JP2007189043A - 配線基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】スルーホールの内周面のメッキ膜の破損、剥がれが生ずるのを防止し、また生産コストが増大するのを防止する。
【解決手段】複数の絶縁基板1a〜1cにスルーホール用の孔2a〜2cを設け、孔2a〜2cの径をそれぞれ1、1.5、2mmとし、絶縁基板1a〜1cの両面に配線層3を形成し、絶縁基板1a〜1cを接着剤4によって接着し、孔2a〜2cの内周面に銅メッキ膜5を形成することにより、断面が階段状のスルーホール6が形成し、スルーホール6の内周面に半田コーティング7を設け、半田コーティング7によりスルーホール6の内部の階段状の段差を埋める。
【選択図】図1
【解決手段】複数の絶縁基板1a〜1cにスルーホール用の孔2a〜2cを設け、孔2a〜2cの径をそれぞれ1、1.5、2mmとし、絶縁基板1a〜1cの両面に配線層3を形成し、絶縁基板1a〜1cを接着剤4によって接着し、孔2a〜2cの内周面に銅メッキ膜5を形成することにより、断面が階段状のスルーホール6が形成し、スルーホール6の内周面に半田コーティング7を設け、半田コーティング7によりスルーホール6の内部の階段状の段差を埋める。
【選択図】図1
Description
本発明は複数の絶縁基板を積層して形成した配線基板およびその製造方法に関するものである。
複数の絶縁基板を積層して形成した配線基板のスルーホールに電子部品のピンを挿入して接続する場合、一般的にスルーホールの位置やピンの位置に製造バラツキ等による誤差が生じるので、スルーホールとピンとの位置合わせが困難になるという問題がある。特に、近年パワーエレクトロニクス等でモジュール化された大型多ピン電子部品が多く採用される傾向にあるから、上記問題は顕著となっている。
そこで、特許文献1に示されるように、各絶縁基板の孔径をピンの挿入方向に向かって小さくし、スルーホールの断面を階段状に形成することにより、ピンの挿入を容易としており、また特許文献2に示されるように、多数の配線パッドのうちの一部の配線パッド上に半田からなるテーパー形状ガイドを設けて、テーパー形状ガイドにより電子部品のピンを案内しており、さらに特許文献3に示されるように、スルーホール自体をテーパー形状に形成している。
実開平5−48378号公報
特開平6−334325号公報
特開平8−125297号公報
しかし、スルーホールの断面を階段状に形成したときには、スルーホールの内周面に段差があるから、電子部品のピンをスルーホールに挿入するときに、ピンの先端がスルーホールの内周面の段差部に接触し、スルーホールの内周面のメッキ膜が破損し、またはメッキ膜が剥がれることがある。また、半田からなるテーパー形状ガイドを設けたときには、配線パッド上にテーパー形状ガイドを形成する際に、基板上の温度分布を厳密に管理する必要があるから、専用設備の導入が不可欠であり、生産コストが増大する。さらに、スルーホール自体をテーパー形状に形成したときには、スルーホール用の孔の加工時間が増加するから、生産コストが増大する。
本発明は上述の課題を解決するためになされたもので、スルーホールの内周面のメッキ膜の破損、剥がれが生ずることがなく、また生産コストが増大することがない配線基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
この目的を達成するため、本発明においては、内周面が導電性金属からなるメッキ膜で形成されたスルーホールの断面を階段状に形成し、上記スルーホールの内部に上記スルーホールの段差を埋める接続部案内部材を設ける。
本発明においては、スルーホールの段差を埋める接続部案内部材を設けているから、スルーホールに電子部品の接続部を挿入するときに、スルーホールの内周面のメッキ膜が破損することがなく、また銅メッキ膜が剥がれることがなく、また配線基板の製造に専用設備を導入する必要がないので、生産コストが増大することがない。
(第1の実施の形態)
図1は本発明に係る配線基板の一部を示す断面図である。図に示すように、複数の絶縁基板1a〜1cにスルーホール用の孔2a〜2cが設けられ、孔2a〜2cの径はそれぞれ1、1.5、2mmである。また、絶縁基板1a〜1cの両面に配線層3が形成され、絶縁基板1a〜1cが樹脂からなる接着剤4によって接着されている。また、孔2a〜2cの内周面に銅メッキ膜5が形成され、断面が階段状のスルーホール6が形成されている。また、スルーホール6の内周面に半田コーティング7(融点は約220℃)が設けられ、半田コーティング7によりスルーホール6の内部の階段状の段差が埋められ、半田コーティング7の内周面は電子部品の接続部であるピンの挿入方向に向かって細くなるテーパー形状(すりばち状)となっている。
図1は本発明に係る配線基板の一部を示す断面図である。図に示すように、複数の絶縁基板1a〜1cにスルーホール用の孔2a〜2cが設けられ、孔2a〜2cの径はそれぞれ1、1.5、2mmである。また、絶縁基板1a〜1cの両面に配線層3が形成され、絶縁基板1a〜1cが樹脂からなる接着剤4によって接着されている。また、孔2a〜2cの内周面に銅メッキ膜5が形成され、断面が階段状のスルーホール6が形成されている。また、スルーホール6の内周面に半田コーティング7(融点は約220℃)が設けられ、半田コーティング7によりスルーホール6の内部の階段状の段差が埋められ、半田コーティング7の内周面は電子部品の接続部であるピンの挿入方向に向かって細くなるテーパー形状(すりばち状)となっている。
図2は図1に示した配線基板に電子部品を実装した状態を示す断面図である。図に示すように、電子部品のピン11がスルーホール6の内部に挿入され、ピン11が接続用半田12(融点は約180℃)によりスルーホール6(半田コーティング7)に固定されるとともに、電気的に接続されている。
図1に示した配線基板においては、断面が階段状のスルーホール6の内周面に半田コーティング7が設けられているから、電子部品のピン11をスルーホール6に挿入するときに、スルーホール6の内周面の銅メッキ膜5が破損することがなく、また銅メッキ膜5が剥がれることがない。また、半田コーティング7によりスルーホール6の内部の階段状の段差が埋められ、かつ半田コーティング7の内周面はテーパー形状となっているから、ピン11をスルーホール6に挿入するときに、ピン11の先端部がスルーホール6の中心部に案内されるので、ピン11を容易に挿入することができる。また、スルーホール6の内周面に半田コーティング7が設けられているから、ピン11を接続用半田12により半田コーティング7に半田付けすることができるので、ピン11をスルーホール6に強固に固定することができる。また、半田コーティング7が接続用半田12の融点よりも高い融点を有する材料からなるから、半田付け時に半田コーティング7が溶融してピン11の位置がずれるのを防止することができる。
つぎに、図1に示した配線基板の製造方法、すなわち本発明に係る配線基板の製造方法を図3、図4により説明する。まず、図3(a)に示すように、両面に銅箔21が設けられた複数の絶縁基板1aを重ね合わせて基板積層体とし、基板積層体に加工ドリルにより孔2aを設けることにより、各絶縁基板1aに孔2aを設ける。同様に、絶縁基板1b、1cに孔2b、2cを設ける。すなわち、絶縁基板1a〜1cを複数枚重ねた複数の基板積層体にそれぞれ径の異なる孔2a〜2cを設けることにより、各絶縁基板1a〜1cにそれぞれ径の異なる孔2a〜2cを設ける。つぎに、銅箔21を選択的にエッチングすることにより、絶縁基板1a〜1cに配線層3を形成する。つぎに、図3(b)に示すように、絶縁基板1a〜1cを接着剤4によって接着する。すなわち、孔2a〜2cの径が小さい順に絶縁基板1a〜1cを重ねて、各絶縁基板1a〜1cを接着剤4で接着する。つぎに、図3(c)に示すように、孔2a〜2cの内周面に銅メッキ膜5を形成することにより、断面が階段状のスルーホール6を形成する。つぎに、図4(a)に示すように、絶縁基板1cの配線層3のランド表面すなわちスルーホール6の上部にクリーム半田22をディスペンサーにより塗布する。つぎに、図4(b)に示すように、図4(a)に示す基板をリフロー槽に通し、リフロー槽の熱風を矢印の方向に送ることにより、クリーム半田22を溶融する。この場合、溶融した半田は表面張力によりスルーホール6の内周面を滑らかに覆う。つぎに、溶融した半田を冷却することにより、スルーホール6の内周面に半田コーティング7を設ける。
また、電子部品の実装工程では、電子部品のピン11をスルーホール6内に挿入し、フロー槽により接続用半田12による半田付けを行なう。
このような配線基板の製造方法においては、絶縁基板1a〜1cを複数枚重ねた複数の基板積層体にそれぞれ径の異なる孔2a〜2cを設けることにより、各絶縁基板1a〜1cにそれぞれ径の異なる孔2a〜2cを設けるから、一度に多数の絶縁基板1a〜1cに孔2a〜2cを設けることができ、また絶縁基板1a〜1cを接着剤4によって接着する工程、孔2a〜2cの内周面に銅メッキ膜5を形成する工程を従来の多層配線基板の製造設備と同様の製造設備を使用することができるから、生産性の悪化や専用設備の導入の必要がないので、生産コストが増大することがない。
なお、この実施の形態においては、クリーム半田22をディスペンサーにより塗布し、リフロー槽の熱風によりクリーム半田22を溶融して、スルーホール6の内周面に半田コーティング7を設けたが、スルーホール6の内周面にペースト状の導電性ペーストを塗布し、導電性ペーストを硬化して、スルーホール6の内部にスルーホール6の段差を埋める硬化した導電性ペースト(接続部案内部材)を形成してもよい。この場合、導電性ペーストとして硬化した導電性ペーストの融点が接続用半田の融点よりも高いものを用いるのが望ましい。
(第2の実施の形態)
図5は本発明に係る他の配線基板の一部を示す断面図、図6は図5に示した配線基板に使用するテーパー形状部品を示す斜視図である。図に示すように、スルーホール6の内部にフッ素樹脂(融点は250℃以上)からなる筒状部品であるテーパー形状部品31が載置されている。また、テーパー形状部品31の外周部はスルーホール6の最下層の絶縁基板(最も径の小さい孔2aが設けられた絶縁基板)1a以外の絶縁基板1b、1c部と接触しており、またテーパー形状部品31の内周面は電子部品のピンの挿入方向に向かって細くなるテーパー形状となっている。
図5は本発明に係る他の配線基板の一部を示す断面図、図6は図5に示した配線基板に使用するテーパー形状部品を示す斜視図である。図に示すように、スルーホール6の内部にフッ素樹脂(融点は250℃以上)からなる筒状部品であるテーパー形状部品31が載置されている。また、テーパー形状部品31の外周部はスルーホール6の最下層の絶縁基板(最も径の小さい孔2aが設けられた絶縁基板)1a以外の絶縁基板1b、1c部と接触しており、またテーパー形状部品31の内周面は電子部品のピンの挿入方向に向かって細くなるテーパー形状となっている。
図5に示した配線基板を製造するには、図3(c)に示した配線基板のスルーホール6内に部品自動挿入機を使用してテーパー形状部品31を挿入する。
図7は図5に示した配線基板に電子部品を実装した状態を示す断面図である。図に示すように、電子部品のピン41がスルーホール6、テーパー形状部品31の内部に挿入され、ピン41が接続用半田42(融点は約180℃)によりスルーホール6の最下層の絶縁基板1a部に固定されるとともに、電気的に接続されている。
図5に示した配線基板においては、スルーホール6の内部にテーパー形状部品31が載置されているから、電子部品のピン41をスルーホール6に挿入するときに、スルーホール6の内周面の銅メッキ膜5が破損することがなく、また銅メッキ膜5が剥がれることがない。また、テーパー形状部品31の内周部は電子部品のピン41の挿入方向に向かって細くなるテーパー形状となっているから、ピン41をスルーホール6に挿入するときに、ピン41の先端部がスルーホール6の中心部に案内されるので、ピン41を容易に挿入することができる。また、テーパー形状部品31の外周部はスルーホール6の最下層の絶縁基板1a以外の絶縁基板1b、1c部と接触しているから、フロー槽によりピン41とスルーホール6の内周面とを確実に半田付けすることができる。また、テーパー形状部品31の材料の融点は接続用半田42の融点よりも高いから、半田付け時にテーパー形状部品31が溶融してピン41の位置がずれるのを防止することができる。また、テーパー形状部品31はスルーホール6内に載置されているから、従来の部品挿入機を使用してテーパー形状部品31をスルーホール6内に挿入することができるので、生産コストが増大することがない。また、テーパー形状部品31の材料をフッ素樹脂としたから、テーパー形状部品31の生産性を向上することができ、生産コストを低減することができる。
なお、本発明は以上の実施の形態に限定されるものではなく、以上の実施の形態のいずれかを組み合わせてもよい。
また、上述実施の形態においては、スルーホール6の段差を埋める接続部案内部材として半田コーティング7、筒状部品(テーパー形状部品31)を用いたが、他の接続部案内部材を用いてもよい。また、上述実施の形態においては、孔2a〜2cの内周面に銅メッキ膜5を形成したが、他の導電性金属からなるメッキ膜を形成してもよい。また、上述実施の形態においては、テーパー形状部品31の材料をフッ素樹脂としたが、筒状部品(テーパー形状部品)の材料として金属を用いてもよい。また、上述実施の形態においては、テーパー形状部品31の材料を半田付けが不能なフッ素樹脂としたが、筒状部品(テーパー形状部品)の材料として半田付けが可能な材料を用いれば、半田付け後の固定強度を向上することができる。
1a〜1c…絶縁基板
2a〜2c…孔
4…接着剤
5…銅メッキ膜
6…スルーホール
7…半田コーティング
22…クリーム半田
31…テーパー形状部品
2a〜2c…孔
4…接着剤
5…銅メッキ膜
6…スルーホール
7…半田コーティング
22…クリーム半田
31…テーパー形状部品
Claims (13)
- 複数の絶縁基板を積層して形成した配線基板において、内周面に導電性金属からなるメッキ膜が設けられたスルーホールの断面を階段状に形成し、上記スルーホールの内部に上記スルーホールの段差を埋める接続部案内部材を設けたことを特徴とする配線基板。
- 上記接続部案内部材の内周面をテーパー形状にしたことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
- 上記接続部案内部材が半田コーティングであることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。
- 上記接続部案内部材が硬化した導電性ペーストであることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。
- 上記接続部案内部材が、外周面が上記スルーホールの内周面と接触した筒状部品であることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。
- 上記筒状部品の外周部を上記スルーホールの最下層の上記絶縁基板以外の上記絶縁基板部と接触させたことを特徴とする請求項5に記載の配線基板。
- 上記筒状部品が半田付け可能な材料からなることを特徴とする請求項5または6に記載の配線基板。
- 上記接続部案内部材が、電子部品の接続部を上記スルーホールに半田付けする接続用半田の融点よりも高い融点を有する材料からなることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の配線基板。
- 上記接続部案内部材が上記スルーホール内に載置されたことを特徴とする請求項1、2または8に記載の配線基板。
- 複数の絶縁基板を積層して形成した配線基板の製造方法において、内周面が導電性金属からなるメッキ膜で形成されかつ断面が階段状のスルーホールを形成し、上記スルーホールの上部にクリーム半田を塗布し、上記クリーム半田を溶融して上記スルーホールの内部に上記スルーホールの段差を埋める半田コーティングを形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
- 複数の絶縁基板を積層して形成した配線基板の製造方法において、内周面が導電性金属からなるメッキ膜で形成されかつ断面が階段状のスルーホールを形成し、上記スルーホールの内周面に導電性ペーストを塗布し、上記導電性ペーストを硬化して、上記スルーホールの内部に上記スルーホールの段差を埋める硬化した導電性ペーストを形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
- 複数の絶縁基板を積層して形成した配線基板の製造方法において、内周面が導電性金属からなるメッキ膜で形成されかつ断面が階段状のスルーホールを形成し、上記スルーホール内に外周面が上記スルーホールの内周面と接触する筒状部品を挿入することを特徴とする配線基板の製造方法。
- 上記絶縁基板を複数重ねた複数の基板積層体にそれぞれ径の異なる孔を設け、上記孔の径が小さい順に上記絶縁基板を複数重ねて、各上記絶縁基板を接着剤で接着し、上記の孔の内面にメッキ膜を形成することにより上記スルーホールを形成することを特徴とする請求項10、11または12に記載の配線基板の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2014006790A1 (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-09 | パナソニック株式会社 | 電球形ランプ、照明装置及び電球形ランプの製造方法 |
JP2020098874A (ja) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板およびその製造方法 |
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JPWO2014006790A1 (ja) * | 2012-07-06 | 2016-06-02 | パナソニック株式会社 | 電球形ランプ、照明装置及び電球形ランプの製造方法 |
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JP7217142B2 (ja) | 2018-12-19 | 2023-02-02 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板およびその製造方法 |
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