JP2007250739A - 光半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体レーザチップ21と、半導体レーザチップ21の活性層に近い表面と対向して接続する基台23と、基台23と半導体レーザチップ21との間に挟まれたハンダ接続層24とを具備し、半導体レーザチップ21は、基台23と反対方向に凸状の曲率半径rで光軸方向に反っている構成からなる。
【選択図】図1
Description
図1から図3は本発明の第1の実施の形態を示す図である。図1に本発明の第1の実施の形態の光半導体装置20の概略構成図を示す。図1(a)は本実施の形態の光半導体装置20の実装状態を上から見た概略構成図、(b)は(a)のA−A線の断面から光半導体装置20の実装状態を見た概略断面図を示す。
図4に本発明の第2の実施の形態の光半導体装置におけるハンダ接続の概略構成図を示す。図4(a)は本実施の形態の光半導体装置においてサブマウントのハンダメッキ層に工夫をしてハンダ接続する場合の概略構成図、(b)はサブマウント表面にSn溜りを形成してハンダ接続する場合の概略構成図を示す。
図6に本発明の第3の実施の形態の光半導体装置におけるハンダ接続の概略構成図を示す。図6(a)は本実施の形態の光半導体装置のパッケージ上部に相当するキャップ(図示していない)を外して、半導体レーザチップが基台にハンダ接続された状態を示す模式図、(b)は(a)のB−B線の断面から見た半導体レーザチップと基台がハンダ接続された状態の断面図を示す。
2 活性層
3 Si基板
4 表面
5 SiO2膜
6 電極パタン
7,24,33,40,60 ハンダ層
8 メサ部
9 空隙部
10,20,50 光半導体装置
22,46 レーザ光
23,31,38 サブマウント
24a,60a (ハンダ層中の)後端面領域
24b,60b (ハンダ層中の)中央領域
24c,60c (ハンダ層中の)前端面領域
25,56 金属基台
26 接着面
27a,59a (半導体レーザチップの)後端面部
27b,59b (半導体レーザチップの)中央部
27c,59c (半導体レーザチップの)前端面部
32,39 ハンダ接着面
35a (ハンダ層の)中央凸部
35b,35c (ハンダ層の)隣設凸部
37a,37b,37c Sn溜り
41 半導体レーザ
42 金属ブロック
43 金属製パッケージ
44,44a,44b,44c,57 電極端子
45 導電性ワイヤ
52 受光素子
53 反射ミラー
54 受光素子チップ
55 パッケージ
58 反射点
r 曲率半径
θ 角度
Δb 反り量
Claims (13)
- 発光素子と、
前記発光素子が接続する基台と、
前記基台と前記発光素子との間に挟まれた接続層とを具備し、
前記発光素子は長方形で、前記基台と反対方向に凸状に反っており、中央は接続層が厚く、端部は接続層が中央より薄くなることを特徴とする光半導体装置。 - 半導体レーザチップと、
前記半導体レーザチップが接続する基台と、
前記基台と前記半導体レーザチップとの間に挟まれたハンダ接続層とを具備し、
前記半導体レーザチップは、前記基台と反対方向に凸状の曲率半径で光軸方向に反っていることを特徴とする光半導体装置。 - 前記発光素子である半導体レーザチップと基台との接続構成は、半導体レーザチップの接続面は活性層に近い表面と対向していることを特徴とする請求項1または2に記載の光半導体装置。
- 前記半導体レーザチップの曲率半径が250mm以上22500mm以下であることを特徴とする請求項1から3の何れか1つに記載の光半導体装置。
- 前記ハンダ接続層は、少なくともAuおよびSnで構成されることを特徴とする請求項1から3の何れか1つに記載の光半導体装置。
- 前記ハンダ接続層は、前記共振器の方向において、Auに対してSnを含有する割合が、中央部が端面部より多く、かつ中央部でSnはAuよりも多く含有されることを特徴とする請求項5に記載の光半導体装置。
- 前記ハンダはAuに対してSnを含有する割合が、重量比Au:Snが1:1以上でSnがAuよりも多く含有されることを特徴とする請求項6に記載の光半導体装置。
- 前記基台上の前記半導体レーザチップと接続する領域の少なくとも中央部にSnの多いSnリッチ領域を形成したことを特徴とする請求項5から7の何れか1つに記載の光半導体装置。
- 前記Snリッチ領域は、Snハンダ層の厚さが厚い領域を形成して構成することを特徴とする請求項5に記載の光半導体装置。
- 前記Snリッチ領域は、 基台に設けた凹部にSnを溜めることにより構成することを特徴とする請求項5に記載の光半導体装置。
- 前記基台はSi基板で構成されていることを特徴とする請求項1から5の何れか1つに記載の光半導体装置。
- 前記Si基板上に少なくとも受光素子または回路素子または反射鏡が構成されていることを特徴とする請求項11に記載の光半導体装置。
- 前記基台は、高放熱の金属材料または半導体材料からなることを特徴とする請求項1から5の何れか1つに記載の光半導体装置。
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