JP2007199071A - 物体の光学的測定方法と光学測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】干渉計20と、干渉計からの重畳ビームを入力する光検出器16と、光検出器の測定信号を処理する信号処理ユニット17が備えられた光学測定装置。干渉計は、ビーム制御信号入力部18に印加されているスイッチング信号に応じて測定ビームを測定ビーム射出口12から出射させるように構成され、かつ信号処理ユニット17は前記ビーム制御信号入力部18と接続されたビーム制御信号出力部を有し、測定信号の測定中のみに測定用の所定の光強度ならびに所定の角度で測定ビーム射出口12からビームが出射されるように干渉計20を制御する。
【選択図】図1
Description
前記干渉計はビーム制御信号入力部を有し、このビーム制御信号入力部に印加されているスイッチング信号に応じてビームを測定ビーム射出口から所定の光強度ならびに所定の角度で出射させるように構成され、かつ前記信号処理ユニットは前記ビーム制御信号入力部と接続されたビーム制御信号出力部を有し、前記測定信号の測定中のみに測定用の所定の光強度ならびに所定の角度で測定ビーム射出口からビームが出射されるように前記干渉計を制御する。
また、発生させたビームを少なくとも測定ビームと参照ビームとに分割する第1ステップと、前記測定ビームを物体上の測定点に照射する第2ステップと、前記物体によって反射された測定ビームを前記参照ビームと重ね合わせた重畳ビームを光検出器に当てる第3ステップと、前記光検出器の測定信号を測定する第4ステップとからなる、物体の光学的測定方法において、前記目的を達成するため本発明では、
前記第4ステップの測定プロセスは少なくとも時間tminにわたって実施され、その際前記物体はこの時間中測定ビームによって照射され、前記時間tminは所定の最小周波数fminの逆数に等しく、かつ、前記第4ステップの測定プロセスの直後に測定ビームの強度は所定の倍率だけ減少させられる。
Christian Rembe, Alexander Draebenstedt,“The Laser‐Scanning Confocal Vibrometer Microscope”、Optical Measurement Systems for Industrial Inspection IV、SPIE Vol.5856、13−17 Juni、Munich、Germany、pp.698−709
から知られている。その光学測定装置は、上述したように、測定物体上の測定点への測定ビームの集束を可能にする集束装置を有している。共焦点仕様によって、測定物体によって反射されるが集束装置の焦点面にないビームは消去される。結果として、散乱光の顕著な減少が達成され、こうして本発明による装置の有効分解能とともに測定信号の品質が向上する。
8:ビーム
9:第1の分割ビーム
10:第2の分割ビーム
11:ブラッグセル(調光デバイス;光学スイッチング素子)
12:測定ビーム射出口
13a:物体
14:反射ビーム入射口
15:重畳ビーム送出口
16:光検出器
17:信号処理ユニット
18:ビーム制御信号入力部
20:干渉計
Claims (32)
- 物体の光学的測定を行う光学測定装置であって、
測定ビーム射出口と、反射ビーム入射口と、重畳ビーム送出口と、ビームを発生させる光源とを有する干渉計が備えられ、その際、前記干渉計は、光源によって発生させられたビームが少なくとも2本の分割ビームに分割され、第1の分割ビームは測定ビーム射出口から所定の角度で出射し、第2の分割ビームと反射ビーム入射口を通って入射する反射ビームとを重ね合わせた重畳ビームを重畳ビーム送出口から送り出すように構成され、
さらに、前記重畳ビーム送出口から送り出された重畳ビームが当たるように前記重畳ビーム送出口に対応して光検出器が配置されるとともに、前記光検出器の測定信号を記録または処理あるいはその両方を行う信号処理ユニットが備えられた光学測定装置において、
前記干渉計はビーム制御信号入力部を有し、このビーム制御信号入力部に印加されているスイッチング信号に応じてビームを測定ビーム射出口から所定の光強度ならびに所定の角度で出射させるように構成され、かつ
前記信号処理ユニットは前記ビーム制御信号入力部と接続されたビーム制御信号出力部を有し、前記測定信号の測定中のみに測定用の所定の光強度ならびに所定の角度で測定ビーム射出口から測定ビームが出射されるように前記干渉計を制御することを特徴とする光学測定装置。 - 前記干渉計は、測定ビームのビーム経路に配置されるとともに前記ビーム制御信号入力部と接続された調光デバイスを有し、前記調光デバイスは、スイッチング信号が印加されていれば測定ビームを強度損失なしに通過させ、他方、スイッチング信号が印加されていなければ測定ビームの強度を所定の倍率だけ減少させることを特徴とする請求項1に記載の光学測定装置。
- 前記調光デバイスはスイッチング信号が印加されていなければ測定ビームの強度を少なくとも90%だけ減少させることを特徴とする請求項2に記載の光学測定装置。
- 前記調光デバイスはスイッチング信号が印加されていなければ測定ビームを遮断することを特徴とする請求項3に記載の光学測定装置。
- 前記信号処理ユニットは少なくとも時間tminにわたって前記光検出器の測定信号を測定し、その際、tminは所定の最小振動周波数fminの逆数に等しいことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学測定装置。
- 前記信号処理ユニットは所定の最大時間tmaxにわたって前記光検出器の測定信号を測定することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学測定装置。
- 材料パラメータρ、c、aおよびηに関しては、測定物体の材料パラメータに一致する値が選択され、測定物体がケイ素である場合ρはほぼ2.33Kg/m3、cはほぼ670J/kg/K、aはほぼ1およびηはほぼ150W/m/Kであることを特徴とする請求項7に記載の光学測定装置。
- 前記測定ビーム直径dMは前記干渉計の測定ビーム射出口で出射する測定ビームの直径であることを特徴とする請求項7又は8に記載の光学測定装置。
- 前記所定の長さlは少なくともdMであり、とりわけ、lはdMのほぼ20倍であることを特徴とする請求項7〜10のいずれか一項に記載の光学測定装置。
- 前記所定の最大温度差Tは最大で500℃であることを特徴とする請求項7〜11のいずれか一項に記載の光学測定装置。
- 前記信号処理ユニットは、準備時間tvorで示される測定データ記録の前準備期間において前記干渉計のビーム制御信号入力部にスイッチング信号を出力することを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の光学測定装置。
- 前記干渉計は、前記ビーム制御信号入力部と接続されるとともに前記干渉計のビーム経路に配置された光学スイッチング素子を備えており、前記光学スイッチング素子はスイッチング信号が印加されていれば前記測定ビーム射出口から所定の角度で測定ビームを出射させ、スイッチング信号が印加されていなければ測定ビーム射出口から所定の角度でいかなる測定ビームも出射しないようにすることを特徴とする請求項1に記載の光学測定装置。
- 前記光学スイッチング素子はブラッグセルまたは機械式シャッタであることを特徴とする請求項15に記載の光学測定装置。
- 前記光学スイッチング素子は電気光学シャッタ、とりわけ偏光子付液晶回転体として形成されていることを特徴とする請求項15に記載の光学測定装置。
- この光学測定装置が振動計として構成されていることを特徴とする請求項1〜17のいずれか一項に記載の光学測定装置。
- 前記振動計はヘテロダイン干渉計として形成されていることを特徴とする請求項18に記載の光学測定装置。
- この光学測定装置が走査型共焦点レーザドップラー振動計として構成されていることを特徴とする請求項18に記載の光学測定装置。
- 発生させたビームを少なくとも測定ビームと参照ビームとに分割する第1ステップと、前記測定ビームを物体上の測定点に照射する第2ステップと、前記物体によって反射された測定ビームを前記参照ビームと重ね合わせた重畳ビームを光検出器に当てる第3ステップと、前記光検出器の測定信号を測定する第4ステップとからなる、物体の光学的測定方法において、
前記第4ステップの測定プロセスは少なくとも時間tminにわたって実施され、その際前記物体はこの時間中測定ビームによって照射され、前記時間tminは所定の最小周波数fminの逆数に等しく、かつ、
前記第4ステップの測定プロセスの直後に測定ビームの強度は所定の倍率だけ減少させられることを特徴とする光学的測定方法。 - 前記第4ステップの測定プロセスの直後に、前記測定ビームの強度は少なくとも1/10に減少させられることを特徴とする請求項21に記載の光学的測定方法。
- 前記第4ステップの測定プロセスの直後に前記物体の測定点はもはや測定ビームで照射されないことを特徴とする請求項21又は22に記載の光学的測定方法。
- 前記第4ステップの測定プロセスはせいぜい所定の最大時間tmaxの時間にわたって続けられることを特徴とする請求項21〜23のいずれか一項に記載の光学的測定方法。
- 材料パラメータρ、c、aおよびηに関しては、測定物体の材料パラメータに基本的に一致する値が選択され、測定物体がケイ素出ある場合ρはほぼ2.33kg/m3、cはほぼ670J/kg/K、aはほぼ1およびηはほぼ150W/m/Kであることを特徴とする請求項25に記載の光学的測定方法。
- 前記測定ビーム直径dMは前記物体の測定点に当たる測定ビームの直径に等しいことを特徴とする請求項25又は26に記載の光学的測定方法。
- 前記長さlは少なくともdMであり、とりわけ、lはdMのほぼ20倍であることを特徴とする請求項25〜28のいずれか一項に記載の光学的測定方法。
- 前記最大温度差Tは最大にて500℃であることを特徴とする請求項25〜29のいずれか一項に記載の光学的測定方法。
- 前記第4ステップにおいて光検出器の測定信号は光検出器のデータの準備時間tvorの経過後に初めて測定され、前記準備期間tvorの間、物体上の測定点は測定ビームで照射されることを特徴とする請求項23〜31のいずれか一項に記載の光学的測定方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018013371A (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 学校法人東京電機大学 | 干渉計 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PL1994361T3 (pl) * | 2006-01-19 | 2017-01-31 | Optovue, Inc. | System kształtowania obrazu optycznej tomografii koherencyjnej z wykorzystaniem transformacji Fouriera |
DE102007023826A1 (de) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Polytec Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Schwingungsmessung |
DE102008017119A1 (de) * | 2008-04-02 | 2009-10-08 | Polytec Gmbh | Vibrometer und Verfahren zur optischen Vermessung eines Objekts |
SE533391C2 (sv) * | 2008-05-09 | 2010-09-14 | Gs Dev Ab | Kombinationssikte |
JP5306075B2 (ja) * | 2008-07-07 | 2013-10-02 | キヤノン株式会社 | 光干渉断層法を用いる撮像装置及び撮像方法 |
DE102010004366A1 (de) * | 2010-01-12 | 2011-07-14 | Flsmidth A/S | Vorrichtung und Verfahren zur Kontrolle der Verfestigung einer Kohleschüttung |
DE102011100252A1 (de) * | 2011-05-03 | 2012-11-08 | Polytec Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur optischen, berührungslosen Schwingungsmessung eines schwingenden Objekts |
CN103791844B (zh) * | 2014-01-20 | 2016-08-17 | 浙江大学 | 光学位移测量系统 |
WO2017015424A1 (en) * | 2015-07-22 | 2017-01-26 | The University Of Mississippi | Laser multibeam differential interferometric sensor and methods for vibration imaging |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6123943A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Kano Hajime | 粒子計測装置 |
JPS6319507A (ja) * | 1986-07-12 | 1988-01-27 | Diesel Kiki Co Ltd | 噴霧流測定装置 |
JPS63229309A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-26 | Nikon Corp | 微細パタ−ンの深さ測定方法及びその装置 |
JPH04249719A (ja) * | 1991-01-07 | 1992-09-04 | Ono Sokki Co Ltd | 光ファイバ・レーザドップラ振動計 |
JPH07190723A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-07-28 | Graphtec Corp | レーザ利用測定器 |
JP2000018916A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-21 | Sony Corp | 計測装置及び計測方法 |
JP2001168159A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Sony Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2001165861A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Sony Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2004103807A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 外観検査装置 |
JP2004233163A (ja) * | 2003-01-29 | 2004-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン欠陥検査方法およびその装置 |
JP2005018972A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 光ピックアップ用アクチュエータの副共振測定装置 |
JP2005077405A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-03-24 | Kla-Tencor Technologies Corp | 放射による損傷を低減する方法及び装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4690551A (en) * | 1985-04-19 | 1987-09-01 | Massachusetts Institute Of Technology | Laser radar utilizing pulse-tone waveform |
US4995720A (en) * | 1989-12-12 | 1991-02-26 | Litton Systems, Inc. | Pulsed coherent Doppler laser radar |
AT396526B (de) * | 1992-04-23 | 1993-10-25 | Tabarelli Werner | Interferometer |
US5317376A (en) * | 1992-12-03 | 1994-05-31 | Litton Systems, Inc. | Solid state pulsed coherent laser radar for short range velocimetry applications |
DE4414514A1 (de) * | 1994-04-26 | 1995-11-02 | Klaus Deichl | Verfahren zur Ermittlung der zwischen zwei Meßorten liegenden Strecke und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
FR2728971A1 (fr) * | 1994-12-30 | 1996-07-05 | Thomson Csf | Telemetre discret multifonctionnel |
JP2006349534A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-28 | Fujinon Corp | 動体測定用干渉計装置および動体測定用光干渉計測方法 |
-
2006
- 2006-01-27 EP EP06001676A patent/EP1813962A1/de not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-01-19 DE DE102007003777A patent/DE102007003777B4/de active Active
- 2007-01-25 US US11/627,124 patent/US7663764B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-01-26 FR FR0700561A patent/FR2896871B1/fr active Active
- 2007-01-29 JP JP2007018186A patent/JP4914729B2/ja active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6123943A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Kano Hajime | 粒子計測装置 |
JPS6319507A (ja) * | 1986-07-12 | 1988-01-27 | Diesel Kiki Co Ltd | 噴霧流測定装置 |
JPS63229309A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-26 | Nikon Corp | 微細パタ−ンの深さ測定方法及びその装置 |
JPH04249719A (ja) * | 1991-01-07 | 1992-09-04 | Ono Sokki Co Ltd | 光ファイバ・レーザドップラ振動計 |
JPH07190723A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-07-28 | Graphtec Corp | レーザ利用測定器 |
JP2000018916A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-21 | Sony Corp | 計測装置及び計測方法 |
JP2001168159A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Sony Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2001165861A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Sony Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2004103807A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 外観検査装置 |
JP2004233163A (ja) * | 2003-01-29 | 2004-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン欠陥検査方法およびその装置 |
JP2005018972A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 光ピックアップ用アクチュエータの副共振測定装置 |
JP2005077405A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-03-24 | Kla-Tencor Technologies Corp | 放射による損傷を低減する方法及び装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018013371A (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 学校法人東京電機大学 | 干渉計 |
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