JP2007245266A - Cmp装置 - Google Patents

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秀典 尾崎
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政二 小森
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Abstract

【課題】スラリー洗浄が容易で且つ耐薬品性に優れたCMP装置を提供する。
【解決手段】被研磨部材を研磨パッド上に保持するヘッド部表面及びアーム部表面、スラリー供給管表面、並びに、装置本体内壁よりなる群から選択される少なくとも1つの被覆対象をフッ素樹脂により被覆したことを特徴とするCMP装置。
【選択図】なし

Description

本発明は、CMP装置に関する。
化学機械研磨〔CMP〕装置は、ICデバイス、LSI等の半導体装置、薄膜磁気ヘッド用基盤等の製造工程において、ウェハ、配線膜や絶縁膜表面等の被研磨部材の平坦化を図る目的に用いられている。
CMP装置では、スラリー(研磨液)を研磨パッド上に滴下して研磨を行うものであるが、研磨時にスラリー飛沫が飛散し、SUS、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、硬質塩化ビニル樹脂製等の装置本体内壁その他の装置内面に付着し、乾燥して固着する問題がある。
この固着したスラリーが、順次堆積し、固着面から脱落して研磨面に付着すると、製品に引っ掻き傷(スクラッチ)ができ、不良品となる問題がある。また、CMP装置における研磨盤を囲う部材が、透明樹脂からなるものである場合、スラリーが固着すると、装置内面を目視できなくなる問題も生じる。
従って、CMP装置内面に付着したスラリーは、定期的に洗浄、除去する必要があるが、一旦固着したスラリーは、取れにくく、作業効率が悪い問題がある。
CMP装置内面に付着したスラリーは、従来、水や洗浄剤をかけ、布やブラシで擦って除去していた。
特に洗浄剤は種々市販されているが、高価であり、未だ満足のいく洗浄性が得られていない問題がある。
特許文献1には、半導体装置の製造装置の内面の洗浄方法が開示されている。この方法は、固着したスラリーや重金属を洗浄するための溶液及び洗浄工程に関するものであるが、高価であり、洗浄性が未だ充分でない問題がある。
特開2005−39198号公報
本発明の目的は、上記現状に鑑み、スラリー付着を低減し、固着スラリーの洗浄が容易で、耐薬品性に優れたCMP装置の提供にある。
本発明は、被研磨部材を研磨パッド上に保持するヘッド部表面及びアーム部表面、スラリー供給管表面、並びに、装置本体内壁よりなる群から選択される少なくとも1つの被覆対象をフッ素樹脂により被覆したことを特徴とするCMP装置である。
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明のCMP装置において、その構造は特に限定されず、例えば、図1の模式図に示すように、研磨パッド(1)、研磨ヘッド(2)、定盤(3)及びスラリー供給管(4)を備えた装置等が挙げられる。
図1の模式図では、上記定盤(3)には、上記研磨パッド(1)が貼り付けられており、その上方にはスラリー供給管(4)が設けられている。また、上記研磨パッド(1)には、被研磨部材を保持する研磨ヘッド部(2)が、アーム部(バッキング材)を介して設けられている。
上記CMP装置の各構成部は、特に限定されず、従来公知の部材を用いて設けることができる。
例えば、上記定盤(3)には、セラミック、SUS等の金属が、上記研磨パッド(1)には、発泡ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が、上記スラリー供給管(4)には、セラミック、SUS等の金属、熱可塑性樹脂等を用いて設けることができる。また、図示したCMP装置における研磨盤を囲う部材、すなわち装置本体内壁として、ガラス、SUS、アルミ、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、硬質塩化ビニル樹脂等を用いることができる。
本発明のCMP装置は、上記ヘッド部表面及びアーム部表面、スラリー供給管表面、並びに、装置本体内壁よりなる群から選択される少なくとも1つの被覆対象をフッ素樹脂により被覆してなるものである。
上記フッ素樹脂を構成する含フッ素重合体は、少なくとも1種のフッ素含有単量体から誘導される繰り返し単位を有するホモポリマー鎖又はコポリマー鎖であり、フッ素含有単量体のみを重合してなるものであってもよいし、フッ素含有単量体とフッ素非含有単量体とを重合してなるポリマー鎖であってよい。
上記フッ素含有単量体は、フッ素原子を有するオレフィン性不飽和単量体であり、例えば、テトラフルオロエチレン〔TFE〕、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン〔CTFE〕、フッ化ビニル、ヘキサフルオロプロピレン〔HFP〕、ヘキサフルオロイソブテン、CH=CX(CF(式中、XはH又はF、XはH、F又はCl、nは1〜10の整数である。)で示される単量体、パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)〔PAVE〕類等である。上記PAVEとしては、例えば、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)〔PMVE〕、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)〔PEVE〕、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)〔PPVE〕等が挙げられる。
上記フッ素非含有単量体単量体は、耐熱性や耐薬品性等の点で、炭素数5以下のエチレン性単量体から選ばれることが好ましく、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等があげられる。
上記含フッ素重合体としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン〔PTFE〕、エチレン/TFE共重合体〔ETFE〕、TFE/PAVE共重合体〔PFA〕、TFE/HFP共重合体〔FEP〕等が挙げられ、なかでも、耐薬品性の点で、TFE単位を必須成分とする含フッ素重合体が好ましく、透明性及び耐薬品性の点で、FEPがより好ましい。
本明細書において、上記PTFEは、テトラフルオロエチレン〔TFE〕単独重合体であってもよいし、変性ポリテトラフルオロエチレン〔変性PTFE〕であってもよい。
本明細書において、上記「変性PTFE」とは、TFE単独重合体の性質を大きく損なわない範囲内で、TFEとともに微量のTFE以外の単量体をも重合に供することにより得られるTFE共重合体である。上記TFE以外の単量体は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
上記TFE以外の単量体としては、例えば、上述のフッ素含有単量体、フッ素非含有単量体等が挙げられる。
上記TFE以外の単量体に基づく繰り返し単位の合計量は、一般に、PTFEを形成する全単量体に基づく繰り返し単位の総量の通常1質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量%以下である。
上記含フッ素重合体は、後述の熱可塑性樹脂との積層体として被覆可能となる点で、接着性含フッ素重合体であることが好ましい。
上記接着性含フッ素重合体とは、一般に、接する他の材料と化学結合可能な結合基を有する含フッ素重合体を意味する。本明細書において、接着性含フッ素重合体により構成されるフッ素樹脂を「接着性フッ素樹脂」と称することがある。
上記結合基は、カルボニル基〔−C(=O)−〕、カルボニル基を含む基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、シリル基、炭素−炭素二重結合、スルホン酸基、エーテル結合〔−O−〕及びシアノ基よりなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましく、なかでも、カルボニル基又はカルボニル基を含む基であることがより好ましい。
上記カルボニル基を含有する基とは、一般に、アミド基〔−C(=O)NH−〕やアミノ基等の官能基と基本的に反応し得る−C(=O)−を有する官能基であり、例えば、カーボネート〔−OC(=O)O−R基。Rは有機基(例えば、C〜C20アルキル基、エーテル結合を有するC〜C20アルキル基等)〕、ハロホルミル基〔−C(=O)X;Xはハロゲン元素〕、ホルミル基〔−C(=O)H〕、ケトン〔R−C(=O)−R〕、カルボキシル基〔−C(=O)OH〕、エステル結合〔−C(=O)OR〕、酸無水物〔−C(=O)O−C(=O)−〕、イソシアネート基〔−N=C=O〕等が挙げられる(R及びRは、同一又は異なって、炭素数1〜20の有機基を表す。)。
上記含フッ素重合体において、カルボニル基の数は、該含フッ素重合体が接することとなる後述の熱可塑性樹脂層、粘着剤層等の種類等に応じて適宜選択されうるが、主鎖炭素数1×10個あたり合計3〜1000個であることが好ましい。
上記カルボニル基の数は、より好ましくは3〜500個、更に好ましくは10〜300個である。
本明細書において、上記カルボニル基の数は、国際公開99/45044号パンフレットに記載のカルボニル基含有官能基の個数の測定方法に準じた赤外吸収スペクトル分析により測定したものである。
上記含フッ素重合体は、後述の熱可塑性樹脂層との成形性の点で、融点が150〜270℃であることが好ましく、230℃以下であることがより好ましく、210℃以下であることが更に好ましい。
上記融点は、昇温速度10℃/分で示差走査熱量計を用いて測定を行うことにより得られた熱融解曲線の極大値に対応する温度として測定したものである。
上記含フッ素重合体は、約230〜300℃の範囲の任意の温度におけるメルトフローレート〔MFR〕が0.5〜100(g/10分)であることが好ましく、5〜50(g/10分)であることがより好ましい。
上記MFRは、メルトインデクサー(東洋精機製作所社製)を用い、各種温度、5kg荷重下で、直径2mm、長さ8mmのノズルから単位時間(10分間)に流出するポリマーの重量(g)を測定したものである。
上記含フッ素重合体は、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、塊状重合等、従来公知の方法で調製することができる。
上記含フッ素重合体として上記接着性含フッ素重合体を調製する場合、例えば、カルボニル基又はカルボニル基に変換できる官能基を有する重合開始剤を使用して重合を行うことによりポリマー鎖末端にカルボニル基を導入することができる。
本発明におけるフッ素樹脂は、フッ素樹脂粉体塗料又はフィルムとして被覆対象に被覆することができる。
上記フッ素樹脂粉体塗料の平均粒径は、目的とする塗膜の厚みに応じて適宜決定するものであってよいが、例えば10〜100μmが好ましい。
本明細書において、フッ素樹脂粉体塗料の平均粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置(島津製作所社製)により測定した値である。
上記フッ素樹脂粉体塗料及びフィルムは、それぞれ従来公知の方法で作成することができ、市販品を入手して用いてもよい。
本発明のCMP装置において、上記フッ素樹脂は、例えば、(1)フッ素樹脂粉体塗料として被覆対象に塗装する方法、(2)フッ素樹脂を用いて形成したフィルムを被覆対象に貼着する方法等により被覆対象に被覆することができる。
本発明において、フッ素樹脂による被覆は、スラリー付着防止、固着スラリー除去、耐薬品性の点で、最表面をフッ素樹脂が構成することとなるように被覆対象を被覆することが好ましい。
上記(1)の方法は、研磨パッドのヘッド部やアーム部、スラリー供給管等、複雑な形状を有する被覆対象への被覆が容易である点で好ましい。
上記方法(1)に用いるフッ素樹脂としては、例えば、FEP、ETFE、PFA、PCTFE等が好ましい。
上記(1)における塗装の方法としては、特に限定されず、例えば、静電粉体塗装等が挙げられる。
上記(1)の方法は、被覆対象がSUS等の金属である場合、静電粉体塗装を好適に行うことができる。
上記(1)の方法を行う場合、フッ素樹脂粉体塗料は、焼成後の塗膜の厚みが好ましくは10〜200μm、より好ましくは50〜100μmとなるよう塗装することができる。
本明細書において、塗膜の厚み、並びに、後述の単層フィルム若しくは積層体の全体の厚み、及び、積層体を構成する各層の厚みは、測定対象の塗膜、フィルム又は積層体から刃物を用いて厚み方向に薄片を切り出し、その断面を画像測定機により目視観察することにより測定したものである。
上記(1)の方法は、用いるフッ素樹脂が接着性フッ素樹脂である場合、必ずしもプライマーを用いる必要はないが、非接着性フッ素樹脂である場合、プライマーを用いることが接着性の点で好ましい。該プライマーとしては、芳香族系樹脂とフッ素樹脂とを含有するプライマー等が挙げられる。
該プライマーに用いるフッ素樹脂としては特に限定されず、上記フッ素樹脂粉体塗料を構成するフッ素樹脂と同じ種類であってもよいし、異なる種類であってもよいが、接着性の点で、同じ種類であることが好ましい。
上記(2)の方法を用いたフッ素樹脂による被覆は、必要に応じて、被覆したフィルムを容易に交換することができる点で好ましい。該(2)の方法は、CMP装置本体の内壁の被覆に好適である。
上記(2)の方法としては、フッ素樹脂単層フィルムを被覆対象に貼着する方法(2−1)、フッ素樹脂層と、フッ素樹脂以外の熱可塑性樹脂からなる熱可塑性樹脂層との積層体を被覆対象に貼着する方法(2−2)等が挙げられる。
上記方法(2−2)におけるフッ素樹脂としては、上述の接着性フッ素樹脂を用いる。本明細書において、該接着性フッ素樹脂からなるフッ素樹脂層を「接着性フッ素樹脂層」ということがある。
上記方法(2−1)は、用いるフッ素樹脂が接着性フッ素樹脂でなくても、フッ素樹脂単層フィルムをフッ素樹脂単層に粘着剤層を設けた積層体とし、被覆対象に該粘着剤層側を貼着させることにより被覆可能であり、種々のフッ素樹脂を幅広く用い得る点、また、熱可塑性樹脂層を用いる必要がなく、工程を簡便化し得る点で、好ましい。
上記方法(2−1)におけるフッ素樹脂単層フィルムは、粘着剤層を含み被覆対象と貼着可能な点で、接着性フッ素樹脂である必要はなく、非接着性フッ素樹脂を好適に用いることができる。上記方法(2−1)に用いるフッ素樹脂としては、例えば、FEP、ETFE、PFA、PCTFE等が好ましい。
上記フッ素樹脂単層は、上述のフッ素樹脂を成形することにより得られるフィルムであり、従来公知の方法で作成することができる。
上記フッ素樹脂単層の厚みは、薄すぎると、コシが弱くて貼りにくく、スラリーが酸性又はアルカリ性である場合、耐薬品性に劣り、厚すぎると、コスト高となるので、用いるスラリーの液性等にもよるが、20〜200μmであることが好ましく、50〜100μmであることがより好ましい。
上記方法(2−1)における粘着剤層は、被覆対象及びフッ素樹脂の両方に粘着性を示す粘着剤からなるものであればよい。
上記粘着剤層としては、特に限定されず、例えば、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤から主に構成されるものが好ましい。
上記粘着剤層は、被覆対象とフッ素樹脂単層との間の粘着性の点で、厚みが5〜100μmであることが好ましく、10〜50μmであることがより好ましい。
上記方法(2−1)は、例えば、フッ素樹脂単層上に粘着剤層を設けてなるフッ素樹脂単層フィルムの上記粘着剤層側を被覆対象に貼着させて行うことができる。
上記粘着剤層をフッ素樹脂単層上に設ける方法としては、例えば、フッ素樹脂単層の表面にコロナ放電処理を施して濡れ性を向上させた上に粘着剤をコーティングする方法等が例示される。
上記方法(2−1)における粘着剤の塗布、フッ素樹脂フィルムの圧着等の各条件は、使用する粘着剤、フッ素樹脂等の種類、厚み等に応じて適宜選択することができる。
上記方法(2−2)の方法を用いたフッ素樹脂による被覆は、接着性フッ素樹脂層を強固な積層体として被覆可能である点、及び、フッ素樹脂の使用量を低減させて材料コストダウンできる点で、好ましい。
上記方法(2−2)において、積層体を構成する接着性フッ素樹脂層は、被覆の最表面層となる。該接着性フッ素樹脂層を構成する接着性フッ素樹脂は、上述の接着性フッ素樹脂を用いることができる。
上記熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂としては、接着性フッ素樹脂層との接着性及び粘着剤層との粘着性を有するものであれば特に限定されない。
上記熱可塑性樹脂の融点としては特に限定されないが、例えば、接着性フッ素樹脂層との接着を後述の共押出し法、押出ラミネーション法等の押出法により行う場合、一般に100〜300℃、好ましくは120〜250℃である。
上記押出ラミネーション法とは、予め成形したフィルム、シート等をロール状で供給し、押出機のフラットダイから出た直後のフィルムやシートをロールで圧着し積層する方法を意味する。
上記方法(2−2)において、熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂としては、特に限定されず、例えば、ポリアミド系樹脂、エチレン/ビニルアルコール樹脂、エポキシ変性ポリエチレン樹脂等が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂がポリアミド系樹脂、エチレン/ビニルアルコール樹脂及びエポキシ変性ポリエチレン樹脂よりなる群から選択されるものである場合、粘着剤との馴染みが良く、被覆対象との粘着性を充分高くすることができる。更に、接着性フッ素樹脂層と熱可塑性樹脂層との積層体を交換するとき、通常、粘着剤層を該積層体側に付着させて被覆対象から剥がすことができるので、粘着剤が被覆対象に残らず、作業性が良い。
上記ポリアミド系樹脂としては、特に限定されないが、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン610、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン46、メタキシリレンジアミン/アジピン酸重合体、ナイロン6/66共重合体、ナイロン66/12共重合体等が挙げられる。
上記エチレン/ビニルアルコール樹脂は、エチレン単位が10〜50質量%であるものが好ましく、また、鹸化度が50〜100%であるものが好ましい。
上記エポキシ変性ポリエチレン樹脂としては、グリシジルメタクリレート/エチレン共重合体等が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂としては、耐薬品性に優れる点で、ポリアミド系樹脂が好ましく、なかでも、ナイロン6/66共重合体、ナイロン6、ナイロン12等が好ましい。
上記接着性フッ素樹脂層と熱可塑性樹脂層との積層体は、共押出し法、押出ラミネーション法等、従来公知の押出成形法により作成することができる。
上記接着性フッ素樹脂と熱可塑性樹脂との成形条件は、接着性フッ素樹脂層及び熱可塑性樹脂層における各材料の種類、厚み等に応じて、適宜選択することができる。
上記接着性フッ素樹脂層と熱可塑性樹脂層との積層体は、本発明の効果を工業的に奏する点で、全体の厚みが30〜500μmであることが好ましく、50〜200μmであることがより好ましい。
上記接着性フッ素樹脂層は、厚みが1〜20μmであることが好ましい。上記接着性フッ素樹脂層は、厚みが1μm未満であると、ピンホールが発生することがあり、厚みが20μmを越えると、材料コストが高くなる。上記接着性フッ素樹脂層の厚みは、より好ましい下限が5μmであり、より好ましい上限が15μmである。
上記粘着剤層は、被覆対象と熱可塑性樹脂層との間の粘着性の点で、厚みが5〜100μmであることが好ましく、10〜50μmであることがより好ましい。
上記方法(2−2)は、例えば、上述の接着性フッ素樹脂層と熱可塑性樹脂層とからなる積層体における熱可塑性樹脂層上に粘着剤層を設けたのち、該粘着剤層側を被覆対象に貼着させて行うことができる。該粘着剤層は、例えば、熱可塑性樹脂層の表面にコロナ放電処理を施して濡れ性を向上させた上に粘着剤をコーティングする方法等により設けることができる。
上記方法(2−2)における粘着剤の塗布、積層体の被覆対象への圧着等の各条件は、使用する粘着剤の種類、積層体の構成、厚み等に応じて適宜選択することができる。
本発明のCMP装置は、耐薬品性を有し且つスラリーに対し非粘着性を示すフッ素樹脂により上述の被覆対象を被覆してなるものであるので、使用時におけるスラリーの付着を低減し、スラリーの洗浄除去を容易に行うことができ、また、酸性又はアルカリ性のスラリーや洗浄液に起因する腐食が生じにくい。
本発明のCMP装置は、洗浄時にブラシ等の器具を用いて擦ってもよいが、従来と異なり、洗浄時に擦る作業を行わなくても、また、特別な洗浄液を使わなくても、スラリーを残存させずに洗浄除去することができ、例えば水洗のみでも洗浄力に優れている。
本発明のCMP装置は、上述の構成よりなるので、スラリーの付着を防止し、固着したスラリーの洗浄が容易で、耐薬品性に優れている。
以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例にのみに限定されるものではない。
各実施例及び各比較例における組成物の量は、特に断りがない場合は、質量基準である。
各実施例及び各比較例に記載の各測定値は、以下の方法により求めた値である。
1.モノマー単位
19F−NMR分析を行い、測定した。
2.カーボネート末端基数
フーリエ変換赤外分光光度計(パーキンエルマー社製)を用いて、国際公開99/45044号パンフレットに記載のカルボニル基含有官能基の個数の測定方法に準じた赤外吸収スペクトル分析により測定した。
3.融点
示差走査熱量計(セイコー社製)を用い、昇温速度10℃/分にて測定し、得られた融解ピークの極大値での温度を融点とした。
4.各層の厚み
刃物を用いて厚み方向に薄片(厚み300μm)を切り出し、その断面を画像測定機(ミツトヨ社製)により目視観察して測定した。
5.接着強度
積層フィルム(積層体)から1cm幅のテストピースを切り取り、テンシロン万能試験機(オリエンテック社製)を用いて、25mm/分の速度で180°剥離試験を行い、伸び量−引張強度グラフにおける極大5点の平均値として求めた。
6.平均粒径
レーザー回折式粒度分布測定装置(島津製作所社製)により測定した。
合成例1(フッ素樹脂の合成)
内容積820Lのガラスライニング性オートクレーブに純水200Lを入れ、径内を窒素ガスで充分に置換した後、真空にし、1−フルオロ−1,1−ジクロロエタン113kg及びヘキサフルオロプロピレン95kg、シクロヘキサン85gを仕込んだ。次いで、パーフルオロ(1,1,5−トリハイドロ−1−ペンテン)[CH=CF(CFH]292gを窒素ガスを用いて圧入し、槽内温度を35℃、攪拌速度を200rpmに保った。更にテトラフルオロエチレンを7.25kg/cmGになるまで圧入し、その後、エチレンを8kg/cmGになるまで圧入した。
次いで、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネートの50質量%メタノール溶液1.9kgを仕込むことにより、重合を開始した。重合の進行と共に槽内圧力が低下するので、テトラフルオロエチレン/エチレン/ヘキサフルオロプロピレンの混合ガス(モル比=39.2:43.6:17.3)を追加圧入して、重合圧力を8kg/cmGに保ちながら重合を続け、途中、CH=CF(CFH1100gを20回に分割してマイクロポンプで仕込み、重合を合計32時間行った。重合終了後、内容物を回収し、水洗し、粉末状のフッ素樹脂を95kg得た。
得られたフッ素樹脂は、モノマー単位(質量比)がTFE/Et/HFP/[CH=CF(CFH]=38.9/45.9/14.8/0.4であり、カーボネート基数が主鎖炭素数1×10個あたり411個であり、融点が171.8℃であった。
実施例1
合成例1で得られたフッ素樹脂と、ナイロン6/66共重合体(NOVAMID2430J、三菱エンジニアリングプラスチックス社製)とを、Tダイフィルム成形装置(池貝社製)を使用して共押出を行い、2層の積層フィルム(厚み:EFEP層10μm、ナイロン6/66共重合体層70μm、計80μm)を作成した。
上記積層フィルムは、接着強度を測定したところ、剥離不能であった。
更に、上記積層フィルムのナイロン6/66共重合体側に、アクリル系粘着剤(製品名S153B、東洋インキ社製)をドクターロールコーターで塗工した後、硬質塩化ビニル製板(サイズ30mm×50mm)の表面に貼着し、CMP装置(ムサシノ電子工業社製MA−200)の内面に設置した。
実施例2〜3
上記ナイロン6/66共重合体に変え、エチレン/酢酸ビニル共重合体(F101A、クラレ社製)又はエポキシ変性ポリエチレン(ボンドファーストE、住友化学社製)を各実施例に使用する以外は、実施例1と同様に積層フィルムを作成し、CMP装置の内面に設置した。
実施例4
合成例1で得られたフッ素樹脂をローラーコンパクター(マツボー社製)を用いて圧縮した後、粒径を調整しながら粉砕して、平均粒径30μmの粉体塗料を得た。
更に、SUS製基材(30mm×50mm)に上記粉体塗料を膜厚80μmになるように静電粉体塗装方法により塗布した後、200℃で加熱して塗膜を得た。得られた塗膜の接着強度は、13N/cmであった。このフッ素樹脂被覆SUS板をCMP装置(ムサシノ電子工業社製MA−200)の内面に設置した。
比較例1
CMP装置(ムサシノ電子工業社製MA−200)の内面にSUS板(サイズ30mm×50mm)を設置した。
比較例2
CMP装置(ムサシノ電子工業社製MA−200)の内面に硬質塩化ビニル板(サイズ30mm×50mm)を設置した。
試験例
実施例1〜4及び比較例1〜2のCMP装置を用い、研磨パッドにスラリー(日本キャボットマイクロエレクトロニクス社製Semi−Sperse 25−E)を滴下しながら、150rpmで運転することにより、スラリーを飛散させてスラリーの付着性を目視して下記基準で評価した。
(付着性評価基準)
○:スラリー飛沫が付着した範囲が、設置した板の面積の1/5以下。
△:スラリー飛沫が付着した範囲が、設置した板の面積の1/5を越え、1/2以下。
×:スラリー飛沫が付着した範囲が、設置した板の面積の1/2以上。
更に、設置した板にスラリー飛沫が付着した状態で、常温で24時間乾燥させた後、各板に常温の純水にかけることにより10秒間洗浄し、洗浄性を下記基準で評価した。
(洗浄性評価基準)
○:付着物を完全に除去することができた。
△:付着物がわずかながら残存する。
×:付着物を殆ど除去できない。
各結果を表1に示す。
Figure 2007245266
本結果より、フッ素樹脂により被覆したCMP装置は、スラリーの付着が少なく、洗浄が容易であることが分かった。
本発明のCMP装置は、上述の構成よりなるので、スラリー洗浄が容易で且つ耐薬品性に優れている。
CMP装置の一例を表したものである。
符号の説明
1.研磨パッド
2.研磨ヘッド
3.定盤
4.スラリー供給管
5.スラリー
6.バッキング材
7.被研磨部材

Claims (10)

  1. 被研磨部材を研磨パッド上に保持するヘッド部表面及びアーム部表面、スラリー供給管表面、並びに、装置本体内壁よりなる群から選択される少なくとも1つの被覆対象をフッ素樹脂により被覆した
    ことを特徴とするCMP装置。
  2. フッ素樹脂による被覆は、該フッ素樹脂単層と粘着剤層とから構成されるフッ素樹脂単層フィルムを該粘着剤層により被覆対象に貼着させて行う請求項1記載のCMP装置。
  3. フッ素樹脂による被覆は、該フッ素樹脂層と、フッ素樹脂以外の熱可塑性樹脂からなる熱可塑性樹脂層と、粘着剤層とがこの順に積層されてなる積層体を該粘着剤層により被覆対象に貼着させて行うものであり、
    前記フッ素樹脂は、接着性フッ素樹脂である請求項1記載のCMP装置。
  4. 接着性フッ素樹脂を構成する接着性含フッ素重合体は、カルボニル基、カルボニル基を含む基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、シリル基、炭素−炭素二重結合、スルホン酸基、エーテル結合及びシアノ基よりなる群から選択される少なくとも1種の結合基を有する請求項3記載のCMP装置。
  5. 熱可塑性樹脂は、ポリアミド系樹脂である請求項3又は4記載のCMP装置。
  6. 熱可塑性樹脂は、エチレン/ビニルアルコール樹脂である請求項3又は4記載のCMP装置。
  7. 熱可塑性樹脂は、エポキシ変性ポリエチレン樹脂である請求項3又は4記載のCMP装置。
  8. 接着性フッ素樹脂層は、厚みが1〜20μmである請求項3、4、5、6又は7記載のCMP装置。
  9. フッ素樹脂による被覆は、フッ素樹脂粉体塗料を塗装することにより行う請求項1記載のCMP装置。
  10. フッ素樹脂は、接着性フッ素樹脂である請求項9記載のCMP装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012250300A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Kyocera Crystal Device Corp ナノバブル循環型研磨装置
US9174324B2 (en) 2013-01-31 2015-11-03 Ebara Corporation Polishing apparatus with polishing head cover
KR20190049513A (ko) * 2017-10-31 2019-05-09 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 연마 패드의 연마면의 온도를 조정하기 위한 열교환기, 해당 열교환기를 구비한 연마 장치, 해당 열교환기를 사용한 기판의 연마 방법 및 연마 패드의 연마면의 온도를 조정하기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
JP2019081241A (ja) * 2017-10-31 2019-05-30 株式会社荏原製作所 研磨パッドの研磨面の温度を調整するための熱交換器、該熱交換器を備えた研磨装置、該熱交換器を用いた基板の研磨方法、および研磨パッドの研磨面の温度を調整するためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0625449A (ja) * 1992-07-08 1994-02-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 超撥水性フィルム及びその製造方法
JPH09207065A (ja) * 1996-02-05 1997-08-12 Ebara Corp ポリッシング装置
JPH10329002A (ja) * 1997-05-26 1998-12-15 Matsushita Electric Works Ltd 磁気研磨装置
JPH11347921A (ja) * 1998-06-05 1999-12-21 Memc Kk シリコンウェーハの研磨方法
JP2001138238A (ja) * 1999-11-17 2001-05-22 Ebara Corp スラリーポンプ
JP2001334457A (ja) * 2000-05-25 2001-12-04 Shin Etsu Handotai Co Ltd ラッププレート及びそれを用いた加工装置
JP2002079461A (ja) * 2000-09-07 2002-03-19 Ebara Corp ポリッシング装置
JP2003158104A (ja) * 2001-11-22 2003-05-30 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
JP2003179021A (ja) * 2001-12-11 2003-06-27 Sony Corp 化学機械研磨装置
JP2004063880A (ja) * 2002-07-30 2004-02-26 Komatsu Electronic Metals Co Ltd ウェーハ接着装置およびウェーハ接着方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0625449A (ja) * 1992-07-08 1994-02-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 超撥水性フィルム及びその製造方法
JPH09207065A (ja) * 1996-02-05 1997-08-12 Ebara Corp ポリッシング装置
JPH10329002A (ja) * 1997-05-26 1998-12-15 Matsushita Electric Works Ltd 磁気研磨装置
JPH11347921A (ja) * 1998-06-05 1999-12-21 Memc Kk シリコンウェーハの研磨方法
JP2001138238A (ja) * 1999-11-17 2001-05-22 Ebara Corp スラリーポンプ
JP2001334457A (ja) * 2000-05-25 2001-12-04 Shin Etsu Handotai Co Ltd ラッププレート及びそれを用いた加工装置
JP2002079461A (ja) * 2000-09-07 2002-03-19 Ebara Corp ポリッシング装置
JP2003158104A (ja) * 2001-11-22 2003-05-30 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
JP2003179021A (ja) * 2001-12-11 2003-06-27 Sony Corp 化学機械研磨装置
JP2004063880A (ja) * 2002-07-30 2004-02-26 Komatsu Electronic Metals Co Ltd ウェーハ接着装置およびウェーハ接着方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012250300A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Kyocera Crystal Device Corp ナノバブル循環型研磨装置
US9174324B2 (en) 2013-01-31 2015-11-03 Ebara Corporation Polishing apparatus with polishing head cover
KR20190049513A (ko) * 2017-10-31 2019-05-09 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 연마 패드의 연마면의 온도를 조정하기 위한 열교환기, 해당 열교환기를 구비한 연마 장치, 해당 열교환기를 사용한 기판의 연마 방법 및 연마 패드의 연마면의 온도를 조정하기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
JP2019081241A (ja) * 2017-10-31 2019-05-30 株式会社荏原製作所 研磨パッドの研磨面の温度を調整するための熱交換器、該熱交換器を備えた研磨装置、該熱交換器を用いた基板の研磨方法、および研磨パッドの研磨面の温度を調整するためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP7059117B2 (ja) 2017-10-31 2022-04-25 株式会社荏原製作所 研磨パッドの研磨面の温度を調整するための熱交換器、該熱交換器を備えた研磨装置、該熱交換器を用いた基板の研磨方法、および研磨パッドの研磨面の温度を調整するためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
TWI783069B (zh) * 2017-10-31 2022-11-11 日商荏原製作所股份有限公司 用以調整研磨墊之研磨面溫度的熱交換器、具備該熱交換器之研磨裝置、使用該熱交換器之基板的研磨方法、以及記錄了用以調整研磨墊之研磨面溫度的程式的電腦可讀取記錄媒介
KR102591901B1 (ko) * 2017-10-31 2023-10-20 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 연마 패드의 연마면의 온도를 조정하기 위한 열교환기, 해당 열교환기를 구비한 연마 장치, 해당 열교환기를 사용한 기판의 연마 방법 및 연마 패드의 연마면의 온도를 조정하기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체

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