JP2007284794A - 膜の堆積/エッチング特性を変えるための磁気フィルタ装置を備えたプラズマ・システム - Google Patents
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- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims abstract description 61
- 238000005530 etching Methods 0.000 title abstract description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 56
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 3
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 0 CC1(CC**NI)C(C2)CCCC2C1 Chemical compound CC1(CC**NI)C(C2)CCCC2C1 0.000 description 1
- 229910019001 CoSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021140 PdSi Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004836 empirical method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical group 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 238000005478 sputtering type Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
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- H—ELECTRICITY
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32623—Mechanical discharge control means
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
- H01J37/3408—Planar magnetron sputtering
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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Abstract
【解決手段】磁気フィルタ装置が磁石または磁石群とターゲット(通常では半導体ウェハ)の間に配置され、望ましい処理結果を得るために磁場を変えるために選択され、構成される。堆積ごとに、この磁気フィルタはより均一な堆積を供給するように、後に続くエッチングまたは研磨処理におけるウェハのエッジでの増大したエッチング速度を補償するためにウェハのエッジまたは隣接部で増大した堆積速度を供給するように選択される。アニール処理とドーピングに関して、磁場はウェハ全域にわたってより均一で同等のアニール処理またはドーピングを供給するように変える。様々な応用が開示される。
【選択図】図5
Description
a.単一または多成分のターゲットごとにスパッタ速度が変わる。磁場を全体的に変える処理がプラズマの電圧を変え、これが今度は各々の元素のスパッタ速度を変える。これは結果として異なったスパッタ膜組成と同等のパラメータ変化となる。
b.プラズマによる損傷の削減。ウェハ全域にわたってより均一な磁場を作ることにより、プラズマの電圧を下げることができ、それゆえにプラズマによる損傷を削減するように処理を最適化することが可能である。
c.半径方向の磁場均一性が変わる。例は、ウェハのエッジでのCMP(化学的機械的研磨)で増大する浸食を補償するためにウェハのエッジにおいてさらに厚い堆積を望む場合である。同様に、ウェハのエッジにおいて増大したエッチング速度を補償することが可能である。
d.プラズマ・アニール処理。ウェハ全域にわたる均一で等価のアニール処理のために不均一なプラズマを作り、または改良する工程。
e.プラズマ・ドーピング。ウェハ全域にわたる均一で等価のドーピングのために不均一なプラズマを作り、または改良する工程。
f.スパッタ・ターゲットからの増大したスパッタ収率、それにより、処理所有コストを削減する。
Claims (16)
- 真空チャンバと、
処理されるワークピースを保持するための前記チャンバの中のワークピース・ホルダと、
前記ワークピース・ホルダの面に隣り合う電極と、
前記電極が磁石と前記ワークピース・ホルダの間に位置することで前記磁石と前記ワークピース・ホルダの間に磁場を供給するように前記電極の面に隣り合って配置された1つまたは複数の磁石と、
前記磁石と前記電極の間に配置された磁気フィルタを含み、
前記磁気フィルタが、所定のワークピース処理結果を達成するために、ワークピース処理を変えるように前記電極と前記ワークピース・ホルダ上のワークピースの間の前記磁場を変えるために選択され、構成されるプラズマ・システム。 - 前記ワークピースが半導体ウェハである請求項1に記載のシステム。
- 前記電極がスパッタ堆積のためのターゲット材料を含み、前記磁気フィルタが、半導体ウェハの表面上へより均一にターゲット材料を堆積するために前記ターゲット材料と前記ワークピース・ホルダ上の半導体ウェハとの間の前記磁場を変えるために選択され、構成される請求項2に記載のシステム。
- 前記電極が堆積のためのターゲット材料を含み、前記磁気フィルタが、前記半導体ウェハの他の領域よりも前記ワークピースのエッジに隣接する前記半導体ウェハの表面にターゲット材料がより多く堆積させるように、前記ターゲット材料と前記ワークピース・ホルダ上の半導体ウェハの間の前記磁場を変えるために選択され、構成される請求項2に記載のシステム。
- 前記磁気フィルタが、半導体ウェハの表面をより均一な同等のアニール処理となるように前記電極と前記ワークピース・ホルダ上の半導体ウェハの間の前記磁場を変えるために選択され、構成される請求項2に記載のシステム。
- 前記磁気フィルタが、半導体ウェハの表面をより均一な同等のアニール処理となるように前記ターゲット材料と前記ワークピース・ホルダ上の半導体ウェハの間の前記磁場を変えるために選択され、構成される請求項2に記載のシステム。
- 前記磁石が前記真空チャンバの外にあり、実質的に前記ワークピース・ホルダの軸と位置合わせされた軸の周囲での回転するように配置される請求項1に記載のシステム。
- 前記磁気フィルタが前記真空チャンバの外でかつ前記磁石と前記真空チャンバの間にある請求項7に記載のシステム。
- 前記磁石が前記真空チャンバの外にあり、前記磁気フィルタが前記真空チャンバの外でかつ前記磁石と前記真空チャンバの間にある請求項1に記載のシステム。
- 前記磁気フィルタがCo−Neticフィルタである請求項1に記載のシステム。
- 真空チャンバと、
上に堆積されるワークピースを保持するための前記チャンバの中のワークピース・ホルダと、
前記ワークピース・ホルダの面に隣り合って配置された面を有する、堆積対象のターゲット材料の板と、
前記ターゲット材料が磁石と前記ワークピース・ホルダの間に位置するように前記ターゲット材料の面に隣り合って配置された1つまたは複数の磁石と、
前記磁石と前記ターゲット材料の間に配置された磁気フィルタを含み、
前記磁気フィルタが、前記磁気フィルタを伴わないで達成されるよりもより均一な前記ターゲット材料の堆積をワークピース上に供給するために前記ターゲット材料と前記ワークピース・ホルダ上のワークピースの間の前記磁場を変えるために選択され、構成されるプラズマ・システム。 - 前記ワークピースが半導体ウェハである請求項11に記載のシステム。
- 前記磁石が前記真空チャンバの外にあり、実質的に前記ワークピース・ホルダの軸と位置合わせされた軸の周囲での回転するように配置される請求項11に記載のシステム。
- 前記磁気フィルタが前記真空チャンバの外でかつ前記磁石と前記真空チャンバの間にある請求項13に記載のシステム。
- 前記磁石が前記真空チャンバの外にあり、前記磁気フィルタが前記真空チャンバの外でかつ前記磁石と前記真空チャンバの間にある請求項11に記載のシステム。
- 前記磁気フィルタがCo−Neticフィルタである請求項11に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/407,441 US20070246354A1 (en) | 2006-04-19 | 2006-04-19 | Plasma systems with magnetic filter devices to alter film deposition/etching characteristics |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007284794A true JP2007284794A (ja) | 2007-11-01 |
Family
ID=38618454
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007110407A Pending JP2007284794A (ja) | 2006-04-19 | 2007-04-19 | 膜の堆積/エッチング特性を変えるための磁気フィルタ装置を備えたプラズマ・システム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20070246354A1 (ja) |
JP (1) | JP2007284794A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009179867A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Ulvac Japan Ltd | 平行平板型マグネトロンスパッタ装置、固体電解質薄膜の製造方法、及び薄膜固体リチウムイオン2次電池の製造方法 |
JP2012201971A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Shibaura Mechatronics Corp | 成膜装置 |
WO2020040005A1 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチングする方法及びプラズマ処理装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9922600B2 (en) * | 2005-12-02 | 2018-03-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
US7897495B2 (en) | 2006-12-12 | 2011-03-01 | Applied Materials, Inc. | Formation of epitaxial layer containing silicon and carbon |
US9064960B2 (en) * | 2007-01-31 | 2015-06-23 | Applied Materials, Inc. | Selective epitaxy process control |
JP6401084B2 (ja) * | 2014-05-28 | 2018-10-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板処理装置 |
KR101886755B1 (ko) * | 2017-11-17 | 2018-08-09 | 한국원자력연구원 | 다중 펄스 플라즈마를 이용한 음이온 공급의 연속화 시스템 및 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02277772A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-11-14 | Mitsubishi Kasei Corp | マグネトロンスパッタ装置 |
JPH07166346A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-06-27 | Ulvac Japan Ltd | マグネトロンスパッタリング装置 |
JPH11200041A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-07-27 | Victor Co Of Japan Ltd | 多元マグネトロンスパッタリング装置およびこれに用いるカソード |
JP2001288566A (ja) * | 2000-02-01 | 2001-10-19 | Applied Materials Inc | スパッタリング装置および成膜方法 |
JP2004269952A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Showa Shinku:Kk | マグネトロンスパッタ装置及び方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4534842A (en) * | 1983-06-15 | 1985-08-13 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Process and device for producing a homogeneous large-volume plasma of high density and of low electronic temperature |
US5082542A (en) * | 1990-08-02 | 1992-01-21 | Texas Instruments Incorporated | Distributed-array magnetron-plasma processing module and method |
US5226967A (en) * | 1992-05-14 | 1993-07-13 | Lam Research Corporation | Plasma apparatus including dielectric window for inducing a uniform electric field in a plasma chamber |
US5800619A (en) * | 1996-06-10 | 1998-09-01 | Lam Research Corporation | Vacuum plasma processor having coil with minimum magnetic field in its center |
DE69937948D1 (de) * | 1999-06-21 | 2008-02-21 | Bekaert Advanced Coatings N V | Magnetron mit beweglicher Magnetanordnung zur Kompensation des Erosionsprofils |
US6228236B1 (en) * | 1999-10-22 | 2001-05-08 | Applied Materials, Inc. | Sputter magnetron having two rotation diameters |
US6447651B1 (en) * | 2001-03-07 | 2002-09-10 | Applied Materials, Inc. | High-permeability magnetic shield for improved process uniformity in nonmagnetized plasma process chambers |
DE10232179B4 (de) * | 2002-07-16 | 2009-01-08 | Qimonda Ag | PVD-Verfahren |
-
2006
- 2006-04-19 US US11/407,441 patent/US20070246354A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-04-19 JP JP2007110407A patent/JP2007284794A/ja active Pending
-
2008
- 2008-08-14 US US12/191,505 patent/US20080296143A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02277772A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-11-14 | Mitsubishi Kasei Corp | マグネトロンスパッタ装置 |
JPH07166346A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-06-27 | Ulvac Japan Ltd | マグネトロンスパッタリング装置 |
JPH11200041A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-07-27 | Victor Co Of Japan Ltd | 多元マグネトロンスパッタリング装置およびこれに用いるカソード |
JP2001288566A (ja) * | 2000-02-01 | 2001-10-19 | Applied Materials Inc | スパッタリング装置および成膜方法 |
JP2004269952A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Showa Shinku:Kk | マグネトロンスパッタ装置及び方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009179867A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Ulvac Japan Ltd | 平行平板型マグネトロンスパッタ装置、固体電解質薄膜の製造方法、及び薄膜固体リチウムイオン2次電池の製造方法 |
JP2012201971A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Shibaura Mechatronics Corp | 成膜装置 |
WO2020040005A1 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチングする方法及びプラズマ処理装置 |
JP2020031190A (ja) * | 2018-08-24 | 2020-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチングする方法及びプラズマ処理装置 |
JP7110034B2 (ja) | 2018-08-24 | 2022-08-01 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチングする方法及びプラズマ処理装置 |
US11710643B2 (en) | 2018-08-24 | 2023-07-25 | Tokyo Electron Limited | Method of etching and plasma processing apparatus |
TWI811432B (zh) * | 2018-08-24 | 2023-08-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 蝕刻方法及電漿處理裝置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080296143A1 (en) | 2008-12-04 |
US20070246354A1 (en) | 2007-10-25 |
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