレイ |
US9753274B2 (en) | 2014-07-31 | 2017-09-05 | Jsr Corporation | Display element, photosensitive composition and electrowetting display |
KR20230019012A (ko) | 2021-07-30 | 2023-02-07 | 후지필름 가부시키가이샤 | 전사 필름 및 도체 패턴을 갖는 적층체의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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