JP2007261909A - 水素精製装置の運転方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の吸着塔1,2,3において吸着、均圧、減圧、洗浄、昇圧の各工程を繰り返しながら、水素リッチガスから水素ガスを精製し、洗浄工程において洗浄用水素ガスを使用して洗浄する圧力スイング吸着法による水素精製装置の運転方法で、吸着塔1,2,3の外部の雰囲気温度を検知し、その検知した雰囲気温度に基づいて洗浄工程で使用する洗浄用水素ガスの流量を制御する。
【選択図】図1
Description
このような問題を解消する方法として、従来、雰囲気温度による影響が大きな昇圧工程に着目し、昇圧工程において昇圧用ガスの流量を制御する流量制御法が知られている。しかし、この流量制御法では、水素ガスの回収率が未だ安定せず、特に雰囲気温度が高い場合には、水素ガスの純度が低下するという問題がある。
具体的には、吸着塔の外部の雰囲気温度が高い場合、吸着剤の吸着性能が低下するとともに、吸着した不純物の脱離も良好に行われず、その状態で水素ガスの精製を続行すると、水素ガスの純度が低下する。
本発明では、雰囲気温度が高い場合、洗浄用水素ガスの流量を増加させるように制御するので、不純物の洗浄が所望どおりに行われ、その結果、水素ガスの純度の低下を抑制することができる。
逆に、雰囲気温度が低い場合には、洗浄用水素ガスの流量を低減させるように制御するので、水素ガスを高純度に維持しながら、洗浄用に使用する水素ガスの低減によって水素ガスの回収率の低下を抑制することができる。
この水素精製装置は、吸着、均圧、減圧、洗浄、昇圧の各工程を繰り返しながら、水素リッチガスから高純度の水素ガスを精製する圧力スイング吸着法による水素精製装置で、図1に示すように、第1から第3までの3つの吸着塔1,2,3を備え、各吸着塔1,2,3は、水素リッチガス供給路4に対してそれぞれ供給用分岐路4a,4b,4cを介して互いに並列に接続され、各供給用分岐路4a,4b,4cには、それぞれ供給用電磁弁5a,5b,5cが設けられている。
水素リッチガス供給路4からは、例えば、13Aなどの都市ガスを原料とし、昇圧した都市ガスから硫黄分をppbレベルにまで除去し、水蒸気改質用の触媒によって水素リッチガスに改質するとともに、変成用の触媒によって水素リッチガス中の一酸化炭素を二酸化炭素に変成し、さらに、余分な水分を除去した後の水素リッチガスが供給される。
さらに、それら吸着塔1,2,3は、均圧用分岐路9a,9b,9cを介して均圧路9に互いに並列に接続され、各均圧用分岐路9a,9b,9cにはそれぞれ均圧用電磁弁10a,10b,10cが設けられている。そして、均圧路9の端部は、第3吸着塔3における排出用分岐路6cとの接続箇所より下流側において水素ガス排出路6に接続され、その接続箇所より上流側の均圧路9には昇圧・洗浄用電磁弁10dが設けられている。
このような構成からなる水素精製装置は、その作動の全てが制御手段14により自動制御され、後述する洗浄工程において使用される洗浄用水素ガスの流量が、吸着塔1,2,3の外部の雰囲気温度、水素リッチガスの温度、および、水素ガスの温度に基づいて制御されるように構成されている。そのため、吸着塔1,2,3の外部近傍に雰囲気温度検出センサS1が、水素リッチガス供給路4に水素リッチガス温度センサS2が、また、水素ガス排出路6に水素ガス温度センサS3が設けられ、各センサS1,S2,S3からの信号が制御手段14に入力されるように構成されている。
水素リッチガス供給路4からの水素リッチガスは、第1〜第3の吸着塔1,2,3のいずれかに供給されて高純度の水素ガスに精製される。
例えば、第1吸着塔1において精製される場合であれば、図3の(イ)に示すように、供給用電磁弁5aの開弁によって第1吸着塔1に水素リッチガスが供給され、加圧下においてその水素リッチガス中に含まれる水、二酸化炭素、一酸化炭素、メタン、窒素などの不純物を吸着剤に吸着させて高純度の水素ガスを精製する吸着工程を実行し、精製された高純度の水素ガスは、排出用電磁弁7aの開弁に伴って排出用分岐路6aと水素ガス排出路6を通って水素ガス貯蔵タンク8へ送られて貯蔵される。
第3吸着塔3においては、上述した均圧工程が終了した後、オフガス電磁弁12cの開弁に伴って減圧工程が実行され、減圧下において吸着剤に吸着された不純物が脱離されて取り除かれ、その不純物を含むオフガスがオフガス用分岐路11cとオフガス排出路11を通ってオフガスタンク13に貯蔵される。その後、図3の(ハ)に示すように、第1吸着塔1からの高純度の水素ガスが、洗浄用水素ガスとして第3吸着塔3に供給されて洗浄工程が実行され、減圧下において吸着剤に吸着された不純物を脱離させて水素ガスで洗浄し、その洗浄工程の実行により発生したオフガスもオフガスタンク13に貯蔵される。
その後、第1吸着塔1においては、均圧工程、昇圧工程が実行され、第2吸着塔2においては、均圧工程、減圧工程、洗浄工程が実行され、そのとき、第3吸着塔3においては、吸着工程が実行される。
各吸着塔1,2,3において、このような各工程が繰り返し実行されて、水素リッチガスから高純度の水素ガスが連続的に精製され、洗浄工程においては、精製された高純度の水素ガスが洗浄用水素ガスとして使用され、オフガスタンク13に貯蔵されたオフガスは、例えば、図外のバーナへ供給されてバーナの燃料に供される。
具体的には、雰囲気温度検出センサS1による検知温度が予め定められた基準温度より高い場合、洗浄用水素ガスの流量を増加させるように制御し、検知温度が基準温度より低い場合、洗浄用水素ガスの流量を低減させるように制御する。
それに加えて、水素リッチガス温度センサS2と水素ガス温度センサS3による検知温度も制御手段14に入力され、水素リッチガス温度センサS2による水素リッチガス温度が予め決められた基準温度より高い場合や水素ガス温度センサS3による水素ガス温度が予め決められた基準温度より高い場合には、洗浄用水素ガスの流量を増加させるように、逆に、水素リッチガス温度が基準温度より低い場合や水素ガス温度が基準温度より低い場合には、洗浄用水素ガスの流量を低減させるように制御するので、水素ガスの純度と回収率の低下を抑制することができる。
(1)先の実施形態では、合計3つの吸着塔1,2,3を備えた水素製造装置を例示して説明したが、吸着塔の塔数は任意であり、2つ以上の吸着塔を備えた水素製造装置であれば適用可能である。
4 水素リッチガス供給路
6 水素ガス排出路
9 均圧路
11 オフガス排出路
14 制御手段
S1 雰囲気温度検出センサ
S2 水素リッチガス温度センサ
S3 水素ガス温度センサ
Claims (3)
- 複数の吸着塔において吸着、均圧、減圧、洗浄、昇圧の各工程を繰り返しながら、水素リッチガスから水素ガスを精製し、前記洗浄工程において洗浄用水素ガスを使用して洗浄する圧力スイング吸着法による水素精製装置の運転方法であって、
前記吸着塔の外部の雰囲気温度を検知し、その検知した雰囲気温度に基づいて前記洗浄工程で使用する洗浄用水素ガスの流量を制御する水素精製装置の運転方法。 - 前記水素リッチガスの温度を検知し、その検知した水素リッチガス温度を加味して前記洗浄工程で使用する洗浄用水素ガスの流量を制御する請求項1に記載の水素精製装置の運転方法。
- 前記吸着工程において精製される水素ガスの温度を検知し、その検知した水素ガス温度を加味して前記洗浄工程で使用する洗浄用水素ガスの流量を制御する請求項1または2に記載の水素精製装置の運転方法。
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