JP2007220594A - プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、安価に均一にプラズマを生成させ得るプラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】各アンテナ2は同一とし、各アンテナ2への高周波電力の印加を、各アンテナ2に共通に設けた高周波電源4から一つの整合器5及び一本のブスバー3を介して行うようにし、ブスバー3を整合器5との接続部位を基準にアンテナ数と同数に区間分けし、各アンテナ一端部を、対応する区間部分31、32又は33に電力供給線311、321又は331にて接続し、各アンテナ他端部は接地し、各ブスバー区間部分のインピーダンス及び各電力供給線のインピーダンスを各アンテナに流れる電流及び各アンテナに印加される電圧のそれぞれが同一となるように調整することで、各アンテナ2に供給される高周波電力を均一化して誘導結合プラズマを発生させる。
【選択図】図2
【解決手段】各アンテナ2は同一とし、各アンテナ2への高周波電力の印加を、各アンテナ2に共通に設けた高周波電源4から一つの整合器5及び一本のブスバー3を介して行うようにし、ブスバー3を整合器5との接続部位を基準にアンテナ数と同数に区間分けし、各アンテナ一端部を、対応する区間部分31、32又は33に電力供給線311、321又は331にて接続し、各アンテナ他端部は接地し、各ブスバー区間部分のインピーダンス及び各電力供給線のインピーダンスを各アンテナに流れる電流及び各アンテナに印加される電圧のそれぞれが同一となるように調整することで、各アンテナ2に供給される高周波電力を均一化して誘導結合プラズマを発生させる。
【選択図】図2
Description
本発明はガスプラズマを生成させるプラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにかかるプラズマ生成装置を利用したプラズマ処理装置、すなわち、被処理物にプラズマのもとで目的とする処理を施すプラズマ処理装置に関する。
プラズマは、例えば、プラズマのもとで膜形成するプラズマCVD法及び装置、プラズマのもとでスパッタターゲットをスパッタリングして膜形成する方法及び装置、プラズマのもとでエッチングを行うプラズマエッチング方法及び装置、プラズマからイオンを引き出してイオン注入やイオンドーピングを行う方法及び装置等に利用され、さらには、そのような方法や装置を利用して各種半導体デバイス(例えば液晶表示装置等に利用される薄膜トランジスタ)或いはそれ用の材料基板等を製造する装置などのように、プラズマを利用する各種装置に利用される。
プラズマ生成方法及び装置としては、例えば、容量結合型プラズマを生成するもの、誘導結合型プラズマを生成するもの、ECR(電子サイクロトロン共鳴)プラズマを生成するもの、マイクロ波プラズマを生成するものなど、種々のタイプのものが知られている。
これらのうち、誘導結合型プラズマを生成するプラズマ生成方法及び装置では、プラズマ生成室内にできるだけ高密度で均一なプラズマを得るために、プラズマ生成室に対し高周波アンテナを設け、該高周波アンテナから該室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを生成する。
かかる高周波アンテナは、プラズマ生成室外に配置されることもあるが、投入される高周波電力の利用効率を向上させる等のために、プラズマ生成室内に配置することも提案されている。
また、例えば大面積の基板にプラズマのもとで薄膜を形成したり、複数の基板に一度にプラズマのもとで薄膜を形成する等のために、プラズマ生成室内に複数の高周波アンテナを設置することも提案されている。
例えば、特開2001−3174号公報には、成膜室でもあるプラズマ生成室内に複数の高周波アンテナを設けた誘導結合型プラズマCVD装置が記載されている。
例えば、特開2001−3174号公報には、成膜室でもあるプラズマ生成室内に複数の高周波アンテナを設けた誘導結合型プラズマCVD装置が記載されている。
このように複数の高周波アンテナを用いて誘導結合型プラズマを生成させる場合、プラズマ生成室内にできるだけ均一にプラズマを生成するための工夫もなされている。
例えば、前記特開2001−3174号公報には、複数の基板に薄膜を形成するにあたり、成膜室でもあるプラズマ生成室内の広い範囲にわたり均一なプラズマを生成させてそれら基板に均一な薄膜を形成できるようにするため、複数の高周波アンテナのそれぞれに一つずつ高周波電源及び整合器を設けることが記載されている。
例えば、前記特開2001−3174号公報には、複数の基板に薄膜を形成するにあたり、成膜室でもあるプラズマ生成室内の広い範囲にわたり均一なプラズマを生成させてそれら基板に均一な薄膜を形成できるようにするため、複数の高周波アンテナのそれぞれに一つずつ高周波電源及び整合器を設けることが記載されている。
このほか、複数の高周波アンテナに対し、一つの高周波電源から一つの整合器を介して電力供給するようにし、且つ、各高周波アンテナに高周波電力を均等に供給して広い範囲にわたり均一なプラズマを生成させるために、コンデンサやリアクトル回路等の受動素子の付加なども提案されてきた。
しかしながら、特開2001−3174号公報に記載されているように、複数の高周波アンテナの一つずつにそれぞれ高周波電源を設ける場合、高周波電源は高価であるから、プラズマ生成装置が高価なものになってしまう。
この点、前記のもう一つの提案のように、高周波電源は複数の高周波アンテナに共通の一つとして、コンデンサやリアクトル回路等の受動素子を付加すれば、それだけ安価に済むが、プラズマが点灯している状態では、プラズマ生成条件、換言すればプラズマの状態よって高周波アンテナの負荷が変動し(例えば、プラズマの導電率が変化し、それによって高周波アンテナの負荷が変動し)、それに応じてアンテナのインピーダンスが変化してくるため、受動素子の付加ではかかる変化に対応できず、各高周波アンテナへの電力分布を十分制御できない。
そこで本発明は、プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法であって、プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、各高周波アンテナに安価に均一に高周波電力を供給して、それだけプラズマ生成室内に均一なプラズマを発生させことができる方法を提供することを第1の課題とする。
また本発明は、プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナが設置され、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成装置であって、プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、各高周波アンテナに安価に均一に高周波電力を供給して、それだけプラズマ生成室内に均一なプラズマを発生させことができる装置を提供することを第2の課題とする。
また本発明は、安価に、広い範囲にわたり均一なプラズマを生成させ、該プラズマのもとで被処理物に目的とする処理を安価に、均一に施せるプラズマ処理装置を提供することを第3の課題とする。
本発明者は前記課題を解決するため研究を重ね次のことを知見するに至った。
すなわち、プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させる場合、安価にプラズマを発生させるためには、高周波電源として複数本の高周波アンテナに共通の電源を用いることが望ましく、該高周波電源から該電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して各高周波アンテナに高周波電力を供給すればよい。
すなわち、プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させる場合、安価にプラズマを発生させるためには、高周波電源として複数本の高周波アンテナに共通の電源を用いることが望ましく、該高周波電源から該電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して各高周波アンテナに高周波電力を供給すればよい。
その場合、各高周波アンテナを同一のものとしておいて、プラズマ点灯時(プラズマ生成において)各アンテナに流れる電流及び各アンテナに印加される電圧がそれぞれ同じになるようにすれば、プラズマ生成条件、換言すればプラズマの状態の変化に拘らず、各アンテナに供給される高周波電力が均一化され、それだけプラズマ生成室内に均一なプラズマを発生させることができる。
このように各アンテナに同じ電流が流れ、同じ電圧が印加されるようにするには、ブスバーを前記整合器との接続部位を基準にしてブスバー長手方向において高周波アンテナの数と同数に区間分けし、前記各高周波アンテナの一端部(電力供給側端部)を、該各区間部分に、一つの区間部分に対し一本の高周波アンテナを対応させて電力供給線にて接続するとともに、該各高周波アンテナの他端部を同一条件で接地状態に設定し、該ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスを調整すればよい。
各ブスバー区間部分のインピーダンスの調整は、例えば、該ブスバーを帯板状のブスバーとし、各区間部分の長さ、厚み及び幅を調整することで、容易に行える。この場合厚みは一定としてもよい。
電力供給線のインピーダンスの調整は、例えば、電力供給線を断面形状及び断面積を同じとしてその長さを変えることで容易に調整できる。
電力供給線のインピーダンスの調整は、例えば、電力供給線を断面形状及び断面積を同じとしてその長さを変えることで容易に調整できる。
かくして、プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、各高周波アンテナに安価に均一に高周波電力を供給して、それだけプラズマ生成室内に均一なプラズマを発生させことができる。
本発明は、かかる知見に基づき、前記第1の課題を解決するため、
プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法であり、該各高周波アンテナとして同一の高周波アンテナを採用し、該各高周波アンテナへの高周波電力の印加を、それら高周波アンテナに共通に設けた高周波電源から該高周波電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して行うようにし、該ブスバーを前記整合器との接続部位を基準にしてブスバー長手方向において前記高周波アンテナの数と同数に区間分けし、前記各高周波アンテナの一端部を、該各区間部分に、一つの区間部分に対し一本の高周波アンテナを対応させて電力供給線にて接続するとともに、該各高周波アンテナの他端部を同じ接地条件で接地状態に設定し、該ブスバー及び該電力供給線を接地電位のシールドケースで囲み、該ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスをプラズマ生成時に各高周波アンテナに流れる電流及び各高周波アンテナに印加される電圧がそれぞれ同一となるように調整することで、該各高周波アンテナに供給される高周波電力を均一化して前記誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法を提供する。
プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法であり、該各高周波アンテナとして同一の高周波アンテナを採用し、該各高周波アンテナへの高周波電力の印加を、それら高周波アンテナに共通に設けた高周波電源から該高周波電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して行うようにし、該ブスバーを前記整合器との接続部位を基準にしてブスバー長手方向において前記高周波アンテナの数と同数に区間分けし、前記各高周波アンテナの一端部を、該各区間部分に、一つの区間部分に対し一本の高周波アンテナを対応させて電力供給線にて接続するとともに、該各高周波アンテナの他端部を同じ接地条件で接地状態に設定し、該ブスバー及び該電力供給線を接地電位のシールドケースで囲み、該ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスをプラズマ生成時に各高周波アンテナに流れる電流及び各高周波アンテナに印加される電圧がそれぞれ同一となるように調整することで、該各高周波アンテナに供給される高周波電力を均一化して前記誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法を提供する。
また、本発明は、前記第2の課題を解決するため、
プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナが設置され、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成装置であり、該各高周波アンテナは同一の高周波アンテナであり、該各高周波アンテナへの高周波電力の印加が、それら高周波アンテナに共通に設けられた高周波電源から該高周波電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して行われ、該ブスバーは、前記整合器との接続部位を基準にしてブスバー長手方向において前記高周波アンテナの数と同数に区間分けされ、前記各高周波アンテナの一端部が、該各区間部分に、一つの区間部分に対し一本の高周波アンテナを対応させて電力供給線にて接続されており、該各高周波アンテナの他端部は同じ接地条件で接地状態に設定されており、該ブスバー及び該電力供給線は接地電位のシールドケースで囲まれており、該ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスが、プラズマ生成時に各高周波アンテナに流れる電流及び各高周波アンテナに印加される電圧がそれぞれ同一となるように調整されていることで、該各高周波アンテナに供給される高周波電力を均一化して前記誘導結合プラズマを発生させることができるプラズマ生成装置を提供する。
プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナが設置され、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成装置であり、該各高周波アンテナは同一の高周波アンテナであり、該各高周波アンテナへの高周波電力の印加が、それら高周波アンテナに共通に設けられた高周波電源から該高周波電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して行われ、該ブスバーは、前記整合器との接続部位を基準にしてブスバー長手方向において前記高周波アンテナの数と同数に区間分けされ、前記各高周波アンテナの一端部が、該各区間部分に、一つの区間部分に対し一本の高周波アンテナを対応させて電力供給線にて接続されており、該各高周波アンテナの他端部は同じ接地条件で接地状態に設定されており、該ブスバー及び該電力供給線は接地電位のシールドケースで囲まれており、該ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスが、プラズマ生成時に各高周波アンテナに流れる電流及び各高周波アンテナに印加される電圧がそれぞれ同一となるように調整されていることで、該各高周波アンテナに供給される高周波電力を均一化して前記誘導結合プラズマを発生させることができるプラズマ生成装置を提供する。
本発明に係る上記プラズマ生成方法における「該各高周波アンテナの他端部を同じ接地条件で接地状態に設定し、」及びプラズマ生成装置における「各高周波アンテナの他端部は同じ接地条件で接地状態に設定されており、」の「同じ接地条件による接地状態」とは、各高周波アンテナが接地されたプラズマ生成室に直付け接続されていることで接地されている状態、各高周波アンテナが断面積、長さ、材質等の点で同じ接地線を用いて同じようにプラズマ生成室に接続されることで接地されている状態、各高周波アンテナが断面積、長さ、材質等の点で同じ接地線を用いて同じように直接的に接地されることで接地されている状態等を指し、要するに、各高周波アンテナが同じ接地条件で接地状態に設定されている状態を指している。
本発明に係るプラズマ生成方法及びプラズマ生成装置における「ブスバーの各区間部分のインピーダンスの調整」、「該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスの調整」のいずれのインピーダンスの調整についても、厳密には、内部インピーダンス、空間インピーダンス、アドミタンスを考慮すべきであり、そうしてもよいが、内部インピーダンスやアドミタンスは空間インピーダンスに比べて小さいので、「ブスバーの各区間部分のインピーダンスの調整」及び「電力供給線のインピーダンスの調整」のいずれについても、空間インピーダンスを調整することで行っても実用上差し支えない。
本発明に係る上記プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置のいずれにおいても以下のことが言える。
プラズマ生成室内に設置するアンテナの本数は複数本でよいが、従来では、高周波電源を複数本の高周波アンテナに共通のものを採用したとき、プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、各高周波アンテナに安価に均一に高周波電力を供給することが困難であった、特に3本以上の高周波アンテナを採用する場合に、本発明を適用する利点が大きい。
プラズマ生成室内に設置するアンテナの本数は複数本でよいが、従来では、高周波電源を複数本の高周波アンテナに共通のものを採用したとき、プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、各高周波アンテナに安価に均一に高周波電力を供給することが困難であった、特に3本以上の高周波アンテナを採用する場合に、本発明を適用する利点が大きい。
前記各高周波アンテナの一端部のブスバー区間部分への接続部位の代表例として、各高周波アンテナの一端部を、該高周波アンテナが接続されるべきブスバー区間部分の、前記整合器接続部位から遠い方の端部に接続する場合を挙げることができる。
前記ブスバーの各区間部分のインピーダンスを比較的容易に調整できる例として次のものを挙げることができる。
すなわち、前記ブスバーとして、帯板形状のブスバーを採用し、前記各ブスバー区間部分のインピーダンスの調整を、該ブスバー区間部分のブスバー長手方向における長さ、厚み及び幅を調整することで行う場合である。なお、ここでいう「調整」には、「厚みについては一定にする」といった調整も含まれる。
帯板形状のブスバーは、厚みより幅を切削加工等によりより容易に変更できる場合が多いから、各区間部分のインピーダンスの調整をより容易にするために、全区間部分についてその厚みは一定としてもよい。
すなわち、前記ブスバーとして、帯板形状のブスバーを採用し、前記各ブスバー区間部分のインピーダンスの調整を、該ブスバー区間部分のブスバー長手方向における長さ、厚み及び幅を調整することで行う場合である。なお、ここでいう「調整」には、「厚みについては一定にする」といった調整も含まれる。
帯板形状のブスバーは、厚みより幅を切削加工等によりより容易に変更できる場合が多いから、各区間部分のインピーダンスの調整をより容易にするために、全区間部分についてその厚みは一定としてもよい。
本発明は前記第3の課題を解決するため、被処理物にプラズマのもとで目的とする処理を施すプラズマ処理装置であって、プラズマ源として以上説明した本発明に係るプラズマ生成装置のいずれかを採用したプラズマ処理装置も提供する。
本発明に係るプラズマ処理装置は、本発明に係るプラズマ生成装置を利用したものであるから、安価に、広い範囲にわたり均一なプラズマを生成させ、該プラズマのもとで被処理物に目的とする処理を安価に、均一に施せる利点がある。
かかるプラズマ処理装置の例として、プラズマCVD装置、プラズマのもとでスパッタターゲットをスパッタリングして膜形成する装置、プラズマによるエッチング装置、プラズマからイオンを引き出してイオン注入やイオンドーピングを行う装置、さらには、そのような装置を利用して各種半導体デバイス(例えば液晶表示装置等に利用される薄膜トランジスタ)或いはそれ用の材料基板等を製造する装置などのように、プラズマを利用する各種装置を例示できる。
以上説明したように本発明によると、プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法であって、プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、各高周波アンテナに安価に均一に高周波電力を供給して、それだけプラズマ生成室内に均一なプラズマを発生させことができる方法を提供することができる。
また本発明によると、プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナが設置され、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成装置であって、プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、各高周波アンテナに安価に均一に高周波電力を供給して、それだけプラズマ生成室内に均一なプラズマを発生させことができる装置を提供することができる。
さらに、本発明によると、安価に、広い範囲にわたり均一なプラズマを生成させ、該プラズマのもとで被処理物に目的とする処理を安価に、均一に施せるプラズマ処理装置を提供することができる。
以下図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図1は本発明に係るプラズマ生成方法の1例を実施できるプラズマ生成装置の1例を利用したプラズマ処理装置例(プラズマCVD装置)を示している。図2は図1のプラズマ処理装置における高周波電源、整合器、ブスバー及び高周波アンテナ等を抽出して示す図である。
図1は本発明に係るプラズマ生成方法の1例を実施できるプラズマ生成装置の1例を利用したプラズマ処理装置例(プラズマCVD装置)を示している。図2は図1のプラズマ処理装置における高周波電源、整合器、ブスバー及び高周波アンテナ等を抽出して示す図である。
図1のプラズマ処理装置は、プラズマ生成室を兼ねる成膜室1を備えている。成膜室1内には天井壁11から3本の同一の高周波アンテナ2が架設されている。各高周波アンテナ2は絶縁性部材20で被覆されており、該部材20ごと室天井壁11に設けられている。
3本のアンテナ2は、本例では同じ形状、寸法の倒立門形状或いはコの字形状とも言えるものである。各アンテナ2は、図2に示すように高さa、幅bであり、図3(A)に示すように、外周半径がR、内周半径がrの断面円形の銅製パイプからなっている。
3本のアンテナ2は、本例では同じ形状、寸法の倒立門形状或いはコの字形状とも言えるものである。各アンテナ2は、図2に示すように高さa、幅bであり、図3(A)に示すように、外周半径がR、内周半径がrの断面円形の銅製パイプからなっている。
室1の天井壁11の上方には一本のブスバー3が配置されており、このブスバーに、3本のアンテナ2に共通に用いられる高周波電源4(本例では周波数13.56MHz)が整合器5を介して接続されている。
ブスバー3はアルミニゥム製の断面矩形のシールドケース30で囲まれている。シールドケース30はブスバー3を囲ってプラズマ生成室1の天井壁11に接続され、接地電位に設定されている。
ブスバー3はアルミニゥム製の断面矩形のシールドケース30で囲まれている。シールドケース30はブスバー3を囲ってプラズマ生成室1の天井壁11に接続され、接地電位に設定されている。
ブスバー3は、図2及び図3(B)に示すように、断面形状が矩形で、厚みt及び上下方向の幅wが一定の帯板状の銅製バーであり、全体が三つの区間部分31、32、33に分けられている。但し、三つの区間部分31〜33は分断されているわけではなく一体的に連続している。各区間部分のブスバー長手方向の長さ、すなわち、区間部分31の長さL1、区間部分32の長さL2、区間部分33の長さL3は、区間部分31と32とは同じ(L1=L2)であり、区間部分33の長さL3はそれらより短い(L3<L1,L2)。
整合器5はブスバー区間部分31と32の境界部位に接続されている。
区間部分31、32、33のそれぞれにおける整合器5から遠い方の端部にアンテナ2が一本ずつ、その一端部(電力供給側端部)で接続されている。さらに言えば、区間部分31に対するアンテナ2は電力供給線311で接続されており、区間部分32に対するアンテナ2は電力供給線321で接続されており、区間部分33に対するアンテナ2は電力供給線331で接続されている。
区間部分31、32、33のそれぞれにおける整合器5から遠い方の端部にアンテナ2が一本ずつ、その一端部(電力供給側端部)で接続されている。さらに言えば、区間部分31に対するアンテナ2は電力供給線311で接続されており、区間部分32に対するアンテナ2は電力供給線321で接続されており、区間部分33に対するアンテナ2は電力供給線331で接続されている。
各アンテナ2の他端部は、接地された室1に、同一の接地線(断面形状、長さ、材質等の点で同一の接地線)300で接続されている。すなわち、各アンテナ2は同じ接地条件で接地状態に設定されている。
電力供給線311〜331のそれぞれ及び各接地線300は、長さの点を除けばアンテナ2と同じ銅製パイプからなり、アンテナ2から一体的に連続している。
電力供給線311、321、331及び各接地線300もシールドケース30で囲まれている。
電力供給線311、321、331及び各接地線300もシールドケース30で囲まれている。
室1内にはさらに、被処理基板6を設置する基板ホルダ7が配置されている。ホルダ7は、これに搭載される被処理基板6を加熱できるヒータ71を有している。ホルダ7は室1とともに接地されている。
また、室1内には、ガス供給部81、82からそれぞれ所定のガスを供給できるようになっている。本例では基板6上にシリコン薄膜を形成できるように、ガス供給部81はモノシランガスを、ガス供給部82は水素ガスを、室1内へ供給する。
室1にはさらに、室1内から排気して室1内を所定の減圧状態に設定するための排気装置9も接続されている。
室1にはさらに、室1内から排気して室1内を所定の減圧状態に設定するための排気装置9も接続されている。
以上説明したプラズマ生成室を兼ねる室1、アンテナ2、ブスバー3、高周波電源4、整合器5、各アンテナ2に対する電力供給線311〜331及び接地線300、ガス供給部81、82及び排気装置9等はプラズマ生成装置を構成している。
プラズマ生成装置については後ほどさらに詳述する。
プラズマ生成装置については後ほどさらに詳述する。
以上説明したプラズマ処理装置によると、室1の図示省略のゲートを開けてホルダ7に被処理基板6を設置した後該ゲートを気密に閉じ、その状態で排気装置9により室1内を所定の成膜圧力より低圧まで減圧する一方、必要に応じ基板6をヒータ71にて所定成膜温度へ向け加熱し、さらにガス供給部81、82からシランガス及び水素ガスをそれぞれ所定量室1内へ供給するとともに室1内圧を排気装置9にて所定の成膜圧に維持しつつ各アンテナ2に高周波電力を供給して、室1内に誘導結合プラズマを発生させ、該プラズマのもとで基板6上にシリコン薄膜を形成することができる。
再びプラズマ生成装置の部分についてさらに説明する。
本例のプラズマ生成装置では、プラズマ生成において各アンテナ2に均等に高周波電力が分配供給され、それにより室1内にできるだけ均一にプラズマが生成され、基板6に均一にシリコン薄膜が形成されるように工夫がなされている。
すなわち、プラズマ生成において各アンテナ2に均等に高周波電力が分配供給されるように、各アンテナ2に同一の電流(大きさも位相も同じ電流)が流れ、同一の電圧が印加されるようにすべく、ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び各電力供給線のインピーダンスが調整されている。ブスバーの各区間部分のインピーダンスの調整及び各電力供給線のインピーダンスの調整は、本例では、内部インピーダンスやアドミタンスに比べて大きい空間インピーダンスを調整することで行われている。
本例のプラズマ生成装置では、プラズマ生成において各アンテナ2に均等に高周波電力が分配供給され、それにより室1内にできるだけ均一にプラズマが生成され、基板6に均一にシリコン薄膜が形成されるように工夫がなされている。
すなわち、プラズマ生成において各アンテナ2に均等に高周波電力が分配供給されるように、各アンテナ2に同一の電流(大きさも位相も同じ電流)が流れ、同一の電圧が印加されるようにすべく、ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び各電力供給線のインピーダンスが調整されている。ブスバーの各区間部分のインピーダンスの調整及び各電力供給線のインピーダンスの調整は、本例では、内部インピーダンスやアドミタンスに比べて大きい空間インピーダンスを調整することで行われている。
図4は、ブスバー3、電力供給線311〜331、アンテナ2を含む回路を等価回路的に示す図である。
図4において、Zb1はブスバー区間部分31の空間インピーダンス、Zb2はブスバー区間部分32の空間インピーダンス、Zb3はブスバー区間部分33の空間インピーダンスである。Z1は電力供給線311のうち、その長さから一番短い電力供給線331の長さを差し引いた長さ部分、すなわち線331の長さに対し長くなっている部分の空間インピーダンス、Z2は電力供給線321のうち、その長さから一番短い電力供給線331の長さを差し引いた長さ部分、すなわち線331の長さに対し長くなっている部分の空間インピーダンスである。
Zaは、それぞれ同一である高周波アンテナ2のプラズマ生成時のインピーダンスである。
図4において、Zb1はブスバー区間部分31の空間インピーダンス、Zb2はブスバー区間部分32の空間インピーダンス、Zb3はブスバー区間部分33の空間インピーダンスである。Z1は電力供給線311のうち、その長さから一番短い電力供給線331の長さを差し引いた長さ部分、すなわち線331の長さに対し長くなっている部分の空間インピーダンス、Z2は電力供給線321のうち、その長さから一番短い電力供給線331の長さを差し引いた長さ部分、すなわち線331の長さに対し長くなっている部分の空間インピーダンスである。
Zaは、それぞれ同一である高周波アンテナ2のプラズマ生成時のインピーダンスである。
図4の回路において、プラズマ点灯時にブスバー区間部分31に接続されたアンテナ2に流れる電流をI1 、区間部分32に接続されたアンテナ2に流れる電流をI2 、区間部分33に接続されたアンテナ2に流れる電流をI3 とし、各アンテナ2に同一の電流(大きさも位相も同じ電流)が流れるとすると、そのとき各アンテナ2に印加される電圧をVとすれば、以下の式が成立しなければならない。
ここで上記式は線形なので規格化して、I1 =I2 =I3 =1とおくことができる。
従って、(Zb1+Z1)=(Zb2+Z2)+(Zb2)=(Zb2)+(Zb2+Zb3)の関係が成立していなければはならない。
従って、(Zb1+Z1)=(Zb2+Z2)+(Zb2)=(Zb2)+(Zb2+Zb3)の関係が成立していなければはならない。
換言すれば、この式を満足させるように空間インピーダンスZb1〜Zb3、Z1、Z2を決定すれば、各アンテナ2に均等に高周波電力を分配供給できる。しかも、この式には各アンテナのインピーダンスは現れていないから、プラズマ生成におけるプラズマの状態変化に拘らず、各アンテナのインピーダンスが揃って同じように変化する限り、各アンテナ2に均等に高周波電力を分配供給できる。
それには限定されないが、本例では、ブスバー3の厚みt=2mm、上下方向の幅w=9cm、ブスバー区間部分31の長さL1=区間部分32の長さL2=23cm、区間部分33の長さL3=15cmにそれぞれ設定している。
ブスバー3を囲むシールドケース30は、ブスバー3の厚みtと同方向の内寸法が15cm、幅wと同方向の内寸法が18cmの断面矩形の箱体である。
ブスバー3の単位長さあたりの空間インピーダンスは略j22Ω/mである。
ブスバー3を囲むシールドケース30は、ブスバー3の厚みtと同方向の内寸法が15cm、幅wと同方向の内寸法が18cmの断面矩形の箱体である。
ブスバー3の単位長さあたりの空間インピーダンスは略j22Ω/mである。
従って、
ブスバー区間部分31のインピーダンスZb1=j5Ω、
ブスバー区間部分32のインピーダンスZb2=j5Ω、
ブスバー区間部分33のインピーダンスZb3=j3Ωとみることができる。
ブスバー区間部分31のインピーダンスZb1=j5Ω、
ブスバー区間部分32のインピーダンスZb2=j5Ω、
ブスバー区間部分33のインピーダンスZb3=j3Ωとみることができる。
また、アンテナ2及びそれから一体的に連続している電力供給線311〜331のそれぞれ及び各接地線300は前記のとおり銅製パイプからなっており、それには限定されないが、本例では、その外周半径R=2.5mm、内周半径r=1.5mmに設定している。なお、プラズマ生成室1内の高周波アンテナ2の寸法は、それには限定されていが、本例では、高さa=10cm、幅b=15cm、全長35cmである。
プラズマ生成室1から電力供給線(銅製パイプ)311〜331とブスバー3との接続位置までの高さhは本例では10cmに設定してある。
該銅製パイプの単位長さあたりの空間インピーダンスは略j75Ω/mである。
プラズマ生成室1から電力供給線(銅製パイプ)311〜331とブスバー3との接続位置までの高さhは本例では10cmに設定してある。
該銅製パイプの単位長さあたりの空間インピーダンスは略j75Ω/mである。
既述のとおり、各アンテナ2に流れる電流を均一化して、各アンテナに均一な電力を供給するには、
(Zb1+Z1)=(Zb2+Z2)+(Zb2)=(Zb2)+(Zb2+Zb3)の関係が成立しなければならない。
つまり、j5+Z1=j10+Z2=j13としなければならない。
よって、Z1=j8Ω、Z2=j3Ωとなる。
(Zb1+Z1)=(Zb2+Z2)+(Zb2)=(Zb2)+(Zb2+Zb3)の関係が成立しなければならない。
つまり、j5+Z1=j10+Z2=j13としなければならない。
よって、Z1=j8Ω、Z2=j3Ωとなる。
Z1=j8Ωは既述のとおり、アンテナと同じ銅製パイプからなる電力供給線311のうち、一番短い電力供給線331に対し長くなっている部分のインピーダンスであり、該銅製パイプの単位長さあたりのインピーダンスはj75Ω/mであるから、該長くなっている部分の長さを11cmとすればよいこと、換言すれば、線331に対し、線311の長さを11cm長くすればよいことになる。
Z2=j3Ωは既述のとおり、電力供給線321のうち、一番短い電力供給線331に対し長くなっている部分のインピーダンスであるから、同様に計算して、該長くなっている部分の長さを4cmとすればよいこと、換言すれば、線331に対し、線321の長さを4cm長くすればよいことになる。
図1、図2に示すブスバー区間部分31とアンテナ2とを接続している電力供給線311は、区間部分33とアンテナ2とを接続している電力供給線331に対し11cm長くなっており、区間部分32とアンテナ2とを接続する電力供給線321は電力供給線331に対し4cm長くしてある。
かくして、図1に示す装置においては、プラズマ生成において、各アンテナ2に均等に高周波電力を供給してそれだけ均一なプラズマを生成させることができる。
かくして、図1に示す装置においては、プラズマ生成において、各アンテナ2に均等に高周波電力を供給してそれだけ均一なプラズマを生成させることができる。
以上説明した例では、ブスバー3は厚みt及び上下方向幅wを一定のものとし、電力供給線311、321の長さを電力供給線331に対し調整したが、さらにブスバー3の区間部分のインピーダンスも調整してもよい。
例えば、ブスバー全体は前記と同様に銅製のバーとし、ブスバー区間部分32、33については、厚みt=2mm、上下方向幅w=9cmとし、区間部分31については、厚みt=2mm、上下方向幅w’=3cmとする場合について説明する。
この場合、区間部分32、33のそれぞれの単位長さあたりの空間インピーダンスは前記ブスバーと同様j22Ω/mであり、幅w’=3cmの区間部分311の単位長さあたりの空間インピーダンスはj40Ω/mである。
この場合、区間部分32、33のそれぞれの単位長さあたりの空間インピーダンスは前記ブスバーと同様j22Ω/mであり、幅w’=3cmの区間部分311の単位長さあたりの空間インピーダンスはj40Ω/mである。
従って、
長さL1=23cmのブスバー区間部分31のインピーダンスZb1=j9Ω、
長さL2=23cmのブスバー区間部分32のインピーダンスZb2=j5Ω、
長さL2=15cmのブスバー区間部分33のインピーダンスZb3=j3Ωとみることができる。
電力供給線については前記同じく単位長さあたりインピーダンスがj75Ω/mの銅製パイプを採用する。
長さL1=23cmのブスバー区間部分31のインピーダンスZb1=j9Ω、
長さL2=23cmのブスバー区間部分32のインピーダンスZb2=j5Ω、
長さL2=15cmのブスバー区間部分33のインピーダンスZb3=j3Ωとみることができる。
電力供給線については前記同じく単位長さあたりインピーダンスがj75Ω/mの銅製パイプを採用する。
既述のとおり、各アンテナ2に流れる電流を均一化して、各アンテナに均一な電力を供給するには、
(Zb1+Z1)=(Zb2+Z2)+(Zb2)=(Zb2)+(Zb2+Zb3)の関係が成立しなければならない。
つまり、ここでは、j9+Z1=j10+Z2=j13としなければならない。
よって、Z1=j4Ω、Z2=j3Ωとなる。
(Zb1+Z1)=(Zb2+Z2)+(Zb2)=(Zb2)+(Zb2+Zb3)の関係が成立しなければならない。
つまり、ここでは、j9+Z1=j10+Z2=j13としなければならない。
よって、Z1=j4Ω、Z2=j3Ωとなる。
Z1=j4Ωは、電力供給線311のうち、一番短い電力供給線331に対し長くなっている部分のインピーダンスであり、該銅製パイプの単位長さあたりのインピーダンスはj75Ω/mであるから、該長くなっている部分の長さを5cmとすればよいこと、換言すれば、線331に対し、線311の長さを5cm長くすればよいことになる。
Z2=j3Ωは、電力供給線321のうち、一番短い電力供給線331に対し長くなっている部分のインピーダンスであるから、同様に計算して、該長くなっている部分の長さを4cmとすればよいこと、換言すれば、線331に対し、線321の長さを4cm長くすればよいことになる。
図5は、このように、ブスバー区間部分31の幅w’を3cm、区間部分32、33の幅w=9cmとし、区間部分31とアンテナ2とを接続している電力供給線311は、区間部分33とアンテナ2とを接続している電力供給線331に対し5cm長くし、区間部分32とアンテナ2とを接続する電力供給線321は電力供給線331に対し4cm長くした例を示している。このようにしても、プラズマ生成において、各アンテナ2に均等に高周波電力を供給してそれだけ均一なプラズマを生成させることができる。
ブスバーの単位長さ(1m)あたりの空間インピーダンスは、近似式として、1998年1月20日株式会社コロナ社発行の「分布定数回路論」(関根泰次監修、雨谷昭弘著)70頁に記載の式3.38中の式(jωμ0 /2Π)×loge (r3/r2)により求めることができる。
上記式において、μ0 は真空の透磁率(4Π×10-7)であり、
ωは印加される高周波電力の角周波数であり、従ってω/2Πは高周波電力の周波数(本例では13.56MHz)である。
ωは印加される高周波電力の角周波数であり、従ってω/2Πは高周波電力の周波数(本例では13.56MHz)である。
r2は、任意断面導体を中空円形導体で近似させたときの、該中空円形導体の外径(等価半径)(r2〔m〕)である。r2は同文献「分布定数回路論」の67頁に式3.33として記載されている次式により求めることができる。
r2=導体外周長L/2Π〔m〕
r2=導体外周長L/2Π〔m〕
一方、r3は、該導体を囲む接地電位導体までの空間の等価半径であり、同じく「分布定数回路論」の67頁に式3.33から、
r3=接地電位導体内周長/2Π〔m〕として求めることができる。
r3=接地電位導体内周長/2Π〔m〕として求めることができる。
例えば、図2及び図3(B)に示すブスバー3(厚みt=2mm=0.2×10-2m、、幅w=9cm=9×10-2m)の単位長さ(1m)当たりの空間インピーダンスZは次のように計算できる。
ブスバー外周長L=(0.2×10-2m+9×10-2m)×2=18.4×10 -2m ブスバーを断面円形バーに近似させたときの
円形バー外径r2=L/2Π=18.4×10 -2m/2×Π≒2.93×10-2m
ブスバー外周長L=(0.2×10-2m+9×10-2m)×2=18.4×10 -2m ブスバーを断面円形バーに近似させたときの
円形バー外径r2=L/2Π=18.4×10 -2m/2×Π≒2.93×10-2m
一方、ブスバー3を囲っている接地電位のシールドケース30内周長L’=(15+18)×2×10-2m=66×10-2m
シールドケース30の等価半径r3=66×10-2m/2Π=10.5×10-2m
シールドケース30の等価半径r3=66×10-2m/2Π=10.5×10-2m
従ってブスバー3のインピーダンスZは、
Z=(jωμ0 /2Π)×loge(r3/r2)
=jfμ0 ×loge(r3/r2)
=j×13.56×μ0 ×loge(10.5/2.93)
≒j22Ω/m
となる。
Z=(jωμ0 /2Π)×loge(r3/r2)
=jfμ0 ×loge(r3/r2)
=j×13.56×μ0 ×loge(10.5/2.93)
≒j22Ω/m
となる。
また、電力供給線である銅製パイプ(外径R=0.25×10-2m)の単位長さ(1m)当たりの空間インピーダンスZは次のように計算できる。
この場合、前記インビーダンス計算式におけるr2はR=0.25×10-2mであり、r3は2×h=2×10×10-2mである。
この場合、前記インビーダンス計算式におけるr2はR=0.25×10-2mであり、r3は2×h=2×10×10-2mである。
電力供給線の長さとシールドケースの等価半径は、本例では、構造上近い寸法(約10cm)である。
本例で用いているインピーダンスの計算式は、等価半径より線の長さが十分長い場合の近似式で、線の端部の漏れ磁界の影響を考慮していない。しかし、電力供給線のインピーダンスを求めるにあたっては、この端部の影響も考慮するため等価半径に2倍の係数を与えて(前記2×h)として、インピーダンスを計算する。
本例で用いているインピーダンスの計算式は、等価半径より線の長さが十分長い場合の近似式で、線の端部の漏れ磁界の影響を考慮していない。しかし、電力供給線のインピーダンスを求めるにあたっては、この端部の影響も考慮するため等価半径に2倍の係数を与えて(前記2×h)として、インピーダンスを計算する。
従って銅製パイプのインピーダンスZは、
Z=(jωμ0 /2Π)×loge(2h/R)
=j×13.56×μ0 ×loge(20/0.25)
≒j75Ω/m
となる。
Z=(jωμ0 /2Π)×loge(2h/R)
=j×13.56×μ0 ×loge(20/0.25)
≒j75Ω/m
となる。
本発明は、プラズマのもとで被処理物に目的とする処理を施す各種分野において利用できる。
1 プラズマ生成室を兼ねる成膜室
11 室1の天井壁
2 高周波アンテナ
20 絶縁性部材
3 ブスバー
31、32、33 ブスバーの区間部分
311、321、331 電力供給線
300 接地線
4 高周波で威厳
5 整合器
6 被処理基板
7 基板ホルダ
71 ヒータ
81 モノシランガス供給部
82 水素ガス供給部
9 排気装置
Zb1、Zb2、Zb3 ブスバー区間部分のインピーダンス
Z1 線311のうち線331に対し長くなっている部分のインピーダンス
Z2 線321のうち線331に対し長くなっている部分のインピーダンス
11 室1の天井壁
2 高周波アンテナ
20 絶縁性部材
3 ブスバー
31、32、33 ブスバーの区間部分
311、321、331 電力供給線
300 接地線
4 高周波で威厳
5 整合器
6 被処理基板
7 基板ホルダ
71 ヒータ
81 モノシランガス供給部
82 水素ガス供給部
9 排気装置
Zb1、Zb2、Zb3 ブスバー区間部分のインピーダンス
Z1 線311のうち線331に対し長くなっている部分のインピーダンス
Z2 線321のうち線331に対し長くなっている部分のインピーダンス
Claims (11)
- プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法であり、該各高周波アンテナとして同一の高周波アンテナを採用し、該各高周波アンテナへの高周波電力の印加を、それら高周波アンテナに共通に設けた高周波電源から該高周波電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して行うようにし、該ブスバーを前記整合器との接続部位を基準にしてブスバー長手方向において前記高周波アンテナの数と同数に区間分けし、前記各高周波アンテナの一端部を、該各区間部分に、一つの区間部分に対し一本の高周波アンテナを対応させて電力供給線にて接続するとともに、該各高周波アンテナの他端部を同じ接地条件で接地状態に設定し、該ブスバー及び該電力供給線を接地電位のシールドケースで囲み、該ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスをプラズマ生成時に各高周波アンテナに流れる電流及び各高周波アンテナに印加される電圧がそれぞれ同一となるように調整することで、該各高周波アンテナに供給される高周波電力を均一化して前記誘導結合プラズマを発生させることを特徴とするプラズマ生成方法。
- 前記高周波アンテナの本数は3本以上である請求項1記載のプラズマ生成方法。
- 前記各高周波アンテナの一端部は、該高周波アンテナが接続されるべき前記ブスバー区間部分の、前記整合器接続部位から遠い方の端部に接続する請求項1又は2記載のプラズマ生成方法。
- 前記ブスバーとして、帯板形状のブスバーを採用し、前記各ブスバー区間部分のインピーダンスの調整を、該ブスバー区間部分のブスバー長手方向における長さ、厚み及び幅を調整することで行う請求項1、2又は3記載のプラズマ生成方法。
- 前記各ブスバー区間部分のインピーダンスの調整を、該区間部分の厚みを一定として行う請求項4記載のプラズマ生成方法。
- プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナが設置され、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成装置であり、該各高周波アンテナは同一の高周波アンテナであり、該各高周波アンテナへの高周波電力の印加が、それら高周波アンテナに共通に設けられた高周波電源から該高周波電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して行われ、該ブスバーは、前記整合器との接続部位を基準にしてブスバー長手方向において前記高周波アンテナの数と同数に区間分けされ、前記各高周波アンテナの一端部が、該各区間部分に、一つの区間部分に対し一本の高周波アンテナを対応させて電力供給線にて接続されており、該各高周波アンテナの他端部は同じ接地条件で接地状態に設定されており、該ブスバー及び該電力供給線は接地電位のシールドケースで囲まれており、該ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスが、プラズマ生成時に各高周波アンテナに流れる電流及び各高周波アンテナに印加される電圧がそれぞれ同一となるように調整されていることで、該各高周波アンテナに供給される高周波電力を均一化して前記誘導結合プラズマを発生させることができることを特徴とするプラズマ生成装置。
- 前記高周波アンテナの本数は3本以上である請求項6記載のプラズマ生成装置。
- 前記各高周波アンテナの一端部は、該高周波アンテナが接続されるべき前記ブスバー区間部分の、前記整合器接続部位から遠い方の端部に接続されている請求項6又は7記載のプラズマ生成装置。
- 前記ブスバーは帯板形状のブスバーであり、前記各ブスバー区間部分のインピーダンスの調整が、該ブスバー区間部分のブスバー長手方向における長さ、厚み及び幅を調整することで行われている請求項6、7又は8記載のプラズマ生成装置。
- 前記各ブスバー区間部分のインピーダンスの調整が、該区間部分の厚みを一定として行われている請求項9記載のプラズマ生成装置。
- 被処理物にプラズマのもとで目的とする処理を施すプラズマ処理装置であって、プラズマ源として請求項6から10のいずれかに記載のプラズマ生成装置を含むことを特徴とするプラズマ処理装置。
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