JP2007189252A - 現像方法および現像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の一端P1から吐出速度WLで吐出を開始し、吐出速度を次第に速くして基板の他端P2での吐出速度をWLにする。このようすれば、基板のP1の付近で最も早く現像が開始されるが、この部分では現像液の吐出速度がWLと低いため、すなわちこの部分に局所的に塗布される現像液の量が少なくなるので、余分なレジストを溶解するのに液が消費され、したがって現像速度は遅くなり、基板の両端P1、P2での現像速度差が短縮される。
【選択図】図4
Description
これは、現像液供給開始領域にあるレジストは、供給終了領域にあるレジストよりも、基板全面をノズルが走査する時間分だけ余計に現像されるからである。このような走査時間の差によるパターン寸法のばらつきは、半導体基板のサイズが150mm以上、あるいは設計ルールが0.25μm以下で、次第に顕著になって来ており、今後のプロセス技術での課題の一つである。
さらに、従来のようにノズルの走査速度、ノズルの高さ、吐出液量を一定にして、現像液を基板100表面に吐出しながら、ノズル1を往復させてもよい。この場合、P1からP2に向かう方向に走査する段階ではP1部の方が先に現像が始まるが、P2からP1に向かう方向に走査する段階ではP2部の方が先に新しい現像液にレジストが接触するので、結局基板100の両端での現像時間の差は従来よりも短縮され、このためパターン寸法差が軽減される。
2 走査方向
100 基板
Claims (3)
- 露光された感光性樹脂膜を有する基板に向けて現像液を吐出可能な現像液吐出手段を、前記基板の一端部から他端部に向けて移動させながら前記現像液を吐出させ、前記感光性樹脂膜を現像してパターンを形成する現像方法であって、前記基板の一端部から他端部に向かうにつれて現像液の吐出速度を増大させてその吐出量を増大させることを特徴とする現像方法。
- 前記基板は半導体基板であり、前記現像液吐出手段は棒状の現像液吐出ノズルからなり、その長さは前記基板の直径以上であることを特徴とする請求項1に記載の現像方法。
- 露光された感光性樹脂膜を有する基板の一端部から他端部に向けて移動しながら、この基板に向けて現像液を吐出可能な現像液吐出手段を有し、この現像液吐出手段は、前記基板の一端部から他端部に向かうにつれて現像液の吐出速度を増大させてその吐出量を増大可能なように構成されていることを特徴とする現像装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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JP2007189252A true JP2007189252A (ja) | 2007-07-26 |
JP4187770B2 JP4187770B2 (ja) | 2008-11-26 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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