JP2007230771A - 浸漬処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】浸漬槽5内に配置されると共に前記ワークWを処理液内で搬送する低位搬送機構35と、前記浸漬槽5の外側で前記低位搬送機構35よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽5の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークWを搬送する高位搬送機構56と、前記低位搬送機構35又は高位搬送機構56の一方の搬送機構から、ワークWを略水平移動により受け取り、下降又は上昇し、ワークを略水平移動により他方の搬送機構に移載する昇降自在な移載機構72とを備えている。好ましくは、前記移載機構72の搬送速度は変更可能となっている。
【選択図】図9
Description
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、搬送幅方向に所定間隔をおいて配置された一対の移載用搬送ローラからなる移載用搬送ローラ対を、搬送方向に所定間隔をおいて複数対配置し、前記複数の移載用搬送ローラ対のうち、最も高位搬送機構側の移載用搬送ローラ対の移載用搬送ローラは略鉛直姿勢に配置し、低位搬送機構側の移載用搬送ローラ対に行くに従い、移載用搬送ローラ間でなす上開きの角度が順次大きくなるように、各移載用搬送ローラを傾斜させている。
図1〜図16は、本発明にかかるワーク搬送装置を備えた浸漬処理装置の一例を示し、めっき処理装置に適用した例である。
図1はめっき処理装置全体の側面略図であり、紙面のスペース的な制限からめっき処理ラインを上下2段に分けて表示しているが、実際の装置は、搬送始端(上段の左端)Psから搬送終端(下段の右端)Peに至るまで、搬送方向Fに沿って一つのライン上に揃えられている。なお、説明の都合上、搬送方向Fを基準として、搬送方向F側(搬送終端Pe)側を「前側」とし、搬送方向Fと反対側(搬送始端端Ps側)を「後側」とし、また、搬送方向Fと直交する水平方向(搬送幅方向)を左右方向として、以下説明する。
図4は、図1のIV-IV断面拡大図であり、無電解Cuめっき用浸漬槽5の縦断面図である。この図4において、箱形の浸漬槽5は、装置本体101内に設けられた外槽102の底壁部分の上方に、複数の支柱103を介して支持されており、浸漬槽5内には複数の水平な搬送ローラ105からなる前記低位搬送機構35が収納され、各搬送ローラ105の回転軸105aは、浸漬槽5の左側の側壁107の外側に形成された隔壁110の外側まで延び、ギヤ111及びチェーン112を介して定速モータ113に連動連結している。搬送ローラ105の搬送面上に、回路基板等の板状のワークWが水平姿勢に載置され、めっき液内を水平に搬送するようになっている。
図3は図1のIII-III断面拡大図であり、この図3において、無電解Cuめっき用浸漬槽5の後端入口部に配置されているローラ式の移載機構72は、ワークWを上面に載置して搬送する複数の水平な搬送ローラ140と、該搬送ローラ140を支持するフレーム142と、該フレーム142を昇降自在に支持する左右一対のシリンダ143、144と、前記搬送ローラ140を駆動するために各搬送ローラ140の回転軸140aに固着されたギヤ145等からなるギヤ列と、変速モータ146により構成されている。前記フレーム142の右端部は、装置本体101の右側壁に形成された貫通孔148を通って装置本体101外部に突出し、装置本体101の右側壁に固定された右側シリンダ144に支持され、フレーム142の左端部は、装置本体101内の前記隔壁110に形成された貫通孔149を通り、装置本体101の左側壁と隔壁110との空間部内に突出し、隔壁110に固定された左側シリンダ143に支持されている。前記ギヤ145のギヤ列は、浸漬槽5の左側の側壁107と隔壁110との間の空間部に配置されており、該空間部の下側には、前記外槽102の底壁部分よりも下方に突出する第2液受け部151が形成されている。該第2液受け部151の底壁には、フィルター152を介して液排出ポンプ153が接続されており、該液排出ポンプ153は前記予備槽124に液を排出するようになっている。前記各ギヤ145は、図8及び図13に示すように、それぞれ中間ギヤ155を介して噛み合うことにおり、同一方向に回転するように構成されており、ギヤ145と中間ギヤ155とのギヤ列は、オーバーフローした処理液が外槽102の開口部から飛び散るのを防止する液飛散防止壁としての役目も果たしている。
図9の(a)〜(e)は、移載動作の一例として、図1の無電解Cuめっき用浸漬槽5の後後端入口部において、早送り中継槽16の高位搬送機構56から無電解Cuめっき用浸漬槽5内の低位搬送機構35へ、移載機構72によりワークを移載する場合の作動を段階的に示している。
(1)図9の(a)〜(e)で説明したように、水平姿勢で送られて来るワークWを、反転させたり、上下から挟持したりすることなく、一方の搬送機構56から他方の搬送機構35に略水平移動により、速やかに、かつ円滑に移載するので、基板表面に非接触が要求される回路基板等のワークにも簡単に対応でき、しかも、浸漬槽自体をコンパクトに維持することができる。特に、めっき槽に適用する場合には、めっきむらの発生を防止できる。
図17〜図20は本発明の第2の実施の形態であり、図17は移載機構72の平面図、図18は移載機構72の側面図、図19は図18のXIX矢視図、図20は移載機構72の昇降動作を示す側面図である。図17において、移載機構72の搬送ローラ140は、フリーローラとして構成されており、図20に示すように、移載機構72の下降時に、移送機構72の搬送ローラ140が、低位搬送機構35の搬送ローラ105間を下方に通過し、所定量h1だけ下方位置で停止するように構成されている。なお、第2の実施の形態において、第1の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
図21及び図22は本発明の第3の実施の形態であり、図21は移載機構72の平面図、図22は図21のXXII-XXII断面図を示しており、移載機構72の搬送ローラ200として、縦向きの回転軸200aを有すると共に、外周に断面V形溝200bを有するローラを用いている。各搬送ローラ200は、左右方向に所定間隔をおいて2列に対向配置されており、水平姿勢のワークWの左右端部を、搬送ローラ200のV形溝200bで保持し、搬送ローラ200の回転により搬送するように構成されている
図26〜図28は本発明の第4の実施の形態であり、液噴流式の移載機構72を備えており、図26は移載機構72の縦断面図、図27は移載機構72の平面図、図28は図26のXXVIII-XXVIII断面図であり、第1の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
(1)図26において、高位搬送機構56上を板状のワークWが前方に搬送され、高位搬送機構56の前端部又はその近傍位置まで至ると、液圧ポンプ207を駆動することにより、各ノズル205の上端噴口205aから上向きに液噴流を噴出させる。
図29〜図31は本発明の第5の実施の形態であり、複数の移載用搬送ローラ対211を立設してなる移載機構72を備えており、図29は移載機構72の縦断面図、図30は図29のXXX-XXX断面拡大図、図31は移載用搬送ローラ対の支持箇所の変位を示す概念図(図29のXXX-XXX断面拡大相当図)であり、第1の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
(1)図31において、移載用搬送ローラ211a、211b、…214a、214bは、矢印Ya、Yb方向に常時回転しており、高位搬送機構56によって前方に搬送されてくる板状のワークWは、まず最後端の移載用搬送ローラ211a、211bにより、高さH1において挟持点P1により挟持され、さらに前方に搬送される。
図32〜図34は本発明の第6の実施の形態であり、高さの異なる複数の移載面223、224を階段状に配置してなる移載機構72を備えており、図32は移載機構72の縦断面図、図33は移載用搬送ローラの駆動機構を示す縦断面図、図34は平面図であり、第1の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
している。
図32において、高位搬送機構56上を前方に搬送されてくる板状のワークWは、フリーローラ208を介して、まず、移載機構72の第1の移載面223に受け渡され、次に下位の第2の移載面224に受け渡され、該第2の移載面224から低位搬送機構35に受け渡され、定速で搬送される。
図35〜図40は本発明の第7の実施の形態であり、上下に揺動可能な移載機構72を備えており、図35は移載機構72の縦断面図、図36は移載機構の駆動部を示す縦断面図、図37は図36のXXXVII-XXXVII断面図、図38は平面図、図39はローラ支持部分の拡大図、図40は図39のXXXX矢視図である。第1の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
(1)図35において、移載機構72は、高位搬送機構56と略同じ高さで水平姿勢に維持されると共に、各移載用搬送ローラ250が高位搬送機構56の搬送ローラと同じ搬送速度で回転しており、この状態で、高位搬送機構56からの板状ワークWを受け取る。
(1)請求項1に記載した「略水平移動」とは、前記第1〜第23実施の形態で示したような水平移動だけには限定されないことを意味しており、弱冠傾斜した移動も含むものである。また、図9に示す移載機構72を、前下がりに傾斜した姿勢でワークWを受け取るような構造とすることもできる。
34、35、36、37 低位搬送機構
51、52、53、…、62、63、64 高位搬送機構
70、71、72、73、74、75、76、77 移載機構
105 高位及び低位搬送機構の搬送ローラ
140 移載機構の搬送ローラ
143、144 移載機構昇降用のシリンダ
200 移載機構の搬送ローラ
205 ノズル
W ワーク
Claims (8)
- 処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記低位搬送機構又は高位搬送機構の一方の搬送機構から、ワークを略水平移動により受け取り、下降又は上昇し、ワークを略水平移動により他方の搬送機構に移載する昇降自在な移載機構と、を備えたことを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。 - 処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、上向きの液噴流を噴流圧制御自在に発生させるノズルを備え、上向きの前記液噴流により高位搬送機構からのワークを受け取り、液噴流の噴流圧を低下させることによりワークを低位搬送機構に載せるように構成していることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。 - 処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、搬送幅方向に所定間隔をおいて配置された一対の移載用搬送ローラからなる移載用搬送ローラ対を、搬送方向に所定間隔をおいて複数対配置し、
前記複数の移載用搬送ローラ対のうち、最も高位搬送機構側の移載用搬送ローラ対の移載用搬送ローラは略鉛直姿勢に配置し、低位搬送機構側の移載用搬送ローラ対に行くに従い、移載用搬送ローラ間でなす上開きの角度が順次大きくなるように、各移載用搬送ローラを傾斜させていることを特徴とするワーク搬送装置。 - 処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、複数の移載用搬送ローラにより構成されると共に、高位搬送機構の搬送面と低位搬送機構の搬送面との間で、高さの異なる複数の移載面を有しており、
前記複数の移載面は、高位搬送機構側から低位搬送機構側に行くに従い、階段状に順次低位置になるように配置されていることを特徴とするワーク搬送装置。 - 処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、高位搬送機構側の端部を回動支点として回動することにより、低位搬送機構側の端部を昇降するようになっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記高位搬送機構の搬送速度が変更可能となっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
- 請求項1、3、4、5及び6のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記移載機構の搬送速度が変更可能となっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
- 請求項1、3、4、5及び6のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記低位搬送機構、高位搬送機構及び移載機構は、複数の搬送ローラからなると共に搬送面上にワークを載置して搬送するように構成されていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
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