JP2007196460A - 走査露光装置、走査露光方法、プログラム及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 マルチビーム隣接露光において、相反則不軌により発生する濃度むらを抑制する従来法で採用したデバイス追加方式によらずに補助光源を備えるようにし、濃度むらをより高性能に抑制し、画像品質の向上を図る。
【解決手段】 ＶＣＳＥＬ等の同一基板上に複数光源を有する素子によるマルチビーム方式の走査露光で図７（Ｂ）のような光源の点灯制御により濃度むらを抑制する。図７（Ａ）の濃度むらを発生する例では、隣り合う画素ラインＬＤ３０，３１とＬＤ２，３をｎ走査とｎ＋１走査の異なる周期をまたいで形成させていた。図７（Ｂ）の本発明では、補助光源ＬＤ１´〜４´を用い、同一のｎ走査目で隣り合う画素ラインＬＤ３０，３１とＬＤ２´，３´を形成し、走査周期の境目を変更し、相反則不軌の影響を回避する。走査周期の境目を変更した場合、補助光源による画素が既に形成されたラインに重なるｎ＋１走査目における主光源のＬＤ１〜４は点灯しない。
【選択図】 図７

Description

本発明は、複数光源を同一基板上に有する発光素子を用いたマルチビーム方式の走査露光装置（画像データによりそれぞれ点灯制御される複数のＬＤ光源が発する複数本の光ビームにより感光体を２次元走査露光し、画像を書込む装置）及び走査露光装置を用いて画像を形成する、例えば、レーザプリンタ、デジタル複写機、ファクシミリ装置等の画像形成装置に関し、特に、所謂相反則不軌により露光画像に発生する濃度むら（バンディング）を抑制することが可能な走査露光装置、走査露光方法、プログラム及び画像形成装置に関する。

電子写真方式の画像形成装置では、感光体への画像の書込み（露光）に光ビーム走査方式が従来から広く用いられている。この方式は、画像データで点灯制御されるＬＤ（レーザダイオード）が出力する光ビームをポリゴンミラー等の走査手段により主走査方向に周期走査するとともに、感光体を副走査方向（主走査方向に直交）に移動させて、感光面を２次元走査露光する方式（後記図１、参照）である。また、この方式では、発展形として、ＬＤＡ（レーザダイオードアレイ：１チップにそれぞれ点灯制御可能な複数のレーザ素子を配列させたデバイス）やＶＣＳＥＬ（Vertical Cavity Surface Emitting Laser：面発光レーザダイオード：同一基板面に２次元配列を可能にして数十のレーザ光源を備える発光素子）からの複数本の光ビームにより、同時に複数ラインの走査露光を行うもの（以下「マルチビーム方式」という）も実用化されている。
ところで、マルチビーム方式による走査露光においては、所謂相反則不軌による濃度むらが生じ、画像品質が低下することが問題となる。
マルチビーム方式における相反則不軌は、感光体に対しデバイスが発するビームの本数ずつ副走査方向にシフトさせながら露光走査を繰り返す場合に、マルチビームによって同時に走査される隣り合うライン間の露光条件と、隣り合うライン間でも、境目では前後の周期によって２度露光を受け、この露光条件の違いが相反則不軌による濃度むらとなって現れる。

例えば、４光源ＬＤ０〜ＬＤ３よりなる発光素子の場合、図２に示すように、各素子を同時に駆動してマルチビームで走査露光を行うので、主走査の１周期内では、隣り合うＬＤ０〜ＬＤ３の露光タイミングが一致する。これに対し、周期が違う場合には、ｎ回目の走査後、所定の時間間隔Ｔが経過してからｎ＋１回目の走査を行うので、ｎ回目走査のＬＤ３とｎ＋１回目走査のＬＤ０は、隣り合うラインであっても露光タイミングは、一致しない。つまり、この露光タイミングの違いによって、同時露光における場合と異なる電荷分布が境界付近で起き、所謂相反則不軌による濃度むらが生じて画像品質の低下をもたらす。
図７の（Ａ）は、マルチビームで走査露光において相反則不軌により発生する濃度ムラを説明する概念図である。なお、図７の（Ａ）に示す例は、ＬＤ１〜ＬＤ３２の３２光源を有する発光素子において、１画素を４光源で形成している（即ち、１走査で同時に８ラインの画素列が形成可能である）。また、この例では、４光源中の中央２個を画素の形成に用いている。
露光後の画像形成結果は、図７の（Ａ）に示すように、ｎ走査目で同時に露光された（ＬＤ１４，ＬＤ１５）と（ＬＤ１８，ＬＤ１９）の画素ラインは相反則不軌の影響を受けないので、各画素ラインは細くなっている。これに対し、隣り合うラインであっても、ｎ走査目に露光された（ＬＤ３０，ＬＤ３１）とｎ＋１走査目に露光された（ＬＤ２，ＬＤ３）の画素ラインは相反則不軌の影響を受けるので、各画素ラインは太くなっている。相反則不軌の影響を受けた部分は、影響を受けない部分に比べて，濃度が高くなり、形成された画像濃度を変化させ、一様な中間調の画像の場合、バンディングとして視覚で認識され、画質不良となってしまう。

マルチビーム方式の走査露光における上記した相反則不軌の影響を回避するために提案された従来法として、下記特許文献１を示すことができる。
下記特許文献１には、マルチビーム記録ヘッドとして、等間隔に配した２本以上のビームを出力する主ビームヘッドと主ビームに連係し同間隔に配した１本以上のビームを出力する補助ビームヘッドを備えることにより、相反則不軌の影響を回避する。即ち、主ビームヘッドのみを用いて露光走査を行うと、走査の境目において、同時露光にならず、前と後の異なる周期による２度の露光を受け、相反則不軌の影響を受ける場合には、補助ビームヘッドを用い、前の周期の同時走査とすること、つまり、走査の境目を変更して２度露光にならないようにすることで、相反則不軌の影響を回避している。
特開２００３−２０５６４２号公報

しかしながら、上記特許文献１に記載された相反則不軌の影響を回避するために設けた補助ビームヘッドは、主ビームヘッドとは別のデバイスとして、主ビームヘッドに組合せて装備したものである。
従って、上記特許文献１の方式によると、主と補助の両ビームヘッドを連続する画素ラインの書込みに用いる際に、各ヘッドの動作特性のばらつきによる影響を考慮し、影響の回避や抑制をする必要があり、出力画像を高品質に保つためのタイミングや光量の制御回路を各デバイスに対応させるために回路構成を複雑にする。また、発光素子として数十の光源を有するＶＣＳＥＬを用いる場合に、上記特許文献１のように、主と補助のビームヘッドの構成をとることは、コスト面或いは位置精度を保って両ビームヘッドを組合せる工程が必要になるので、生産性の観点からも得策ではない。
本発明は、マルチビーム方式の走査露光において、相反則不軌により発生する濃度むらを抑制するための従来法における上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決すべき課題は、デバイスの追加という形態で発光素子を増やすことなく、濃度むらをより高性能に抑制し、画像品質の向上を図ることにある。

請求項１の発明は、画像データにより点灯が制御可能で点灯時に光ビームを出力する複数の光源を同一基板上に有する発光素子と、前記発光素子の光源から出力される各光ビームを主走査方向に偏向し、周期走査させる主走査手段と、前記偏向手段により周期走査される光ビームにより露光される被露光体を該光ビームの主走査方向に交わる方向に変位させる副走査手段と、前記発光素子が有する光源の点灯を制御する走査露光制御手段を有する走査露光装置において、前記走査露光制御手段は、１走査露光で形成可能な複数画素ラインの一部が次周期の走査露光で形成可能な画素ラインの一部と重なり合うように点灯タイミングを制御することで副走査方向のラインシフトを行い、かつ画像データによる点灯制御の際、周期の前後で重なり合う前記画素ラインのどちらで画素ラインを形成するための点灯を行うかを制御することを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。
請求項２の発明は、請求項１に記載された走査露光装置において、前記走査露光制御手段は、副走査方向に近接する画素同士を同一走査で点灯させないように、重なり合う前記画素ラインの一方に対する点灯制御を行うことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。

請求項３の発明は、前記発光素子の有する複数光源が副走査方向にＮｄｐｉのピッチ間隔で光ビームを出力し、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ（整数）を可変設定し得る請求項１又は２に記載された走査露光装置において、前記走査露光制御手段は、１画素を構成するために用いる光源数として設定された数値Ｍに従い、Ｎ／Ｍ ｄｐｉのピッチ間隔で画素ラインを形成する制御を行うことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。
請求項４の発明は、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定した光源を点灯制御の対象として可変設定し得る請求項３に記載された走査露光装置において、前記走査露光制御手段は、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定された光源を対象として点灯制御を行うことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。

請求項５の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載された走査露光装置において、前記走査露光制御手段は、前記発光素子の有する光源が出力する光ビームの光量を制御する光量制御手段を備えたことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。
請求項６の発明は、請求項５に記載された走査露光装置において、前記光量制御手段が１画素を構成するために用いる光源数Ｍの単位で同一制御条件に従う動作を行う手段であることを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。
請求項７の発明は、請求項５又は６に記載された走査露光装置において、前記光量制御手段が光源の点灯をＯＮ／ＯＦＦするＰＷＭ変調方式による手段であることを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。

請求項８の発明は、前記被露光体を感光体とした請求項１乃至７のいずれかに記載された走査露光装置と、前記感光体に形成された潜像を可視化像として現像する手段と、前記可視化像を記録媒体に転写する手段を有した画像形成装置を構成することによって、画像形成装置における上記課題を解決するものである。

請求項９の発明は、コンピュータを請求項１乃至７のいずれかに記載された走査露光装置における前記走査露光制御手段として機能させるためのプログラムを走査露光装置に搭載したコンピュータで駆動することによって、上記課題を解決するものである。

請求項１０の発明は、画像データにより点灯が制御可能で点灯時に光ビームを出力する複数の光源を同一基板上に有する発光素子から光ビームを出力する光ビーム出力工程と、前記光ビーム出力工程で出力された各光ビームを主走査方向に偏向し、周期走査させる走査工程と、前記走査工程で周期走査される光ビームにより、該光ビームの主走査方向に交わる方向に変位させる被露光体を照射する露光工程と、前記発光素子が有する光源の点灯を制御する走査露光制御工程を行う走査露光方法において、前記走査露光制御工程は、１走査露光で形成可能な複数画素ラインの一部が次周期の走査露光で形成可能な画素ラインの一部と重なり合うように点灯タイミングを制御することで副走査方向のラインシフトを行い、かつ画像データによる点灯制御の際、周期の前後で重なり合う前記画素ラインのどちらで画素ラインを形成するための点灯を行うかを制御することを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。
請求項１１の発明は、請求項１０に記載された走査露光方法において、前記走査露光制御工程は、副走査方向に近接する画素同士を同一走査で点灯させないように、重なり合う前記画素ラインの一方に対する点灯制御を行うことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。

請求項１２の発明は、前記発光素子の有する複数光源が副走査方向にＮｄｐｉのピッチ間隔で光ビームを出力し、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ（整数）を可変設定し得る画素設定工程を行う請求項１０又は１１に記載された走査露光方法において、前記走査露光制御工程では、１画素を構成するために用いる光源数として設定された数値Ｍに従い、Ｎ／Ｍ ｄｐｉのピッチ間隔で画素ラインを形成する制御を行うことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。
請求項１３の発明は、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定した光源を点灯制御の対象として設定する点灯光源設定工程を行う請求項１２に記載された走査露光方法において、前記走査露光制御工程では、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定された光源を対象として点灯制御を行うことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。

請求項１４の発明は、請求項１０乃至１３のいずれかに記載された走査露光方法において、前記走査露光制御工程では、前記発光素子の有する光源が出力する光ビームの光量を制御することを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。
請求項１５の発明は、請求項１４に記載された走査露光方法において、光ビームの光量を制御する前記工程では、１画素を構成するために用いる光源数Ｍの単位で同一制御条件に従う動作を行うことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。
請求項１６の発明は、請求項１４又は１５に記載された走査露光方法において、光ビームの光量を制御する前記工程では、光源の点灯をＯＮ／ＯＦＦするＰＷＭ変調方式による動作を行うことを特徴とし、このようにすることによって上記課題を解決するものである。

（１） 本発明によると、例えば、ＶＣＳＥＬのような同一基板上に複数光源を有する発光素子によるマルチビーム方式の走査露光における光源の点灯制御（即ち、１走査露光で形成可能な複数画素ラインの一部が次周期の走査露光で形成可能な画素ラインの一部と重なり合うように、副走査方向のラインシフトを行い、かつ画像データで点灯制御する際、周期の前後で重なり合う画素ラインのどちらで画素ラインを形成するかを選択可能として、走査の境目で２度露光を受けないように、境目を変更する走査露光制御を行うこと）により、相反則不軌の影響を回避することを可能としたので、従来技術（相反則不軌の影響を回避するための補助ビームヘッドを主ビームヘッドとは別のデバイスとして、主ビームヘッドに組合せて装備）に比べ相反則不軌による濃度むらをより高性能に抑制し、目標の濃度に制御できるので、画像品質を向上させ、トナーの無駄な消費をなくすことができ、しかも回路構成を簡素化し、延いては生産性を向上することが可能になる（請求項１，２，１０，１１）。

（２） また、Ｎｄｐｉのピッチ間隔で光ビームを出力する発光素子が用いられる場合に、１画素を構成するために用いる光源数として設定された数値Ｍに従い、Ｎ／Ｍ ｄｐｉのピッチ間隔で画素ラインを形成する制御を行うこと（請求項３，１２）、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定された光源を対象として点灯制御を行うこと（請求項４，１３）、発光素子の有する光源が出力する光ビームの光量を制御することによって（請求項５〜７，１４〜１６）、要求に応じて出力画像を最適化することが可能になる。
（３） また、画像形成装置の感光体への走査露光において、上記（１）、（２）の発明の効果を具現化することにより、画像形成装置のパフォーマンスを向上させることが可能になる（請求項８）。

本発明に係わる実施形態を以下に説明する。
以下には、本発明を電子写真方式の画像形成装置の走査露光装置に実施した例を示す。
図１は、本実施形態の走査露光装置の概略構成を示す。
図１に示す走査露光装置は、ＶＣＳＥＬのような同一基板上に複数光源を有する発光素子１０から出力される光（レーザ）ビームをモータで定速回転されるポリゴンミラー（光偏向器）２０により主走査方向に周期走査させ、副走査方向（通常、主走査方向に直交し、図１においては紙面に垂直方向）に変位する被露光体としての感光体３０を照射し、感光面を２次元面にわたって走査光ビームで露光する。
この走査露光装置における発光素子１０は、同一基板上にそれぞれ点灯制御可能な複数の光源が配列されている。発光素子１０の各光源から出力し、ポリゴンミラー２０により周期走査される光ビームは、感光体３０上で副走査方向に所定ピッチで投射され、連続する（隣接する）複数走査ラインの画素列を同時に露光し、所謂マルチビーム隣接露光方式によって画像形成を行うことを可能とする。ただ、ＶＣＳＥＬでは、副走査方向に連続する複数個の光源で１画素を形成する方法（後記で詳述）が良く用いられており、この方法による場合、１走査で同時に露光する画素（走査ライン）数は光源数と一致しない。
図２は、例えば、４光源ＬＤ０〜ＬＤ３よりなる発光素子によるマルチビーム隣接露光方式における露光タイミングを示す。図２に示すように、各素子を同時に駆動してマルチビームで走査露光を行うので、主走査の各周期内では、隣接するＬＤ０〜ＬＤ３の露光タイミングは一致する。なお、ここでは、説明を簡単にするために、ＬＤと画素（走査ライン）を１対１の関係とする。

この走査露光の際、画像（画素）データによる発光素子１０の点灯の開始と終了のタイミングは、感光体３０の所定位置に画像を書込む（形成する）ために制御される。この制御は、感光体３０の直前における主走査ライン上に設けた同期検知センサ４０で走査光ビームの通過を検知し、得られた同期信号を基準にして一定のタイミングで立ち上げられ、所定の露光期間の経過後、立ち下げられる信号を用いて露光期間を制御する。
また、副走査方向に感光体３０を移動（通常、感光体はドラムであるから、ドラムを回転）させながら、複数の光ビームにより感光面へのマルチビーム隣接露光を主走査の周期で繰り返すときに、マルチビーム隣接露光の各周期の境目において、主走査ライン間隔を保持しなければならないので、図２に示されるように、ｎ回目のマルチビーム隣接露光（主走査）を行った後、同図中に期間Ｔとして示される所定時間を経たタイミングで、ｎ＋１回目の露光（主走査）を行う。
この期間Ｔは、副走査方向にシフトさせるライン数によって異なる（例えば、後記で詳述する図７（ａ）の３２ＬＤマルチビーム隣接露光の例では、４ＬＤで１画素ドットを形成するので、同時に８画素ラインの書込みが可能であり、副走査は８ラインシフトで行っている）。また、期間Ｔは、副走査方向に移動する感光体３０の移動速度（感光体ドラムの回転速度）に依存する。従って、解像度を変更するために感光体ドラムの回転速度を変化させる場合には、回転速度の変化に応じて期間Ｔを変更する必要がある。

マルチビーム隣接露光（主走査）を行うときに、発光素子１０の各光源は画像データにより点灯制御される。
制御部は、書込みラインが感光体３０上の所定位置になるように、副走査カウンタによって定められるタイミングに従って発光素子１０の各光源の点灯制御動作を開始し、発光素子１０の光源数分のデータを用いて、ライン毎に画像の書込制御を行う。ただ、副走査方向に連続する複数個（ｎ）のＬＤ光源（ビームスポット）で１画素を形成する場合には、後述するように、画素毎にビームを出射するＬＤ光源を１〜ｎ個の範囲で選択することができる（４ＬＤで１画素ドットを形成する場合の出射ＬＤのテーブルを示す図１０、参照）。
画像の書込制御では、走査ビームを基準位置で検出する同期検知センサ４０からの同期信号に基づいて主走査方向の各画素位置を主走査カウンタによって定め、画像データの画素列から順次画素クロックに応じて取出した画素データと光量設定データに基づいて、点灯消灯制御信号および発光量を制御するための光量設定信号を生成する（書込制御部の構成、動作については後記の実施形態、参照）。ＬＤドライバは、点灯消灯制御信号および光量設定信号の入力を受け、ＬＤに駆動信号を供給し、ＬＤを点灯制御する。
また、上記した走査露光装置を記録媒体へのプリント出力を行う電子写真方式の画像形成装置に用いる場合、画像形成部では、感光体３０への走査露光によって静電潜像を生成し、これを可視化像として記録媒体に定着させる必要がある。従って、こうした電子写真方式の画像形成処理には、感光体３０回りに、帯電器、トナーによる現像ユニット、転写器、クリーニングユニット、除電器のほか、記録媒体の給紙装置や記録媒体上に形成したトナー像の定着装置を構成要素として備える必要がある。これらの要素を用いることにより、帯電、露光、現像、転写により記録媒体上に画像を形成し、この後、記録媒体（転写紙）上に形成された画像を定着する、という通常行われている電子写真プロセスに従い画像形成処理を行う。なお、この画像形成装置は、電子写真方式の装置で用いられている既存の手段を適用することによって、実施が可能であるから、ここでは詳細な説明は省略する。

マルチビーム隣接露光では、相反則不軌により濃度むら（バンディング）が発生する。この相反則不軌により発生する濃度むらを抑制する方法として提案された従来法（上記特許文献１）は、主ビームヘッドに別のデバイスとして組合せた補助ビームヘッドを用い、主ビームヘッドのみを用いると、走査の境目において、前と後の異なる周期による２度の露光を受ける場合には、補助ビームヘッドを用い、走査の境目を変更して、同時露光とすることで、相反則不軌の影響を回避している。（上記［背景技術］の項の記載、参照）。
しかしながら、主と補助のビームヘッドを別のデバイスとし、組合せる構成とした従来法によると、両ヘッドを用いて連続する画素ラインを書込む際に、各ヘッドの動作特性のばらつきによる影響を考慮する必要があり、出力画像を高品質に保つためのタイミングや光量の制御回路を各デバイスに対応させるための回路構成を複雑にする。また、ＶＣＳＥＬを両ビームヘッドに用い、上記従来法を実施すると、コスト面或いは位置精度を保って両ビームヘッドを組合せる工程が必要になるので、生産性の観点からも得策ではない。
そこで、本発明では、同一基板上に複数光源を有する発光素子（例えば、ＶＣＳＥＬ）の各光源の点灯制御で画素ラインにおける走査の境目を変更することによって、相反則不軌の影響を回避することを可能とするものである。即ち、１走査露光で形成可能な複数画素ラインの一部が次周期の走査露光で形成可能な画素ラインの一部と重なり合うように、副走査方向のラインシフトを行い、かつ画像データで点灯制御する（書込む）際、周期の前後で重なり合う画素ラインのどちらで書込みを行う（画素ラインを形成する）かを選択可能として、走査の境目で２度露光を受けない（隣り合うラインの両方にデータがあり、露光を行う場合には、同じ周期で同時に露光し、走査の境目としない）ように、境目を変更する走査露光制御を行う。

以下、上記走査露光制御を実施例に基づいて、詳細に説明する。
本発明では、複数の光源を同一基板上に有する発光素子をマルチビーム隣接露光に用いるが、ここでは、この素子に、ＶＣＳＥＬ（Vertical Cavity Surface Emitting Laser：面発光レーザダイオード）を好適に実施し得るものとして採用する。そこで、先ず、ＶＣＳＥＬによるマルチビーム隣接露光について、説明する。
図３は、ＬＤ光源の配置を異にするＶＣＳＥＬの例を（Ａ）、（Ｂ）として示すものである。図中に矢示する主走査方向はポリゴンミラー２０によって走査される方向であり、副走査方向は感光体３０の移動により走査される方向である。
図３の（Ａ）、（Ｂ）いずれも、計３２個のＬＤ（レーザー・ダイオード）光源を備え、各ＬＤの副走査ピッチが４８００ｄｐｉであり、主走査方向へも一定のピッチの間隔を空けているので、面上で斜めの配列となっている。ただ、副走査ピッチ４８００ｄｐｉを保ちながら、図３（Ａ）は、８個を単位とする列を主走査方向に前列の位置に戻し、８個の単位列を副走査方向に４列並べた配置となる。他方、図３（Ｂ）は、１０個を単位とする列であるから、１０個を単位とする３列に加える列には２個を並べた配置となるので、基板面の形は、主走査方向に長くなる。なお、この配置は、副走査ピッチと主走査ピッチが保たれれば、任意の配置をとることが可能であり、同図示に制限されない。

図４は、図３に示したＶＣＳＥＬにより画素ドットを形成する例を示す概念図である。
図４の例は、図３に示した、副走査ピッチを４８００ｄｐｉとした計３２個のＬＤ１〜ＬＤ３２からレーザービームを発光するＶＣＳＥＬを用いて、１２００ｄｐｉの１ドットピッチ主走査ライン画像を形成した例を示している。
ここで、画素ドット（以下、単に「ドット」という場合、画素ドットを指す）の１２００ｄｐｉは、副走査方向に連続した４個のＬＤで１画素を形成することで、４８００ｄｐｉ／４光源＝１２００ｄｐｉとし、光源のビームスポット４８００ｄｐｉに対し４倍のドットピッチにしている。なお、複数のレーザーで１画素を形成するようにしているのは、ＶＣＳＥＬの特性上、面発光レーザーの各ＬＤから出射されるレーザーは、従来使用されている端面発光レーザーと比較して光量が小さいため、複数のレーザーを重ね合わせることで、従来と同等の光量を得るためである（図５参照）。
従って、図３に示したＶＣＳＥＬによると、１走査で最大８ライン（３２光源／４光源＝８画素）の１２００ｄｐｉ画像を同時に形成する（露光走査する）ことができる。
一般的には、ＶＣＳＥＬの有する複数のＬＤ光源が副走査方向にＮｄｐｉのピッチ間隔で光ビームを出力するもので、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ（整数）を可変設定し得るようにした場合に、Ｎ／Ｍ ｄｐｉのピッチ間隔で画素ラインを形成する走査露光制御を行うことにより、対応が可能となる。

また、本実施形態では、１画素ドットの形成に用いることが可能な４個のＬＤの中、中央２個のＬＤで画素ドットを形成するようにする例を示す。これは、このＶＣＳＥＬの光源から発するビームの照射により感光体表面上に形成される静電潜像のスポットが、従来の端面発光レーザーにおける１光源からのビームスポットに近似させることができるからである。
図５は、端面発光ＬＤとＶＣＳＥＬのレーザー光源によって形成される静電潜像のスポット形状を対比して示す図である。
図５中の（Ａ）は、端面発光ＬＤの１光源に対応するビームスポットを示し、図５中の（Ｂ）、（Ｃ）は、それぞれＶＣＳＥＬの４光源と２光源に対応するビームスポットを示す。同図に示すように、各々のビームスポットはほぼ楕円形をなし、スポットの長径はＶＣＳＥＬの４光源よりも２光源の方が端面発光ＬＤの１光源に近い。
このように、感光体表面上に形成されるビームスポットの広がりを抑えることで、相反則不軌の影響による濃度むらをより低減できるとともに、現像材であるトナーによる形成画像のコントラストが向上し、高品質な画像を形成することができるので、この面では、２光源（Ｃ）の方が４光源（Ｂ）よりも有利である。
勿論、使用する光源は中央の２光源に限らず、図１０のビーム出射モードテーブル（４個のＬＤの中、○で示したＬＤを点灯させ、１画素ドットの形成に用いるためのビームとして出射させる各種のビーム出射モードを示すテーブル）に示すように、様々な組み合わせで光源ＬＤ１〜４を選択し、使用することができる。

上記のように、光源ＬＤ１〜４を様々な組み合わせで選択し、使用することに加え、更に、使用する光源の点灯を制御するための画像データとの組み合わせにより、感光体表面上に形成されるビームスポットの形状を変更することができる。
図６は、１画素ドットの形成に用いる４個のＬＤを制御するための画像データの入力段に設ける経路切替回路の例を示す。図６中に示す経路切替回路１１ａ〜１１ｉは、経路切替値として設定される値に従って、画素ドットを形成する４個のＬＤに対する点灯制御用画像データ１〜４，５〜８，・・，３３〜３６の経路を画素ドット単位で切替える制御を行い、光源ＬＤを点灯するデータとして各々に出力するＬＤ１〜４，５〜８，・・，３３〜３６データを変化させる。
図６中の（Ａ）は、１画素ドットの形成に用いる４光源毎に使用するＬＤを選択できるようにしている。この場合の画像データとの組み合わせは、１画素ドット目の画像データ１〜４とＬＤ１〜４を例にすると、最大の組み合わせは図１１のテーブルに示す６９通りとなり、６９通りに対応する値を指示する経路切替値０〜６８を経路切替回路１１ａ〜１１ｉにそれぞれの経路切替値Ａ〜Ｉとして設定することにより，所期の切替制御を実施することができる。
また、図６（Ｂ）のように、経路切替回路１１ａ〜１１ｉに共通の経路切替値を設定する回路構成にすれば、図１１のテーブルに例示する１経路設定値を経路切替回路１１ａ〜１１ｉで共通に使用することができる。
なお、この切替制御は走査周期毎や１画素毎などのタイミングで行うことが可能であることは言うまでもない。

次に、ＶＣＳＥＬをマルチビーム隣接露光に用いる際に発生する相反則不軌による濃度むらを走査露光制御により低減する方法について、実施例をもとに詳細に説明する。
図７は、相反則不軌による濃度むらの発生と、濃度むらを低減する走査露光制御方法の実施例を説明する図である。
図７の（Ａ）は、従来の走査露光制御方法によって、マルチビーム隣接露光を行っている例を示す。なお、同図に示す例は、１（画素）ドットを４ＬＤ（光源）で形成し、１走査で同時に８ラインの画素列を形成可能としているが、制御条件としては、４光源中の中央２個を画素の形成に用いている。また、２ドット分の間隔を空けて、隣り合う２ドットでラインを形成する（以下、「２ドットピッチライン画像形成」という）ように、光源ＬＤ１〜３２の点灯を制御している。
露光後の画像形成結果は、図７の（Ａ）に示すように、ｎ走査目で同時に露光された（ＬＤ１４，ＬＤ１５）と（ＬＤ１８，ＬＤ１９）の画素ラインは相反則不軌の影響を受けないので、各画素ラインは細くなっている。これに対し、隣り合うラインであっても、ｎ走査目とｎ＋１走査目の境目の画素ラインに当たる（ＬＤ３０，ＬＤ３１）と（ＬＤ２，ＬＤ３）により露光されたラインは、相反則不軌の影響を受けるので、各画素ラインは太くなっている。相反則不軌の影響を受けた部分は、影響を受けない部分に比べて，濃度が高くなり、形成された画像濃度を変化させ、一様な中間調の画像の場合、バンディングとして視覚で認識され、画質不良となってしまう。

そこで、マルチビーム隣接露光におけるｎ走査目とｎ＋１走査目の画素ラインの境目が画素を形成するライン（図７（Ａ）の例では、（ＬＤ３０，ＬＤ３１）と（ＬＤ２，ＬＤ３）の画素ライン）間にこないように、走査露光制御を行う。即ち、１走査で形成可能な複数画素ラインの一部を次周期の走査で重なり合うように副走査方向のラインシフトを行い、前後の走査周期で重なり合う画素ラインのどちらで画素を形成するための露光を行うかを制御する。
上記で前後の走査周期で重なり合う画素ラインを形成するＬＤ光源列を１画素分とし、この画素の形成に当てるＬＤ光源を付加したＶＣＳＥＬのＬＤ配置例を図８に示す。図８においては、図４（Ｂ）に示したＶＣＳＥＬのＬＤ配置例（ＬＤ１〜３２を持つ）において、ＬＤ３３〜３６の１画素分のＬＤ光源列を付加し、これを“補助光源” に当てる。なお、以下、ＬＤ光源の “主光源”（ＬＤ１〜３２）を補助するための光源として機能し、前後の走査周期で重なり合う画素ラインを形成する光源部分（ＬＤ３３〜３６、図７（Ｂ）ではＬＤ１´〜ＬＤ４´として示す）を補助光源と記し、主光源と区別する。

図８に例示したＶＣＳＥＬを用いてマルチビーム露光走査を行う際、副走査方向のラインシフト量をＬＤ３２個（主光源ＬＤ１〜３２の個）分とし、ＬＤ３３〜３６は補助光源として機能させるために、次の走査周期の主光源ＬＤ１〜ＬＤ４と重なり合うようにする。
図７（Ｂ）は、補助光源を用いる制御を行うことで、走査周期の境目を変更する動作を説明する図である。ここでは、図７（Ａ）に示した、２ドットピッチラインの画像形成において、走査周期の境目が固定で相反則不軌の影響を受ける場合に、補助光源を用いる制御を行うことにより、この影響を回避することを可能とするものである。
即ち、従来の方法では、図７（Ａ）の（ＬＤ３０，ＬＤ３１）と（ＬＤ２，ＬＤ３）の画素ラインに示すように、隣り合う画素ラインをｎ走査目とｎ＋１走査目の異なる走査周期をまたいで（走査周期の境目に）形成し、濃度むらを発生させていたが、本発明の方法では、図７（Ｂ）に示すように、補助光源（ＬＤ１´〜ＬＤ４´）を用いる制御を行うことによって、同一走査周期のｎ走査目で隣り合う画素ラインを（ＬＤ３０，ＬＤ３１）と（ＬＤ２´，ＬＤ３´）の点灯によって形成し、走査周期の境目を変更する。なお、ｎ走査目で補助光源（ＬＤ１´〜ＬＤ４´）を用いる制御を行い、走査周期の境目を変更した場合、補助光源による画素ラインが既に形成されているので、このラインに重なるｎ＋１走査目における主光源の先頭のＬＤ１〜ＬＤ４は点灯しない。
このようにして、走査周期の境目を変更する制御を行うことにより、相反則不軌の影響による濃度むらを低減することができる。

ここで、上記した補助光源を用い、走査周期の境目を変更することにより、濃度むらの低減を可能とする２ドットピッチラインの画像形成（走査露光）を行うための制御フローの実施例を示す。
以下に例示する制御フローは、画像形成装置（或いは走査露光装置）全体を制御する制御部を構成するＣＰＵによって実行される。この制御部のＣＰＵは、画像形成の処理要求とともに、受け付けた画像データをもとに走査露光により画像を形成する時に、このフローに従った制御動作を行うための制御プログラムを駆動し、目的とする画像形成動作を実行する。
図９は、本実施例の画像形成（走査露光）制御のフロー図を示す。
図９の制御フローによると、この走査露光制御は、画像形成部へ記録媒体（転写紙）が供給された時等のタイミングでスタートされ、まず、画像領域信号がアサートされるまでの間に条件フラグの初期化を行う（ステップＳ１０２）。
この条件フラグは、後述する補助光源を使用して露光を行うか、否かを走査周期毎に決めるための制御条件を示すもので、flag1とflag2よりなり、このフラグによって、補助光源を用いる走査露光制御が管理される。flag1とflag2は、それぞれ“1，0”の２状態をとる。flag1は、現走査における画素ラインのチェック結果、即ち走査周期の境目に相反則不軌による濃度むらが生じる条件があるか、否かを“1，0”により示し、flag2は、前回の走査におけるチェック結果“1，0”を保持させておく。
本実施例では、補助光源を使用して露光を行うか、否かは、flag1とflag2がどちらも“1”である場合、つまり、連続２走査で走査周期の境目に相反則不軌による濃度むらが生じる条件がある場合に、補助光源を用い、走査周期の境目を変更する制御を行うことで、濃度むらを防ぐ。

従って、手順としては、画像領域信号がアサートされるまで（即ち、ステップＳ１０１-NOの間）に、“flag1=0、flag2=0”として、条件フラグの初期化を行う（ステップＳ１０２）。
その後、画像領域信号がアサートされると（ステップＳ１０１-YES）、画像に対する１走査露光の制御に入り、現在、行おうとしている走査露光において、走査周期の境目に相反則不軌による濃度むらが生じる条件があるか、否かをチェックし、このチェック結果により、条件フラグflag1を“1，0”のいずれかにセットする。
このチェック処理は、濃度むらが生じる条件を２ステップでチェックする。まず、予め設定された書込み密度の画像形成であり、１走査で同時に画像形成（露光）が可能な走査ライン中の最終ラインに画像が存在し、かつこの最終ラインの前ラインに画像が存在するかを調べる（ステップＳ１０３）。例えば、図７（Ｂ）では、１２００ｄｐｉ主光源のｎ走査目の最終ライン（ＬＤ２９〜３２）に画像（ＬＤの点灯が必要な画像データ）があるか、否か、さらにこの最終ラインの前ライン（ＬＤ２５〜２８）に画像があるか、否か、を調べる。
ここで、最終ラインに画像が存在し、かつこの最終ラインの前ラインに画像が存在しなければ（ステップＳ１０３-NO）、１ステップ目の条件を満たすので、２ステップ目の濃度むらが生じる条件のチェックに移行する。
２ステップ目では、予め設定された書込み密度の画像形成であり、次の走査で画像形成（露光）が可能な走査ライン中の先頭ラインに画像が存在し、かつこの先頭ラインの次ラインに画像が存在するかを調べる（ステップＳ１０５）。例えば、図７（Ｂ）では、設定された書込み密度（本実施例では、画素ピッチが副走査方向に連続するＬＤ数により可変であり、同図の例では、４個のＬＤで１画素を形成することで、４８００ｄｐｉ／４光源＝１２００ｄｐｉの書込み密度を設定している）に応じ、各走査ラインの画像データを把握し、主光源のｎ＋１走査目の先頭ライン（ＬＤ１〜４）に画像（ＬＤの点灯が必要な画像データ）があるか、否か、さらにこの最終ラインの次ライン（ＬＤ５〜８）に画像があるか、否か、を調べる。
ここで、先頭ラインに画像が存在し、かつこの先頭ラインの次ラインに画像が存在しなければ（ステップＳ１０５-NO）、２ステップ目の条件も満たされ、相反則不軌による濃度むらが生じる条件があるので、条件フラグflag1を“flag1=1”にセットする（ステップＳ１０７）。
他方、濃度むらが生じる条件をステップＳ１０３及びステップＳ１０５の２ステップでチェックした結果として、いずれのステップでも相反則不軌による濃度むらが生じる条件がない場合には（ステップＳ１０３-YES，Ｓ１０５-YES）、条件フラグflag1を“flag1=0”にセットする（ステップＳ１０４，Ｓ１０６）。

次に、現周期の走査露光に対し、補助光源を使用して露光を行うか、否かを、条件フラグflag1とflag2のセット状態から最終的に判断し、その判断に従い補助光源を使用した画像形成を行わせるか、主光源のみを使用した画像形成を行わせる。
ここでは、条件フラグflag1とflag2のどちらも“1”がセットされている“flag1=1、flag2=1”である場合以外は、補助光源を使用せず、主光源のみを使用して現走査ラインの画像形成を行うので、この条件を３ステップでチェックする。
１ステップ目と２ステップ目で、それぞれ“flag1=0かつflag2=0”、“flag1=0かつflag2=1”であるか、否かを調べる（ステップＳ１０８，Ｓ１１０）。この両ステップでは、“flag1=0”であれば、flag2が“1”又は“0”のどちらでも、補助光源を使用しないので、この条件に当たる場合（ステップＳ１０８-YES，Ｓ１１０-YES）には、主光源のみを使用して現走査ラインの画像形成を行う（ステップＳ１０９，Ｓ１１１）。
３ステップ目では、“flag1=1かつflag2=0”であるか、否かを調べる（ステップＳ１１２）。このステップでは、“flag1=1”でも、flag2が“0”であれば、補助光源を使用しないので、この条件に当たる場合（ステップＳ１１２-YES）には、主光源のみを使用して現走査ラインの画像形成を行う（ステップＳ１１３）。

他方、flag1とflag2がどちらも“1”である場合（ステップＳ１１２-NO）、つまり、連続２走査で走査周期の境目に相反則不軌による濃度むらが生じる条件がある場合には、補助光源を使用した画像形成を行わせる（ステップＳ１１４）。即ち、現走査ラインの画像形成の際、補助光源を用い、走査周期の境目を変更する制御を行う。例えば、図７（Ｂ）では、ｎ走査目で補助光源（ＬＤ１´〜ＬＤ４´）を用い、主光源のｎ＋１走査目の先頭ライン（ＬＤ１〜４）をｎ走査目で形成する。
ここまでの制御フローで現走査ラインの画像形成（ステップＳ１０９，Ｓ１１１，Ｓ１１３，Ｓ１１４）を終えるが、この画像形成を終えたところで、上記した次走査ラインに対する制御動作を管理するために、flag1とflag2へのフラグセット処理を行う（ステップＳ１１５）。この処理は、今回の走査における濃度むらが生じる条件のチェック結果として得た条件フラグflag1 の状態を次回に反映させるために、条件フラグflag2に今回のflag1の状態“1，0”をセットし（“flag2=flag1”とし）、保持させ、また、flag1は、次走査ラインに備え、初期化する（“flag1=0”とする）。
この後、次走査ラインに対する処理を行うためにステップＳ１０１に戻し、再び次走査ラインに対する制御フローを行い、全走査ラインを終えるまで、この処理を繰り返す。

ところで、上記した２ドットピッチライン画像形成に係わる実施例（図７（Ｂ）、図８及び図９）では、補助光源として１画素分のＬＤ光源列（図８のＬＤ３３〜ＬＤ３６）を付加する例を示したが、このような付加による例に限らず、ＶＣＳＥＬが有する光源を主光源と補助光源に画素を形成する光源数の単位で区分し、走査周期の前後で重なり合う画素領域（補助光源領域）内で走査周期の境目を変更する走査露光制御を行うことによっても実施し得る。
例えば、全３２光源をＬＤ１〜ＬＤ３２としたＶＣＳＥＬにおいて、ＬＤ１〜ＬＤ２８を主光源、ＬＤ２９〜ＬＤ３２を補助光源として使用することで、同様の結果を得ることができる。
つまり、発光素子に備える光源を付加することによる光源数の増減は勿論のこと、主光源と補助光源に用いる光源数の割合を変更することで、多様な画像に対応して、相反則不軌による濃度むらを低減させ、画像品質を向上させることができるだけではなく、１走査時の画像形成ライン数の増減を加味した制御を行い、効率良く所期の画像形成動作に応じることも可能になる。

次に、ＶＣＳＥＬによるマルチビーム隣接露光における光量調整制御に係わる実施形態を示す。
ＶＣＳＥＬによるマルチビーム隣接露光について、上記で図３〜６、図１０，１１を参照して、副走査方向に連続した４個のＬＤで１画素を形成する動作を例に、ＶＣＳＥＬの各光源を画像データで駆動する際、各種の動作モードにより画像形成を行うことができることを述べた。以下には、上記のような各種の画像形成動作モードに合せて、最適な濃度の画像形成を実現することを可能にするために、ＶＣＳＥＬの光源の単位で発光量を調整することができるようにするものである。
ここでは、上記したと同様に、副走査方向に連続した４個のＬＤで１画素を形成する動作を例に光量調整制御に係わる実施例を示す。
図１２は、本実施形態に係わる光量制御回路を有する点灯制御入力段の回路を示す。図１２の回路構成は、１画素ドットの形成に用いる４個のＬＤを制御するための画像データの入力段に設ける経路切替回路（図６、参照）の出力側に光量制御回路を挿入した例を示す。なお、図１２中に示す経路切替回路１１ａ〜１１ｉは、先の図６の説明に参照されるように、経路切替値として設定される値に従って、画素ドットを形成する４個のＬＤに対する点灯制御用画像データ１〜４，５〜８，・・，３３〜３６の経路を画素ドット単位で切替える制御を行い、光源ＬＤを点灯するデータとして各々に出力するＬＤ１〜４，５〜８，・・，３３〜３６データを変化させる回路である。

図１２中の（Ａ）に示す光量制御回路１２は、経路切替回路１１ａ〜１１ｉから出力される各光源の点灯制御に用いるＬＤ１〜３６データそれぞれを調整することができるようにした回路である。従って、光量制御回路１２は、制御部（不図示）からＶＣＳＥＬの各光源に対するＬＤ１〜３６光量制御値が入力され、調整後のＬＤ１〜３６データを点灯制御用のデータとしてそれぞれの光源のドライバ（不図示）に出力する。
また、図１２（Ｂ）のように、１画素ドットの形成に用いる４個のＬＤを単位に１制御量で対応するようにしても良い。図１２（Ｂ）の回路構成では、画素ドットを形成する４個のＬＤに対する点灯制御用のＬＤデータ１〜４，５〜８，・・，３３〜３６毎に１つの光量制御値Ａ，Ｂ，・・，Ｉを制御部（不図示）からそれぞれ入力するようにした光量制御回路１２ａ〜１２ｉを設けている。
また、図１２（Ｂ）に示した光量制御回路として、実際に用いる回路の例を図１２（Ｃ）に示す。
制御部（不図示）から指示される光量制御値Ａ，Ｂ，・・，Ｉをもとに点灯制御用のＬＤデータ１〜４，５〜８，・・，３３〜３６毎にデータを変調して出力するＰＷＭ変調回路１３ａ〜１３ｉを経路切替回路１１ａ〜１１ｉに対応させて設けている。ＰＷＭ変調回路１３ａ〜１３ｉは、各ＬＤの点灯ＯＮ／ＯＦＦを制御するパルスをＬＤドライバ（不図示）に出力する際に、光量制御値Ａ，Ｂ，・・，Ｉにより点灯パルスのデューティを補正することで、ＬＤのＯＮ／ＯＦＦを制御し、所期の光量で発光させることを可能とする。
なお、この光量調整制御は、走査周期毎や１画素毎などのタイミングで行うことが可能であることは言うまでもない。また、図１２（Ａ）〜（Ｃ）では光量制御回路を経路切替後としているが、経路切替前であっても良い。

次に、上記した光量調整制御の適用例として、補助光源を用いることで、濃度むらの低減を可能とする２ドットピッチラインの画像形成（走査露光）制御を対象にした実施例を示す。
図１３は、本実施例の画像形成（走査露光）制御のフロー図を示す。
図１３により例示する制御フローは、先に図９により例示した制御フローをベースにして、光量調整制御を行うものである。この制御フローにおいて行う光量調整制御は、補助光源を使用する画像形成時のみに対するものである。つまり、図９の制御フローにおいて、処理対象の走査ラインが補助光源を用いて露光（画像形成）を行うラインであるか、否かを判断する手順及びこの判断結果に従って行われる補助光源を使用しないで行う露光（画像形成）の手順（ステップＳ１０１〜１１３）は、そのまま図１３に示す本実施例におけるステップＳ２０１〜２１３の処理手順に用いられる。従って、本実施例のステップＳ２０１〜２１３に関しては、図９の制御フローの該当する部分の説明を参照することとし、ここでは、光量調整制御に係わる部分についてのみ記載する。

図１３の制御フローにおいて、補助光源を使用して露光を行うか、否かを決めるための制御条件を示すflag1（現走査における画素のチェック結果として、走査周期の境目に相反則不軌による濃度むらが生じる条件があるか、否かを“1，0”により示す）とflag2（前回の走査におけるチェック結果“1，0”を示す）の状態がどちらも“1”である場合（ステップＳ２１２-NO）、つまり、連続２走査で走査周期の境目に相反則不軌による濃度むらが生じる条件がある場合には、補助光源を使用した画像形成を行わせる。なお、制御条件を示すflag1とflag2は、画素毎にセットできる。
ただ、補助光源を使用した画像形成を行わせるようにし、走査周期の境目を変更すると、次の周期との間で露光条件が変わるので、露光条件が変更される部分に対する光量を調整し、濃度が所定値になるようにする。
処理の手順としては、flag1とflag2の状態がどちらも“1”である場合（ステップＳ２１２-NO）、主光源及び補助光源において、露光条件が変更される部分に対する光量制御値を調整し（ステップＳ２１４）、その後、調整された制御値を用いることにより補助光源を使用した画像形成を行わせる（ステップＳ２１５）。
なお、上記のフローでは、現走査の主光源により形成される最終ラインと補助光源により形成されるラインを光量調整の対象としたが、これらに限らず、光量調整を必要とする部分は、広く走査周期の境目の変更により露光条件が変わる近傍画素の形成に関与するＬＤ光源を含ませるようにしても良い。

本発明を適用する画像形成装置の走査露光装置の概略構成を示す。 ４光源ＬＤ０〜３によるマルチビーム隣接露光方式における露光タイミングを示す。 ＬＤ光源の配置を異にするＶＣＳＥＬの例（Ａ）、（Ｂ）を示す。 図３に示したＶＣＳＥＬにより画素ドットを形成する例を示す。 端面発光ＬＤとＶＣＳＥＬのレーザー光源によって形成される静電潜像のスポット形状を対比して示す。 ＬＤ光源の点灯制御用画像データの経路切替回路例を示す。 相反則不軌による濃度むらの発生と、この濃度むらを低減する走査露光制御方法の実施例を説明する図である。 図３（Ｂ）のＶＣＳＥＬに補助光源の形成に当てるＬＤ光源を付加したＬＤ配置例を示す。 補助光源の使用を可能とする画像形成（走査露光）制御のフロー図を示す。 ４ＬＤビームで画素ドットを形成する場合のビーム出射モードテーブルを示す。 経路切替により画像データ１〜４とＬＤ１〜４の組み合わせを変更するためのテーブルを示す。 光量制御回路を有する点灯制御入力段の回路を示す。 濃度補正（濃度変調による）を可能とした走査露光プロセス（図３、参照）を行うためのＬＤ点灯回路のブロック図を示す。

符号の説明

１０・・ＬＤ発光素子（ＶＣＳＥＬ）、２０・・ポリゴンミラー、３０・・感光体、４０・・同期検知センサ、１１ａ〜１１ｉ・・経路切替回路、１２，１２ａ〜１２ｉ・・光量制御回路、１３ａ〜１３ｉ・・ＰＷＭ変調回路。

Claims (16)

1. 画像データにより点灯が制御可能で点灯時に光ビームを出力する複数の光源を同一基板上に有する発光素子と、
   前記発光素子の光源から出力される各光ビームを主走査方向に偏向し、周期走査させる主走査手段と、
   前記偏向手段により周期走査される光ビームにより露光される被露光体を該光ビームの主走査方向に交わる方向に変位させる副走査手段と、
   前記発光素子が有する光源の点灯を制御する走査露光制御手段を有する走査露光装置であって、
   前記走査露光制御手段は、１走査露光で形成可能な複数画素ラインの一部が次周期の走査露光で形成可能な画素ラインの一部と重なり合うように点灯タイミングを制御することで副走査方向のラインシフトを行い、かつ画像データによる点灯制御の際、周期の前後で重なり合う前記画素ラインのどちらで画素ラインを形成するための点灯を行うかを制御することを特徴とする走査露光装置。
2. 請求項１に記載された走査露光装置において、
   前記走査露光制御手段は、副走査方向に近接する画素同士を同一走査で点灯させないように、重なり合う前記画素ラインの一方に対する点灯制御を行うことを特徴とする走査露光装置。
3. 前記発光素子の有する複数光源が副走査方向にＮｄｐｉのピッチ間隔で光ビームを出力し、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ（整数）を可変設定し得る請求項１又は２に記載された走査露光装置において、
   前記走査露光制御手段は、１画素を構成するために用いる光源数として設定された数値Ｍに従い、Ｎ／Ｍ ｄｐｉのピッチ間隔で画素ラインを形成する制御を行うことを特徴とする走査露光装置。
4. １画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定した光源を点灯制御の対象として可変設定し得る請求項３に記載された走査露光装置において、
   前記走査露光制御手段は、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定された光源を対象として点灯制御を行うことを特徴とする走査露光装置。
5. 請求項１乃至４のいずれかに記載された走査露光装置において、
   前記走査露光制御手段は、前記発光素子の有する光源が出力する光ビームの光量を制御する光量制御手段を備えたことを特徴とする走査露光装置。
6. 請求項５に記載された走査露光装置において、
   前記光量制御手段が１画素を構成するために用いる光源数Ｍの単位で同一制御条件に従う動作を行う手段であることを特徴とする走査露光装置。
7. 請求項５又は６に記載された走査露光装置において、
   前記光量制御手段が光源の点灯をＯＮ／ＯＦＦするＰＷＭ変調方式による手段であることを特徴とする走査露光装置。
8. 前記被露光体を感光体とした請求項１乃至７のいずれかに記載された走査露光装置と、
   前記感光体に形成された潜像を可視化像として現像する手段と、
   前記可視化像を記録媒体に転写する手段を有した画像形成装置。
9. コンピュータを請求項１乃至７のいずれかに記載された走査露光装置における前記走査露光制御手段として機能させるためのプログラム。
10. 画像データにより点灯が制御可能で点灯時に光ビームを出力する複数の光源を同一基板上に有する発光素子から光ビームを出力する光ビーム出力工程と、
    前記光ビーム出力工程で出力された各光ビームを主走査方向に偏向し、周期走査させる走査工程と、
    前記走査工程で周期走査される光ビームにより、該光ビームの主走査方向に交わる方向に変位させる被露光体を照射する露光工程と、
    前記発光素子が有する光源の点灯を制御する走査露光制御工程を行う走査露光方法であって、
    前記走査露光制御工程は、１走査露光で形成可能な複数画素ラインの一部が次周期の走査露光で形成可能な画素ラインの一部と重なり合うように点灯タイミングを制御することで副走査方向のラインシフトを行い、かつ画像データによる点灯制御の際、周期の前後で重なり合う前記画素ラインのどちらで画素ラインを形成するための点灯を行うことを特徴とする走査露光方法。
11. 請求項１０に記載された走査露光方法において、
    前記走査露光制御工程は、副走査方向に近接する画素同士を同一走査で点灯させないように、重なり合う前記画素ラインの一方に対する点灯制御を行うことを特徴とする走査露光方法。
12. 前記発光素子の有する複数光源が副走査方向にＮｄｐｉのピッチ間隔で光ビームを出力し、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ（整数）を可変設定し得る画素設定工程を行う請求項１０又は１１に記載された走査露光方法において、
    前記走査露光制御工程では、１画素を構成するために用いる光源数として設定された数値Ｍに従い、Ｎ／Ｍ ｄｐｉのピッチ間隔で画素ラインを形成する制御を行うことを特徴とする走査露光方法。
13. １画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定した光源を点灯制御の対象として設定する点灯光源設定工程を行う請求項１２に記載された走査露光方法において、
    前記走査露光制御工程では、１画素を構成するために用いる光源数Ｍ中の指定された光源を対象として点灯制御を行うことを特徴とする走査露光方法。
14. 請求項１０乃至１３のいずれかに記載された走査露光方法において、
    前記走査露光制御工程では、前記発光素子の有する光源が出力する光ビームの光量を制御することを特徴とする走査露光方法。
15. 請求項１４に記載された走査露光方法において、
    光ビームの光量を制御する前記工程では、１画素を構成するために用いる光源数Ｍの単位で同一制御条件に従う動作を行うことを特徴とする走査露光方法。
16. 請求項１４又は１５に記載された走査露光方法において、
    光ビームの光量を制御する前記工程では、光源の点灯をＯＮ／ＯＦＦするＰＷＭ変調方式による動作を行うことを特徴とする走査露光方法。

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