JP2007204390A - ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 - Google Patents
ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007204390A JP2007204390A JP2006022421A JP2006022421A JP2007204390A JP 2007204390 A JP2007204390 A JP 2007204390A JP 2006022421 A JP2006022421 A JP 2006022421A JP 2006022421 A JP2006022421 A JP 2006022421A JP 2007204390 A JP2007204390 A JP 2007204390A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- general formula
- groups
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 13
- 125000000687 hydroquinonyl group Chemical group C1(O)=C(C=C(O)C=C1)* 0.000 title claims abstract description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title abstract description 19
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title abstract description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 7
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- -1 piperidine-1,4-diyl Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical group FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 125000005407 trans-1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])[C@]([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[C@@]1([H])[*:1] 0.000 claims description 3
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical group CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical group OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004327 boric acid Chemical group 0.000 claims description 2
- PUUOOWSPWTVMDS-UHFFFAOYSA-N difluorosilane Chemical compound F[SiH2]F PUUOOWSPWTVMDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical group CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical group [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 150000005224 alkoxybenzenes Chemical class 0.000 abstract description 4
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002360 explosive Substances 0.000 abstract description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 6
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 4
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- REQBSTCBZKDTLR-XYPYZODXSA-N C=C[C@H]1CC[C@H](COC(C=CC(I)=C2F)=C2F)CC1 Chemical compound C=C[C@H]1CC[C@H](COC(C=CC(I)=C2F)=C2F)CC1 REQBSTCBZKDTLR-XYPYZODXSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000006880 cross-coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L zinc bromide Chemical compound Br[Zn]Br VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 3-Buten-1-ol Chemical compound OCCC=C ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYFCLQYKRRBQFK-UHFFFAOYSA-N benzene hydroiodide Chemical compound I.C1=CC=CC=C1 PYFCLQYKRRBQFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKGULQGPBMIJU-UHFFFAOYSA-N benzene;hydron;bromide Chemical compound Br.C1=CC=CC=C1 ULKGULQGPBMIJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- YZIQZNGCUZOYAP-UHFFFAOYSA-N iodic acid dihydrate Chemical compound O.O.OI(=O)=O YZIQZNGCUZOYAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000006138 lithiation reaction Methods 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 229940102001 zinc bromide Drugs 0.000 description 1
Landscapes
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】 ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶性化合物の簡便な製造法を提供することである。
【解決手段】 一般式(１)で表される4−アルコキシハロゲン化ベンゼンと一般式（２）で表されるアルコールを、遷移金属を用いてクロスカップリングさせることにより、一般式（３）で表される含フッ素液晶化合物を製造する方法を提供する。
【化１】
本願発明の製造方法は、発火性や爆発性を有する扱いの困難な反応試薬を使用せず、反応に低温設備を必要としないため、従来製造が困難であったハイドロキノン骨格を有する含フッ素アルコキシベンゼン誘導体を簡便且つ効率的に製造することが可能である。本願発明の製造方法法により得られた化合物は、液晶表示素子の構成部材として有用である。
【選択図】 なし
【解決手段】 一般式(１)で表される4−アルコキシハロゲン化ベンゼンと一般式（２）で表されるアルコールを、遷移金属を用いてクロスカップリングさせることにより、一般式（３）で表される含フッ素液晶化合物を製造する方法を提供する。
【化１】
本願発明の製造方法は、発火性や爆発性を有する扱いの困難な反応試薬を使用せず、反応に低温設備を必要としないため、従来製造が困難であったハイドロキノン骨格を有する含フッ素アルコキシベンゼン誘導体を簡便且つ効率的に製造することが可能である。本願発明の製造方法法により得られた化合物は、液晶表示素子の構成部材として有用である。
【選択図】 なし
Description
本発明は電気光学的液晶表示材料として有用な、ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶性化合物の製造法に関する。
液晶表示素子は、低電圧作動、薄型表示等の優れた特徴から現在広く用いられている。液晶表示素子の表示方式として近年、垂直配向方式、IPS（インプレインスイッチング）等の表示方式が新たに実用化されてきた。垂直配向方式は液晶分子の垂直配向を利用して視野角の改善を図った方式であり、誘電異方性値が負の液晶組成物が使用される。またIPSは、ガラス基板に対して水平方向の横電界を用いて液晶分子をスイッチングさせることで視野角の改善を図った方法であり、誘電異方性値が正又は負の液晶組成物が使用される。このように、視野角改善のために有効な表示方式である垂直配向方式及びIPSには誘電率異方性値が負である液晶化合物ならびに液晶組成物が必要であり、強く要望されるようになってきた。従来、誘電率異方性が負の液晶組成物は、2,3-ジフルオロフェニレン基を有する化合物（特許文献１参照）が主として用いられてきた。しかしながら、この化合物を用いた液晶組成物は誘電率異方性の絶対値が十分大きくない問題を有していた（特許文献２参照）。
一般にフッ素の隣接に酸素原子を配置すると双極子モーメントが増大することが一般に知られている。そのことから2,3-ジフルオロジアルキルハイドロキノンは大きな誘電率異方性を有すると考えられる。この骨格の構築法として、モノアルキルハイドロキノンとハロゲン化アルキルと塩基存在下での反応が知られている（特許文献３参照）。
しかしながら、モノアルキルハイドロキノンの合成は、必ずしも容易ではなく、例えば、L1及びL2がフッ素原子の場合は、低温でブチルリチウムでフッ素の隣接位をリチオ化し、さらに酸化して水酸基に誘導している（特許文献４参照）。
しかしながら、当該方法ではブチルリチウム等の発火性のある有機金属反応剤を低温使用する必要があり、扱いが困難で冷却設備に費用がかかる等の問題を有していた。さらに、酸化に過酸化水素等の扱いの難しい反応剤を使用する必要があることから、目的物を効率的に製造することは必ずしも容易ではなかった。又、L2が水素原子の場合等、フッ素原子の置換位置によっては、リチオ化が困難であり水酸基の導入も容易ではなかった。
一方、単純な構造を有する4-アルコキシハロゲン化ベンゼンは、アルコキシベンゼンを臭素やヨウ素を用いて直接ハロゲン化し、ハロゲン化ベンゼンと脂肪族アルコールを遷移金属を用いてクロスカップリングさせることにより合成することが可能である（非特許文献１、２及び３参照）。
本発明が解決しようとする課題は、含フッ素アルコキシベンゼン誘導体の簡便な製造法を提供することにある。
本発明は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、4-アルコキシハロゲン化ベンゼンとアルコールを原料とし、遷移金属を用いてクロスカップリング反応させることにより、ジアルキルハイドロキノンが容易に合成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、一般式(１)
すなわち、一般式(１)
(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜15のアルキル基、少なくとも一つのハロゲンにより置換された炭素数1〜15のアルキル基、炭素数2〜15のアルケニル基又は少なくとも一つのハロゲンにより置換された炭素数2〜15のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する1個又は2個以上のCH2基はそれぞれ独立してO原子が相互に直接結合しないものとして -O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-又は-OCO-O-により置き換えられても良く、
A1は、
(a) トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する1個のCH2基又は隣接していない2個以上のCH2基は -O- 及び又は -S- に置き換えられてもよい)
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個のCH2基又は隣接していない2個以上のCH2基は -N- に置き換えられてもよい)
(c) 1,4-シクロヘキセニレン、1,4-ビシクロ(2.2.2)オクチレン、ピペリジン-1,4-ジイル、ナフタレン-2,6-ジイル、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル及び1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル
からなる群より選ばれる基であり、上記の基(a)、基(b)、基(c)はCN又はハロゲンで置換されていても良く、aは0又は1であり、さらにR1-A1-は以下の構造、
A1は、
(a) トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する1個のCH2基又は隣接していない2個以上のCH2基は -O- 及び又は -S- に置き換えられてもよい)
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個のCH2基又は隣接していない2個以上のCH2基は -N- に置き換えられてもよい)
(c) 1,4-シクロヘキセニレン、1,4-ビシクロ(2.2.2)オクチレン、ピペリジン-1,4-ジイル、ナフタレン-2,6-ジイル、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル及び1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル
からなる群より選ばれる基であり、上記の基(a)、基(b)、基(c)はCN又はハロゲンで置換されていても良く、aは0又は1であり、さらにR1-A1-は以下の構造、
（式中、nは1又は2を表す。）であっても良く、
Z1は-COO-、-OCO-、-CH2O-、-OCH2-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-(CH2)4-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH- 又は単結合を表し、
Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホネート、メタンスルホネート、p-トルエンスルホネート、ホウ酸、三フッ化ホウ素、ジアルキルホウ素、トリアルキルシラン、モノ及びジアルコキシシラン、モノ及びジフルオロシランを表し、L1、L2、L3及びL4はそれぞれ独立してフッ素原子又は水素原子を表すが、L1、L2、L3又はL4の少なくとも一つはフッ素原子を表す)で表される化合物に、一般式(２)
Z1は-COO-、-OCO-、-CH2O-、-OCH2-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-(CH2)4-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH- 又は単結合を表し、
Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホネート、メタンスルホネート、p-トルエンスルホネート、ホウ酸、三フッ化ホウ素、ジアルキルホウ素、トリアルキルシラン、モノ及びジアルコキシシラン、モノ及びジフルオロシランを表し、L1、L2、L3及びL4はそれぞれ独立してフッ素原子又は水素原子を表すが、L1、L2、L3又はL4の少なくとも一つはフッ素原子を表す)で表される化合物に、一般式(２)
(式中、R2は、水素原子、炭素数1〜15のアルキル基、少なくとも一つのハロゲンにより置換された炭素数1〜15のアルキル基、炭素数2〜15のアルケニル基又は少なくとも一つのハロゲンにより置換された炭素数2〜15のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する1個又は2個以上のCH2基はそれぞれ独立してO原子が相互に直接結合しないものとして -O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-又は-OCO-O-により置き換えられても良い)
で表されるアルコールを反応させることを特徴とする一般式(３)
で表されるアルコールを反応させることを特徴とする一般式(３)
(式中、R1、A1、Z1、L1、L2、L3、又はL4は一般式（１）のものと同じものを示し、R2は一般式(２)と同じ意味を表す)で表されるハイドロキノン誘導体の製造方法。を提供する。
本願発明の製造方法は、発火性や爆発性を有する扱いの困難な反応試薬を使用せず、反応に低温設備を必要としないため、従来製造が困難であったハイドロキノン骨格を有する含フッ素アルコキシベンゼン系液晶化合物を簡便且つ効率的に製造可能である。本願発明の製造方法により得られた化合物は、液晶表示素子の構成部材として有用である。
以下に本発明について詳細に説明する。
一般式（１）においてR1は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜15のアルケニル基
又は炭素数1〜12のアルコキシル基を表すことが好ましく、具体的には
−CH3、−CH2CH3、−(CH2)2CH3、−(CH2)3CH3、−(CH2)4CH3、−(CH2)5CH3、−(CH2)6CH3、−(CH2)7CH3、−CH=CH2、−CH=CHCH3(E体)、−(CH2)2CH=CH2、−(CH2)2CH=CHCH3(E体)、−(CH2)4CH=CH2、−(CH2)4CH=CHCH3(E体)、−OCH3、−OCH2CH3、−O(CH2)2CH3、−O(CH2)3CH3又は−O(CH2)4CH3を表すことが好ましい。A1はトランス-1,4-シクロへキシレン基が特に好ましく、Z2は-CH2O-、-OCH2-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-(CH2)4-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH- が好ましい。Xは塩素、臭素及びヨウ素が好ましいが、特にヨウ素が好ましい。
一般式（１）に示す化合物は、一般式（４）で表されるアルコキシベンゼン誘導体
一般式（１）においてR1は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜15のアルケニル基
又は炭素数1〜12のアルコキシル基を表すことが好ましく、具体的には
−CH3、−CH2CH3、−(CH2)2CH3、−(CH2)3CH3、−(CH2)4CH3、−(CH2)5CH3、−(CH2)6CH3、−(CH2)7CH3、−CH=CH2、−CH=CHCH3(E体)、−(CH2)2CH=CH2、−(CH2)2CH=CHCH3(E体)、−(CH2)4CH=CH2、−(CH2)4CH=CHCH3(E体)、−OCH3、−OCH2CH3、−O(CH2)2CH3、−O(CH2)3CH3又は−O(CH2)4CH3を表すことが好ましい。A1はトランス-1,4-シクロへキシレン基が特に好ましく、Z2は-CH2O-、-OCH2-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-(CH2)4-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH- が好ましい。Xは塩素、臭素及びヨウ素が好ましいが、特にヨウ素が好ましい。
一般式（１）に示す化合物は、一般式（４）で表されるアルコキシベンゼン誘導体
(式中、R1、A1、Z1、a、L1、L2、L3、及びL4は一般式（１）と同じ意味を表す。)を直接ハロゲン化することにより容易に合成が可能である。適当な溶媒、例えばジクロロメタンや1,2-ジクロロエタン中で、適当な触媒、例えば、鉄、塩化銅、臭化銅、臭化亜鉛等のルイス酸、もしくは酢酸、塩酸、硫酸などのプロトン酸存在下で、臭素及びヨウ素と反応させることにより、対応する臭化ベンゼン及びヨウ化ベンゼンを得ることができる。
一般式(２)において、R2は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜15のアルケニル基又は炭素数1〜12のアルコキシル基を表すことが好ましく、具体的には
−CH3、−CH2CH3、−(CH2)2CH3、−(CH2)3CH3、−(CH2)4CH3、−(CH2)5CH3、−(CH2)6CH3、−(CH2)7CH3、−CH=CH2、−CH=CHCH3(E体)、−(CH2)2CH=CH2、−(CH2)2CH=CHCH3(E体)、−(CH2)4CH=CH2、−(CH2)4CH=CHCH3(E体)、−OCH3、−OCH2CH3、−O(CH2)2CH3、−O(CH2)3CH3又は−O(CH2)4CH3を表すことが好ましい。 一般式（１）及び一般式（２）の縮合は種々の条件下に行うことが可能であるが、塩基性条件下に実施することが好ましい。又、金属存在下に反応を行うことが好ましく、遷移金属存在下に反応を行うことがより好ましい。用いる遷移金属としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、パラジウムジアセトナイト(II)、塩化ニッケル(II)、ヨウ化銅(I)、塩化銅（I）、酢酸銅(II)、酸化銅(II)等を用いることができるが、ヨウ化銅(I)、塩化銅（I）及び酢酸銅(II)が好ましい。
−CH3、−CH2CH3、−(CH2)2CH3、−(CH2)3CH3、−(CH2)4CH3、−(CH2)5CH3、−(CH2)6CH3、−(CH2)7CH3、−CH=CH2、−CH=CHCH3(E体)、−(CH2)2CH=CH2、−(CH2)2CH=CHCH3(E体)、−(CH2)4CH=CH2、−(CH2)4CH=CHCH3(E体)、−OCH3、−OCH2CH3、−O(CH2)2CH3、−O(CH2)3CH3又は−O(CH2)4CH3を表すことが好ましい。 一般式（１）及び一般式（２）の縮合は種々の条件下に行うことが可能であるが、塩基性条件下に実施することが好ましい。又、金属存在下に反応を行うことが好ましく、遷移金属存在下に反応を行うことがより好ましい。用いる遷移金属としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、パラジウムジアセトナイト(II)、塩化ニッケル(II)、ヨウ化銅(I)、塩化銅（I）、酢酸銅(II)、酸化銅(II)等を用いることができるが、ヨウ化銅(I)、塩化銅（I）及び酢酸銅(II)が好ましい。
配位子としては、多くの含窒素化合物、有機リン化合物を用いることができるが、含窒素の２座配位子が好ましく、特に1,10-フェナントロリン、2,2-ビピリジル、4-ジメチルアミノピリジンが好ましい。
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素カリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、カリウム tert-ブトキシド、ナトリウムエトキシド、トリアルキルアミン、ピリジン等を用いることができるが、リン酸カリウム、フッ化セシウム及び炭酸セシウムを用いることが好ましい。
溶媒としては、テトラヒドロフラン（THF）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルt-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒やヘキサン、ヘプタン、オクタン等の飽和炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン等の芳香族系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒等の非プロトン性溶媒を単独又は混合して用いることができるが、飽和炭化水素及び芳香族系溶媒が好ましく、特にベンゼン、トルエン、キシレンを用いることが好ましい。反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、50℃から150℃が好ましい。
一般式（３）で表される化合物は多くの化合物を包含するものであるが、好ましい化合物として次に示す化合物を挙げることができる。
（式中、R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数2〜15のアルケニル基を表す。）特に好ましい化合物として次に示す化合物を挙げることができる。
（式中、R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数2〜15のアルケニル基を表す。）
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、質量スペクトル(MS)等により確認した。
（参考例） 2,3-ジフルオロ-4-（トランス‐4-ビニルシクロヘキシルメチルオキシ）ヨードベンゼンの合成
（参考例） 2,3-ジフルオロ-4-（トランス‐4-ビニルシクロヘキシルメチルオキシ）ヨードベンゼンの合成
2,3-ジフルオロ-4-トランス‐4-ペンチルシクロヘキシルメチルオキシベンゼン（60 g）、ヨウ素（40 g）、通ヨウ素酸2水和物（8.2 g）を80％酢酸（200 mL）、濃硫酸（10 mL）、1,4-ジクロロエタン（100 mL）の混合溶媒中に溶解し、60℃で３時間攪拌した。室温に放冷後、10％亜硫酸ナトリウムで過剰のヨウ素を還元し、水を加え、トルエンで抽出した。有機層を合わせ、水、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。再結晶にて精製し、2,3-ジフルオロ-4-（トランス‐4-ビニルシクロヘキシルメチルオキシ）ヨードベンゼン（80 g）を白色粉末として得た。
（実施例）2,3-ジフルオロ-1-(3-ブテノキシ)-4-(トランス、トランス-4-ビニルビシクロヘキシル‐4‐イル)メトキシベンゼンの合成。
（実施例）2,3-ジフルオロ-1-(3-ブテノキシ)-4-(トランス、トランス-4-ビニルビシクロヘキシル‐4‐イル)メトキシベンゼンの合成。
窒素雰囲気下、2,3-ジフルオロ-4-（トランス-4'-ビニルビシクロヘキシル-4-イルメトキシ）ヨードベンゼン（210 g）、3-ブテノール（65.8 g）、ヨウ化銅（21.7 g）、1,10-フェナントロリン（32.9 g）及び炭酸セシウム（445 g）のトルエン（420 mL）溶液を110℃で35時間攪拌した。室温に放冷後、10％塩酸を加えて、30分攪拌した後、セルロースを用いてろ過した。ろ液の有機層を分取し、水層をトルエンで抽出した。有機層を合わせ、水、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー及び再結晶にて精製し、2,3-ジフルオロ-1-(3-ブテノキシ)-4-(トランス、トランス-4-ビニルビシクロヘキシル‐4‐イル)メトキシベンゼン（109 g）を白色粉末として得た。
相転移温度 C 64.5 N 119.5 I
MS m/z : 404 (M+), 55 (100)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ: 0.95-1.15 (m, 10H), 1.65-2.00 (m, 10H), 2.50 2.60 (m, 2H), 3.76 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.03 (t, J = 6.8 Hz, 2 H), 4.80 5.30 (m, 4 H), 5.79 (ddd, J = 17.2 Hz, J = 10.4 Hz, J = 6.4 Hz, 1 H), 5.83 5.95 (m, 1 H), 6.55 6.70 (m, 2 H).
シリカゲルカラムクロマトグラフィー及び再結晶にて精製し、2,3-ジフルオロ-1-(3-ブテノキシ)-4-(トランス、トランス-4-ビニルビシクロヘキシル‐4‐イル)メトキシベンゼン（109 g）を白色粉末として得た。
相転移温度 C 64.5 N 119.5 I
MS m/z : 404 (M+), 55 (100)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ: 0.95-1.15 (m, 10H), 1.65-2.00 (m, 10H), 2.50 2.60 (m, 2H), 3.76 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.03 (t, J = 6.8 Hz, 2 H), 4.80 5.30 (m, 4 H), 5.79 (ddd, J = 17.2 Hz, J = 10.4 Hz, J = 6.4 Hz, 1 H), 5.83 5.95 (m, 1 H), 6.55 6.70 (m, 2 H).
Claims (3)
- 一般式(１)
A1は、
(a) トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する1個のCH2基又は隣接していない2個以上のCH2基は -O- 及び又は -S- に置き換えられてもよい)
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個のCH2基又は隣接していない2個以上のCH2基は -N- に置き換えられてもよい)
(c) 1,4-シクロヘキセニレン、1,4-ビシクロ(2.2.2)オクチレン、ピペリジン-1,4-ジイル、ナフタレン-2,6-ジイル、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル及び1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル
からなる群より選ばれる基であり、上記の基(a)、基(b)、基(c)はCN又はハロゲンで置換されていても良く、aは0又は1であり、さらにR1-A1-は以下の構造、
Z1は-COO-、-OCO-、-CH2O-、-OCH2-、-CH2CH2-、-CH=CH-、-C≡C-、-(CH2)4-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH- 又は単結合を表し、
Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホネート、メタンスルホネート、p-トルエンスルホネート、ホウ酸、三フッ化ホウ素、ジアルキルホウ素、トリアルキルシラン、モノ及びジアルコキシシラン、モノ及びジフルオロシランを表し、L1、L2、L3及びL4はそれぞれ独立してフッ素原子又は水素原子を表すが、L1、L2、L3又はL4の少なくとも一つはフッ素原子を表す)で表される化合物に、一般式(２)
で表されるアルコールを反応させることを特徴とする一般式(３)
- 塩基性条件下に縮合反応を行う請求項１記載の製造方法。
- 遷移金属存在下に縮合反応を行う請求項１又は２記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006022421A JP5061466B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006022421A JP5061466B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007204390A true JP2007204390A (ja) | 2007-08-16 |
| JP2007204390A5 JP2007204390A5 (ja) | 2009-05-07 |
| JP5061466B2 JP5061466B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=38484165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006022421A Expired - Fee Related JP5061466B2 (ja) | 2006-01-31 | 2006-01-31 | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5061466B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013155157A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Dic Corp | 化合物 |
| CN112028748A (zh) * | 2020-09-14 | 2020-12-04 | 百合花集团股份有限公司 | 一种2，5-二甲氧基氯苯的制备方法 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5569536A (en) * | 1978-11-17 | 1980-05-26 | Otsuka Chem Co Ltd | Preparation of alkoxyphenol derivative |
| JPS63280037A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-17 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アルコキシベンゼン類の製造方法 |
| JPH02142745A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 液晶組成物 |
| JP2001114722A (ja) * | 1999-10-13 | 2001-04-24 | Chisso Corp | 分岐メチル基を有する液晶性化合物、液晶組成物及び液晶表示素子 |
| JP2005272562A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | トリフルオロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物と表示素子及び化合物。 |
| JP2006282544A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | ジフルオロベンゼン誘導体 |
| JP2006306756A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Dainippon Ink & Chem Inc | トリフルオロナフタレン誘導体 |
| JP2007119423A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 |
| JP2007119424A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 |
-
2006
- 2006-01-31 JP JP2006022421A patent/JP5061466B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5569536A (en) * | 1978-11-17 | 1980-05-26 | Otsuka Chem Co Ltd | Preparation of alkoxyphenol derivative |
| JPS63280037A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-17 | Idemitsu Kosan Co Ltd | アルコキシベンゼン類の製造方法 |
| JPH02142745A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 液晶組成物 |
| JP2001114722A (ja) * | 1999-10-13 | 2001-04-24 | Chisso Corp | 分岐メチル基を有する液晶性化合物、液晶組成物及び液晶表示素子 |
| JP2005272562A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | トリフルオロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物と表示素子及び化合物。 |
| JP2006282544A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | ジフルオロベンゼン誘導体 |
| JP2006306756A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Dainippon Ink & Chem Inc | トリフルオロナフタレン誘導体 |
| JP2007119423A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 |
| JP2007119424A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Dainippon Ink & Chem Inc | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013155157A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Dic Corp | 化合物 |
| CN112028748A (zh) * | 2020-09-14 | 2020-12-04 | 百合花集团股份有限公司 | 一种2，5-二甲氧基氯苯的制备方法 |
| CN112028748B (zh) * | 2020-09-14 | 2022-09-23 | 百合花集团股份有限公司 | 一种2，5-二甲氧基氯苯的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5061466B2 (ja) | 2012-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4734579B2 (ja) | ジフルオロメチルエーテル誘導体およびその製造方法 | |
| KR20150122079A (ko) | 4,6-다이플루오로다이벤조티오펜 유도체 | |
| CN103717563B (zh) | 具有2-氟苯基氧基甲烷结构的化合物 | |
| JP5062472B2 (ja) | １−（トリフルオロメチル）ナフタレン誘導体 | |
| JP4691893B2 (ja) | トリフルオロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物と表示素子及び化合物。 | |
| JP4228323B2 (ja) | １−（トリフルオロメチル）ナフタレン誘導体 | |
| JP4876420B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体 | |
| KR20050057573A (ko) | 1,7,8-트리플루오로-2-나프톨 및 이것을 이용한 액정화합물의 제조 방법 | |
| JP5493596B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体及びこれを含有する液晶組成物。 | |
| JP5061466B2 (ja) | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 | |
| JP4894226B2 (ja) | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 | |
| JP3632702B2 (ja) | １，７，８−トリフルオロ−２−ナフトール及びこれを用いた液晶化合物の製造方法 | |
| JP4882395B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
| JP5056118B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
| JP4872121B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
| JP4461791B2 (ja) | １−フルオロ−２−ナフトール誘導体の製造方法 | |
| JP4924863B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
| JP5382405B2 (ja) | １−（トリフルオロメトキシ）ナフタレン誘導体 | |
| JP4759949B2 (ja) | ２−ナフチル−１，３−ジオキサン誘導体 | |
| JP4496770B2 (ja) | １−ハロゲノ−２−アルコキシナフタレン誘導体およびその製造方法 | |
| JP4655197B2 (ja) | ジフルオロクロマン誘導体 | |
| JP4835032B2 (ja) | トリフルオロナフタレン誘導体 | |
| JP4983009B2 (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
| TWI608086B (zh) | 含雙環［３．３．０］辛－７－烯結構的液晶化合物、其液晶組合物和應用 | |
| TW200540261A (en) | As-indacene derivatives |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081120 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090319 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110928 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111025 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111226 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120710 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120723 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5061466 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |