JP2007237389A - ブラスト処理方法 - Google Patents
ブラスト処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007237389A JP2007237389A JP2007039697A JP2007039697A JP2007237389A JP 2007237389 A JP2007237389 A JP 2007237389A JP 2007039697 A JP2007039697 A JP 2007039697A JP 2007039697 A JP2007039697 A JP 2007039697A JP 2007237389 A JP2007237389 A JP 2007237389A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blast
- blasting
- ceramic heater
- plate material
- processed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C3/00—Abrasive blasting machines or devices; Plants
- B24C3/02—Abrasive blasting machines or devices; Plants characterised by the arrangement of the component assemblies with respect to each other
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C11/00—Selection of abrasive materials or additives for abrasive blasts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】窒化アルミニウムから形成されたセラミックヒータの表面3aにブラスト材19を吹き付けて、この表面3aに付着した堆積物を除去するブラスト処理方法である。前記ブラスト材19として、炭化ケイ素又は酸化アルミニウムからなり、かつ粒度が#400〜#800の砥粒を用い、ブラスト材19がセラミックヒータの表面3aに当たるときの圧力であるブラスト圧を40〜150gf/cm2に設定している。
【選択図】図3
Description
本実施形態においては、被処理物は、窒化アルミニウム(ALN)から形成された部材を用いる。例えば、セラミックヒータ、静電チャック、及びサセプタ等の半導体製造装置の構成部品を採用することができる。
ブラスト材としては、炭化ケイ素(SiC)又は酸化アルミニウム(Al2O3)からなり、かつ、粒度が#400〜#800の砥粒を用いる。粒度が#400未満の場合は、プレート材3の表面3aに微細な凹凸が形成されて均熱性を低下するという問題がある。一方、粒度が#800よりも大きいとプレート材3の堆積物を十分除去することが困難となるため、処理時間が非常に長くなるという問題がある。
本実施形態によるブラスト処理装置7は、図2に示すように、被処理物であるセラミックヒータ1を載置する載置台9と、該載置台9の上方に配設された吹付け手段11とを備える。
本実施形態においては、ブラスト材19がプレート材3(被処理物)の表面3aに当たるときの圧力であるブラスト圧を40〜150gf/cm2に設定している。このブラスト圧は、ブラスト材19がプレート材3の表面3aに吹き付けられることにより、プレート材3がブラスト材19から受ける圧力である。
前記被処理物であるセラミックヒータ1のプレート材3の表面3aにおいて、単位面積あたりのブラスト材19の吹き付け量を1.4〜4.3g/cm2に設定することが好ましい。
ここで、Tは、1パスあたりの移動時間にパス回数を掛ければ良い。ノズル部17は、1パスが終了すると、横に所定距離(例えば5mm)ずれて次のパスに移るため、プレート材3を処理するパス回数の合計は200〔mm〕/5〔mm〕=40〔回〕となる。
また、プレート材3の表面3aにおける1mm2あたりに1秒間に吹き付ける吹き付け量qは、下記算出式で求められる。
前述した式1に式2及び式3を代入すると、下記算出式となる。
[ブラスト処理方法]
被処理物であるセラミックヒータ1にブラスト処理を施す手順を説明する。
まず、被処理物として、大きさがφ300mmの窒化アルミニウム製のセラミックヒータ1を用意した。このセラミックヒータ1を用いて、CVD処理によって10000枚のウエハを処理した。その結果、初期のときに比較して、加熱温度500℃におけるウエハ均熱性が5℃低下した。ここで、ウエハ均熱性とは、ウエハ上の最高温度と最低温度との差違であり、セラミックヒータ1に堆積物が付着したために均熱性の低下が生じたものと思われる。
3a プレート材の表面(被処理物の表面)
19 ブラスト材
Claims (4)
- 炭化ケイ素又は酸化アルミニウムからなり、かつ粒度が#400〜#800の砥粒であるブラスト材を、窒化アルミニウムからなる被処理物の表面に、ブラスト材が被処理物の表面に当たるときのブラスト圧を40〜150gf/cm2に設定して吹き付けることにより、前記被処理物の表面に付着した堆積物を除去することを特徴とするブラスト処理方法。
- 前記ブラスト圧を、60〜100gf/cm2に設定したことを特徴とする請求項1に記載のブラスト処理方法。
- 前記被処理物の表面における単位面積あたりのブラスト材の吹き付け量を1.4〜4.3g/cm2に設定したことを特徴とする請求項1又は2に記載のブラスト処理方法。
- 前記被処理物の表面における単位面積あたりのブラスト材の吹き付け量を1.7〜2.8g/cm2に設定したことを特徴とする請求項1又は2に記載のブラスト処理方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US77874906P | 2006-03-03 | 2006-03-03 | |
US60/778,749 | 2006-03-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007237389A true JP2007237389A (ja) | 2007-09-20 |
JP4936925B2 JP4936925B2 (ja) | 2012-05-23 |
Family
ID=38583408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007039697A Active JP4936925B2 (ja) | 2006-03-03 | 2007-02-20 | ブラスト処理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7288020B1 (ja) |
JP (1) | JP4936925B2 (ja) |
KR (1) | KR20070090772A (ja) |
CN (1) | CN100503170C (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010073514A1 (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | 株式会社アルバック | 静電チャック用のチャックプレートの製造方法 |
JP2019005725A (ja) * | 2017-06-28 | 2019-01-17 | マコー株式会社 | スラリ噴射体並びにウエットブラスト処理方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8219367B2 (en) * | 2005-12-20 | 2012-07-10 | Sintokogio, Ltd. | Method of estimating information on projection conditions by a projection machine and a device thereof |
US8147909B2 (en) * | 2009-03-26 | 2012-04-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method of making and using alloy susceptor with improved properties for film deposition |
CN101879703A (zh) * | 2010-06-17 | 2010-11-10 | 曹树梁 | 陶瓷太阳板素坯向阳面处理方法及其装置 |
CN102476356A (zh) * | 2010-11-23 | 2012-05-30 | 张家港市华杨金属制品有限公司 | 铝制品喷砂表面处理工艺 |
CN102176364A (zh) * | 2011-01-28 | 2011-09-07 | 南阳金牛电气有限公司 | 一种去除压敏电阻片铝电极和烧钵内杂质的方法 |
KR101474723B1 (ko) * | 2012-09-24 | 2015-01-23 | (주)마이크로티에스 | 웨이퍼 가열용 세라믹 히터의 제조방법 |
KR20150051370A (ko) * | 2013-11-04 | 2015-05-13 | (주)제니스월드 | 용사 코팅막과의 접착력 향상을 위한 산화알루미늄 성형 세라믹 기재의 표면 처리방법 |
US10276455B2 (en) | 2016-07-29 | 2019-04-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for measurement of semiconductor device fabrication tool implement |
CN110548729A (zh) * | 2018-06-01 | 2019-12-10 | 大连福兰特科技有限公司 | 一种冰粒喷射式表面处理设备 |
CN110699650B (zh) * | 2019-09-19 | 2021-10-29 | 金陵科技学院 | 一种强化丸粒及其制备方法 |
CN112893326A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-06-04 | 芜湖芯通半导体材料有限公司 | 一种半导体刻蚀机台内衬的清洗方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04295083A (ja) * | 1991-03-25 | 1992-10-20 | Hitachi Metals Ltd | 窒化アルミニウム部品の製造方法 |
JPH1177540A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-23 | Plastron Kk | 金属表面処理方法およびその処理を施した金属材 |
JPH11300616A (ja) * | 1998-04-16 | 1999-11-02 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ブラスト加工によるpdp用基板等のリブ形成方法 |
JP2001138239A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Sharp Corp | 樹脂部材の再生方法 |
JP2002144231A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 表面処理方法及び表面処理装置 |
JP2004162147A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Plasma Giken Kogyo Kk | 溶射被膜を有する窒化アルミニウム焼結体 |
JP2004195624A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Asahi Glass Co Ltd | 板ガラス表面の金属付着物除去方法 |
JP2004196633A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | セラミックスの改質方法 |
JP2007031229A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Tdk Corp | 窒化アルミニウム基板の製造方法及び窒化アルミニウム基板 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6296716B1 (en) * | 1999-10-01 | 2001-10-02 | Saint-Gobain Ceramics And Plastics, Inc. | Process for cleaning ceramic articles |
JP2002028599A (ja) | 2000-07-19 | 2002-01-29 | Seiko Epson Corp | 再利用部品の洗浄方法 |
WO2002024605A1 (fr) * | 2000-09-21 | 2002-03-28 | Sintokogio, Ltd. | Procede pour renforcer une ceramique et produit ceramique |
JP4574165B2 (ja) | 2003-12-26 | 2010-11-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | ブラスト処理方法 |
-
2007
- 2007-02-20 JP JP2007039697A patent/JP4936925B2/ja active Active
- 2007-02-26 US US11/678,711 patent/US7288020B1/en active Active
- 2007-02-28 KR KR1020070020131A patent/KR20070090772A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-03-02 CN CNB2007100861284A patent/CN100503170C/zh active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04295083A (ja) * | 1991-03-25 | 1992-10-20 | Hitachi Metals Ltd | 窒化アルミニウム部品の製造方法 |
JPH1177540A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-23 | Plastron Kk | 金属表面処理方法およびその処理を施した金属材 |
JPH11300616A (ja) * | 1998-04-16 | 1999-11-02 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ブラスト加工によるpdp用基板等のリブ形成方法 |
JP2001138239A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Sharp Corp | 樹脂部材の再生方法 |
JP2002144231A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 表面処理方法及び表面処理装置 |
JP2004162147A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Plasma Giken Kogyo Kk | 溶射被膜を有する窒化アルミニウム焼結体 |
JP2004195624A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Asahi Glass Co Ltd | 板ガラス表面の金属付着物除去方法 |
JP2004196633A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | セラミックスの改質方法 |
JP2007031229A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Tdk Corp | 窒化アルミニウム基板の製造方法及び窒化アルミニウム基板 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010073514A1 (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | 株式会社アルバック | 静電チャック用のチャックプレートの製造方法 |
JP5188584B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2013-04-24 | 株式会社アルバック | 静電チャック用のチャックプレートの製造方法 |
KR101316804B1 (ko) * | 2008-12-25 | 2013-10-11 | 가부시키가이샤 알박 | 정전척용의 척 플레이트의 제조 방법 |
JP2019005725A (ja) * | 2017-06-28 | 2019-01-17 | マコー株式会社 | スラリ噴射体並びにウエットブラスト処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100503170C (zh) | 2009-06-24 |
CN101092025A (zh) | 2007-12-26 |
JP4936925B2 (ja) | 2012-05-23 |
KR20070090772A (ko) | 2007-09-06 |
US20070207708A1 (en) | 2007-09-06 |
US7288020B1 (en) | 2007-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4936925B2 (ja) | ブラスト処理方法 | |
JP2018536287A (ja) | 堆積された表面フィーチャを有する基板支持アセンブリ | |
KR102378196B1 (ko) | 부착물 제거 방법 | |
JP6149728B2 (ja) | 半導体素子用基板の反り矯正装置及び反り矯正方法 | |
KR20150001814A (ko) | 세라믹 코팅된 링 및 세라믹 코팅을 적용하기 위한 프로세스 | |
JP2000021964A (ja) | 静電チャックのパーティクル発生低減方法および半導体製造装置 | |
EP1126047A1 (en) | Fastening device for a purge ring | |
JP6076063B2 (ja) | 加工装置 | |
JP2007098241A (ja) | 吸着ノズル洗浄方法及び装置と電子部品実装装置 | |
TWI771326B (zh) | 具有邊緣環的旋轉卡盤 | |
JP2019162675A (ja) | 硬質脆性材料製の被処理成品の表面加工方法 | |
JP2015503240A (ja) | 枚葉式ウェハエッチング装置 | |
JP2009255277A (ja) | 表面処理方法、シャワーヘッド部、処理容器及びこれらを用いた処理装置 | |
CN108103430B (zh) | 一种电弧工艺铝熔射层表面尖端毛刺的控制方法 | |
TW202028499A (zh) | 基板保持機構及成膜裝置 | |
JP2010129776A (ja) | 加工装置およびイオン化エア供給プログラム | |
JP7091198B2 (ja) | プラズマ処理装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2005019700A (ja) | 吸着固定装置の製造方法 | |
JP2006229057A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP7268208B2 (ja) | ウェハ用の基板処理装置 | |
KR102445264B1 (ko) | 부착물 제거 방법 | |
WO2018030236A1 (ja) | 付着物除去方法 | |
US20090032060A1 (en) | Bernoulli blade | |
JP6751529B2 (ja) | 付着物除去方法 | |
JP6751530B2 (ja) | 付着物除去方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090629 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090715 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091119 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120221 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4936925 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |