JP2007238553A - 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 - Google Patents
2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007238553A JP2007238553A JP2006066343A JP2006066343A JP2007238553A JP 2007238553 A JP2007238553 A JP 2007238553A JP 2006066343 A JP2006066343 A JP 2006066343A JP 2006066343 A JP2006066343 A JP 2006066343A JP 2007238553 A JP2007238553 A JP 2007238553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxy
- methylthiobutanoic acid
- acid
- methylthiobutanoic
- organic phase
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】生成工程で得られた2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を、蒸発器19にて濃縮する。蒸発器19にて濃縮された濃縮液は、その濃縮液中において、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸オリゴマーに対する、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の重量比が4以下となるように、所定の条件下、循環ライン22を介して、蒸発器19とヒータドラム21との間で循環されることによって、濃縮槽9内に滞留される。
【選択図】図2
Description
このような2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法として、たとえば、以下の(A)〜(E)の工程を含む方法が提案されている(たとえば、特許文献1参照。)この方法によれば、加水分解して得られる反応液から、有機溶媒を用いることなく、操作性良く、効率的に2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を取り出すことができる。
一般式(1):
本発明の2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法では、濃縮工程において、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸オリゴマーに対する、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の重量比が4以下となるように脱水するので、つまり、無機塩を溶解しやすい2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を、無機塩を溶解しにくい2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸オリゴマーに、上記重量比で変換するので、濃縮液における無機塩の溶解度を下げて、濃縮液中の無機塩の濃度を下げることができる。その結果、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸中の無機塩濃度の低減を図ることができる。
本発明の2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法によれば、濃縮工程において濃縮された濃縮液を、上記の滞留時間で滞留させることにより、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸オリゴマーの生成を促進させ、濃縮液における無機塩の溶解度を下げて、濃縮液中の無機塩の濃度を下げることができる。
また、本発明の2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造装置は、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンニトリルおよび/または2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンアミドを、水と反応させて、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を生成させる反応槽と、前記反応槽において得られた2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を含む反応液を、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を含む有機相と、水を含む水相とに相分離させ、相分離した有機相を、水相から分離する分液手段と、前記分液手段において分離された有機相から、前記有機相中に残存する水を除去して、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を濃縮する濃縮手段とを備え、前記濃縮手段は、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を濃縮する蒸発器と、前記蒸発器で濃縮された2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を、所定の温度に加熱する加熱手段と、前記蒸発器で濃縮された2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を前記加熱手段経由で、再び前記蒸発器に戻す循環ラインとを備えていることを特徴としている。
この方法では、まず、水和槽2に、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンニトリル(以下、HMTBNと省略する。)、水および硫酸を供給して、HMTBNを水和反応させることにより、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンアミドを生成させる(水和工程)。なお、この方法では、水和層2および後述する加水分解槽4が、本発明の反応槽を構成している。
水和槽2は、上記した水和反応ができればよく、公知の反応槽などから構成される。
そして、水和槽2では、HMTBN、水および硫酸が混合される。また、水和槽2では、HMTBN100重量部に対して、水が、例えば、20〜70重量部、好ましくは、25〜50重量部の割合となり、硫酸が、例えば、上記混合物1モルに対して、硫酸全量として、例えば、0.5〜1モル、好ましくは0.6〜0.8モルの割合となるように、HMTBN、水および硫酸が供給される。
そして、水和槽2では、硫酸の存在下、HMTBNが水と水和反応して、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンアミド(以下、HMTBAAと省略する。)が生成する。水和反応は、例えば、40〜70℃、1〜3時間の範囲で実施され、反応後熟成される。
加水分解槽4は、水和槽2と接続ライン3を介して接続されており、公知の反応槽などから構成される。そして、水和槽2において得られたHMTBAAを含む反応液は、水和槽2から接続ライン3を介して加水分解槽4に供給される。
この水は、後述する還流ライン5のみから供給されるか、あるいは、還流ライン5から供給されるとともに、別途接続された給水ライン6から供給される。
そして、加水分解槽4では、HMTBAAが、水および硫酸と加水分解反応して、HMTBAが生成するとともに、重硫酸アンモニウム(NH4HSO4)および硫酸アンモニウム((NH4)2SO4)が副生する。加水分解反応は、例えば、水を仕込んだ後、昇温して、90〜130℃、2〜6時間の範囲で実施される。
蒸留塔7は、加水分解槽4と接続ライン3を介して接続されており、反応液中の低沸点成分を除去できればよく、公知の蒸発器や蒸留器などから構成される。そして、加水分解槽4において加水分解により生成したHMTBAを含む反応液は、加水分解槽4から接続ライン3を介して蒸留塔7に供給される。
この方法では、次いで、分液手段としての中和・分液槽8に、蒸留塔7において低沸点成分が除去された反応液を供給し、中和・分液槽8において、その反応液に、アルカリを加えて中和することにより、反応液を、HMTBAを含む有機相と、水および無機塩(重硫酸アンモニウムおよび硫酸アンモニウムを含む。)を含む水相とに相分離させ、相分離した有機相を、水相から分離する(分液工程)。
そして、蒸留塔7において低沸点成分が除去された反応液は、蒸留塔7から接続ライン3を介して中和・分液槽8に供給される。
なお、反応液中に含有される重硫酸アンモニウムの量は、分析により求めてもよいが、硫酸が、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンニトリル1モルに対して、0.5モルを超過し1モル未満であり、かつ、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンニトリルが反応ですべて消費される場合には、下記式により算出することができる。
また、アルカリの添加割合は、アルカリが添加された反応液の水素イオン濃度(pH)によって管理することもできる。具体的には、重硫酸アンモニウム1モルに対して0.6〜0.8モルの水酸化ナトリウムが用いられる場合には、水酸化ナトリウムが添加された反応液のpHは、25℃において約1.4〜約1.9となり、60℃において約1.9〜約2.2となる。
分離槽8bにおいて、水相には、無機塩が析出している場合があるが、その場合でも、そのまま分離してもよく、あるいは、加温して析出無機塩を溶解させた後、分離することもできる。さらに、濾過やデカンテーションにより析出無機塩を除去した後、分離することもできる。分離時の温度は、例えば、30〜110℃の範囲である。
また、中和・分液槽8の分離槽8bには、水相を排出するための水相排出ライン15が接続されている。分離槽8bにおいて、有機相から分離された水相は、分離槽8bから水相排出ライン15に排出される。水相排出ライン15は、分液槽14に接続されている。水相排出ライン15に排出された水相は、後述するように、固液分離器12から固体排出ライン16を介して排出される無機塩を含む固体成分(ウエットケーキからなる残渣)とともに、分液槽14に供給される。
分液槽14には、廃棄ライン17および回収有機相供給ライン10が接続されている。そして、分液槽14において、有機相から分離された水相は、廃棄ライン17から廃棄される。また、分液槽14において、水相から分離された有機相は、回収有機相として、回収有機相供給ライン10に回収される。
蒸発器19は、中和・分液槽8と接続ライン3を介して接続されており、上記した濃縮ができればよく、例えば、遠心式薄膜型などの公知の蒸発器が用いられる。
なお、接続ライン3の途中には、回収有機相供給ライン10が接続されている。蒸発器19には、中和・分液槽8において分離された有機相とともに、回収有機相供給ライン10から接続ライン3に供給される回収有機相が併せて供給される。
一般式(1):
濃縮槽9には、蒸発器19の他に、濃縮液の温度を一定に保つために、濃縮液を加熱するための、加熱手段としてのヒータドラム21が設けられている。そして、蒸発器19とヒータドラム21とは、循環ライン22を介して接続されており、さらに、蒸発器19からヒータドラム21に向かう循環ライン22の途中には、循環ポンプ20が介挿されている。そのため、蒸発器19において濃縮された濃縮液は、循環ポンプ20の輸送により、循環ライン22を介して、蒸発器19とヒータドラム21との間で循環されることによって、濃縮槽9内に滞留される。このように、濃縮液が循環可能なクローズドラインを設けることによって、効率よく滞留時間を延ばすことができる。
そして、濃縮液が、所定時間(以下、滞留時間とする。)および所定温度(以下、滞留温度とする。)の下で滞留されることによって、上記一般式(1)の平衡反応において、HMTBAオリゴマーの生成が促進され、無機塩を溶解しやすい2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を、無機塩を溶解しにくい2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸オリゴマーに変換することで、濃縮液における無機塩の溶解度を下げて、濃縮液中の無機塩の濃度を下げることができる。
滞留時間については、例えば、0.5時間以上であることが好ましく、0.5〜5時間であることがさらに好ましい。一方、滞留温度については、例えば、60〜150℃であることが好ましく、80〜100℃であることがさらに好ましい。
30分間濃縮し、その濃縮液を100℃で滞留(循環)させたときの、濃縮液全重量に対する、HMTBAモノマー(a)、HMTBAオリゴマー(b)、無機塩濃度の指標となるSO4イオン(d)および水分(e)の重量比率、ならびにHMTBAモノマー/オリゴマーの重量比(c)は、それぞれ表1に示される。
この場合、濃縮槽9において、有機相から留去された水が、そのまま排水されるのではなく、還流ライン5を介して加水分解槽4に供給されるため、濃縮槽9から留去された水を排水するために必要な処理を不要とすることができる。
以下、再度、図1を参照して説明する。
この方法では、次いで、冷却塔11にて、スラリーを冷却し、固液分離器12により、スラリーを、有機相を含む液体成分と、析出する無機塩を含む固体成分とに分離し、さらに、調整槽13にて、水分調整した後、HMTBAの製品として取り出される。
冷却塔11では、上記スラリーが供給され、例えば、60〜120℃で冷却される。この冷却によって、スラリーから無機塩を十分に析出させる。
固液分離器12では、上記スラリーが供給され、有機相を含む液体成分と、無機塩を含む固体成分(ウエットケーキからなる残渣)とに分離される。具体的には、固液分離器12では、上記スラリーが、例えば、60〜120℃、遠心力10〜4000Gで遠心分離される。なお、分離された固体成分には、HMTBAが20〜60重量%含まれている。
調整槽13では、有機相に、水が供給されて水分調整がなされる。
上記したHMTBAの製造装置を用いて、HMTBAを製造すれば、濃縮槽9において、濃縮液中における、HMTBAと、HMTBAオリゴマーとの平衡反応を、HMTBAオリゴマーの生成に有利な方向にシフトさせることができる。そのため、濃縮液における無機塩の溶解度を下げて、濃縮液中の無機塩の濃度を下げることができる。その結果、生成工程において得られた2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を含む反応液から、操作性よく、効率的に2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を精製することができ、さらに、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸中の無機塩濃度の低減を図ることができる。
さらに、上記した各工程における操作は、回分式、セミ連続式、連続式のいずれであってもよく、具体的な装置条件により適宜選択される。
4 加水分解槽
8 中和・分液槽
9 濃縮槽
19 蒸発器
21 ドラムヒータ
22 循環ライン
Claims (4)
- 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンニトリルおよび/または2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンアミドを、水と反応させて、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を生成させる生成工程と、
前記生成工程において得られた2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を含む反応液を、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を含む有機相と、水を含む水相とに相分離させ、相分離した有機相を、水相から分離する分液工程と、
前記分液工程において分離された有機相から、前記有機相中に残存する水を除去して、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を濃縮する濃縮工程とを備え、
前記濃縮工程においては、濃縮された濃縮液中、下記一般式(1)で表される、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸(2)と、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸オリゴマー(3)との平衡反応を、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸オリゴマー(3)の生成に有利な方向にシフトさせて、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸オリゴマー(3)に対する、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸(2)の重量比が4以下となるように脱水することを特徴とする、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法。
一般式(1):
- 前記濃縮工程において、濃縮条件は、その圧力が1kPa〜20kPa、その温度が60℃〜150℃およびその滞留時間が0.5時間以上であることを特徴とする、請求項1に記載の2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法。
- 前記生成工程は、
2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンニトリルを、酸触媒下、水と反応させて、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンアミドを生成させる水和工程と、
前記水和工程において得られた2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンアミドを含む反応液に、水を加えて2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を生成させる加水分解工程と
を備えていることを特徴とする、請求項1または2に記載の2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法。 - 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンニトリルおよび/または2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタンアミドを、水と反応させて、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を生成させる反応槽と、
前記反応槽において得られた2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を含む反応液を、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を含む有機相と、水を含む水相とに相分離させ、相分離した有機相を、水相から分離する分液手段と、
前記分液手段において分離された有機相から、前記有機相中に残存する水を除去して、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を濃縮する濃縮手段とを備え、
前記濃縮手段は、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を濃縮する蒸発器と、
前記蒸発器で濃縮された2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を、所定の温度に加熱する加熱手段と、
前記蒸発器で濃縮された2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸を前記加熱手段経由で、再び前記蒸発器に戻す循環ラインと
を備えていることを特徴とする、2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006066343A JP2007238553A (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006066343A JP2007238553A (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007238553A true JP2007238553A (ja) | 2007-09-20 |
Family
ID=38584432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006066343A Pending JP2007238553A (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007238553A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007238554A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 |
US20100094049A1 (en) * | 2008-10-10 | 2010-04-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing 2-hydroxy-4-methylthiobutanoic acid |
CN108026489A (zh) * | 2015-07-02 | 2018-05-11 | 诺华丝国际股份有限公司 | 阴离子表面活性剂 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60166661A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-08-29 | ヌブス インターナショナル,インコーポレイテッド | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオ酪酸の製造方法 |
JP2001187779A (ja) * | 1999-02-03 | 2001-07-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法 |
JP2006056797A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオ酪酸の製造方法 |
-
2006
- 2006-03-10 JP JP2006066343A patent/JP2007238553A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60166661A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-08-29 | ヌブス インターナショナル,インコーポレイテッド | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオ酪酸の製造方法 |
JP2001187779A (ja) * | 1999-02-03 | 2001-07-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法 |
JP2006056797A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオ酪酸の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6011062846; 化学工学便覧 改訂六版, 19990225, p404-405 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007238554A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 |
US20100094049A1 (en) * | 2008-10-10 | 2010-04-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing 2-hydroxy-4-methylthiobutanoic acid |
CN108026489A (zh) * | 2015-07-02 | 2018-05-11 | 诺华丝国际股份有限公司 | 阴离子表面活性剂 |
CN108026489B (zh) * | 2015-07-02 | 2020-08-07 | 诺华丝国际股份有限公司 | 阴离子表面活性剂 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7208641B2 (en) | Method for producing 2,2,2-trifluoroethanol | |
US20050171381A1 (en) | Process for preparing fluorocarboxylic acids | |
JPH1192135A (ja) | ヘキサフルオロリン酸リチウムの製造方法 | |
CN1008094B (zh) | 6-甲基-3,4-二氢-1,2,3-氧硫杂连氮环己-4-酮2,2-二氧化物的制备和提纯方法 | |
US7253315B2 (en) | Process for preparing fluorocarboxylic acids | |
JP4896548B2 (ja) | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 | |
JP2007238553A (ja) | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 | |
CN86105877A (zh) | 6-甲基-3,4-二氢-1,2,3-氧噻嗪-4-酮2,2-二氧化物的制备及其纯化方法 | |
JP2007238552A (ja) | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 | |
CN112390748B (zh) | 一种2-氰基-3-氟-5-三氟甲基吡啶的制备方法 | |
WO2001060791A1 (fr) | Procede de preparation de l'acide 2-hydroxy-4-methylthiobutanoique | |
CN106117094B (zh) | 一种回收二甲基亚砜dmso废盐有机物的方法 | |
JP2008044942A (ja) | ビウレット及びシアヌル酸の製造方法及び製造装置 | |
JP4948002B2 (ja) | 2−ヒドロキシ−4−メチルチオブタン酸の製造方法および製造装置 | |
JP2006104092A (ja) | アルキレンカーボネートの製造方法 | |
CN114901590B (zh) | 用于生产双(氟磺酰)亚胺的集成方法 | |
EP1439161A2 (en) | Production method of pyromellitic acid and pyromellitic anhydride | |
JP5811671B2 (ja) | フルオロアルカンスルホン酸の製造方法 | |
US20220242731A1 (en) | Sulfamyl fluoride compositions and processes for making sulfamyl fluoride compositions | |
EP1491528A1 (en) | Process for producing 4,4-bisphenol sulfone | |
WO2019117180A1 (ja) | メチオニンの製造方法 | |
KR100671846B1 (ko) | 고순도 알킬렌 카보네이트의 제조방법 | |
KR20220054624A (ko) | 4,4'-디클로로디페닐 설폰의 정제 방법 | |
JPH11152272A (ja) | 非プロトン性極性溶媒の分液分離方法 | |
CA3230262A1 (en) | Method for producing ultra-pure bis(chlorosulfonyl)imide |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081226 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20111114 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120124 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20120927 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |