JP2007179798A - 表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】各表示画素(各色画素)を構成する有機EL層(正孔輸送層又は電子輸送性発光層)の形成工程において、正孔輸送層又は電子輸送性発光層を構成する材料を含む有機溶液を各表示画素(色画素)の形成領域に塗布し、当該有機溶液を乾燥させて正孔輸送材料又は電子輸送性発光材料を定着させる工程と、その後、各表示画素の形成領域に上記有機溶液の溶媒を塗布して、一旦定着した正孔輸送材料又は電子輸送性発光材料を再溶解(又は、再分散)させた後、再度乾燥させて正孔輸送層又は電子輸送性発光層を形成する工程と、が実行される。
【選択図】図2
Description
図6は、有機EL素子の基本構造を示す概略断面図である。
図6に示すように、有機EL素子は、概略、ガラス基板等の絶縁性基板111の一面側(図面上方側)に、アノード(陽極)電極112、有機化合物等(有機材料)からなる有機EL層(発光機能層)113、及び、カソード(陰極)電極114を順次積層した構成を有している。有機EL層113は、例えば、正孔輸送材料(正孔注入層形成材料)からなる正孔輸送層(正孔注入層)113aと、電子輸送性発光材料からなる電子輸送性発光層(発光層)113bとを積層して構成されている。
ここで、低分子系の有機材料の場合、一般に、有機EL層における発光効率は比較的高いものの、製造プロセスにおいて蒸着法を適用する必要があるため、画素形成領域のアノード電極上にのみ当該低分子系の有機膜を選択的に薄膜形成する際に、上記アノード電極以外の領域への低分子材料の蒸着を防止するためのマスクを用いる必要があり、当該マスクの表面にも低分子材料が付着することになるため、製造時の材料ロスが大きいうえ、製造プロセスが非効率的であるという問題を有している。
隔壁に囲まれた前記表示画素の形成領域に電荷輸送性材料を含む溶液を塗布し、乾燥させて当該電荷輸送性材料を薄膜状に定着させる材料定着工程と、
前記画素形成領域に、前記定着させた電荷輸送性材料を再溶解又は再分散させる液材を塗布して当該電荷輸送性材料からなる前記電荷輸送層を形成する電荷輸送層形成工程と、
を含むことを特徴とする。
請求項3記載の発明は、請求項1又は2記載の表示装置の製造方法において、前記隔壁に囲まれた領域に、同一発光色の前記発光素子からなる複数の前記表示画素の前記画素形成領域が含まれていることを特徴とする。
請求項6記載の発明に係る表示装置の製造装置は、隔壁に囲まれた表示画素の形成領域に電荷輸送性材料を含む溶液が塗布されて薄膜状に定着された当該電荷輸送性材料を再溶解又は再分散させる液材を、定着された当該電荷輸送性材料に塗布することを特徴とする。
まず、本発明に係る表示装置に適用される表示パネル及び表示画素について説明する。
図1は、本発明に係る表示装置に適用される表示パネルの画素配列状態の一例を示す要部概略平面図である。ここで、図1(a)は、表示パネルの平面図であり、図1(b)は、図1(a)における表示パネルのA−A断面図である。なお、図1(a)に示す平面図においては、説明の都合上、表示パネルを視野側から見た場合の、各表示画素(色画素)に設けられる画素電極と、各表示画素の形成領域を画定する隔壁(バンク)のみを示し、また、画素電極及び隔壁の配置を明瞭にするために、便宜的にハッチングを施して示した。
図2及び図3は、本実施形態に係る表示装置(表示パネル)の製造方法の一例を示す工程断面図である。ここでは、図1に示した、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の色画素PXr、PXg、PXbを一組とする表示画素PIXを備えたカラー表示パネルを、ノズルプリント法を用いて製造する場合について説明する。また、図4は、本実施形態に係る表示装置(表示パネル)の有機EL層の形成工程を説明するための要部概略断面図である。
また、上記実施形態では、画素電極12をアノードとしたが、これに限らずカソードとしてもよい。このとき、有機EL層13は、画素電極12に接する電荷輸送層が電子輸送性の層であればよい。
11a 層間絶縁膜
11b 隔壁
12 画素電極
13a 正孔輸送層
13b 電子輸送性発光層
13x 材料膜
14 対向電極
PSB パネル基板
PIX 表示画素
Apx 画素形成領域
HMC、EMC 有機溶液
HSL、ESL 溶媒
Claims (6)
- 電荷輸送層を有する発光素子を有する表示画素を備えた表示装置の製造方法において、
隔壁に囲まれた前記表示画素の形成領域に電荷輸送性材料を含む溶液を塗布し、乾燥させて当該電荷輸送性材料を薄膜状に定着させる材料定着工程と、
前記画素形成領域に、前記定着させた電荷輸送性材料を再溶解又は再分散させる液材を塗布して当該電荷輸送性材料からなる前記電荷輸送層を形成する電荷輸送層形成工程と、
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記電荷輸送層形成工程において前記電荷輸送性材料を再溶解又は再分散させる液材は、前記材料定着工程において前記電荷輸送性材料を含む溶液中の溶媒と同じ材料の溶媒を含むことを特徴とする請求項1記載の表示装置の製造方法。
- 前記隔壁に囲まれた領域に、同一発光色の前記発光素子からなる複数の前記表示画素の前記画素形成領域が含まれていることを特徴とする請求項1又は2記載の表示装置の製造方法。
- 前記材料定着工程における前記電荷輸送性材料を含む溶液を塗布する処理と、前記電荷輸送層形成工程における前記電荷輸送性材料を再溶解させる溶液を塗布する処理は、前記隔壁に囲まれた領域の複数の前記画素形成領域に対して、ノズルプリント法を用いて前記溶液を連続的に塗布することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
- 前記電荷輸送性材料は高分子系の有機材料からなり、前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の表示装置の製造方法。
- 隔壁に囲まれた表示画素の形成領域に電荷輸送性材料を含む溶液が塗布されて薄膜状に定着された当該電荷輸送性材料を再溶解又は再分散させる液材を、定着された当該電荷輸送性材料に塗布することを特徴とする表示装置の製造装置。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008243542A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Seiko Epson Corp | 有機el装置の製造方法 |
WO2009028126A1 (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | 有機el表示装置及びその製造方法 |
JP2009071176A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
JP2009176438A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-08-06 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置の製造装置および製造方法 |
JP2011049028A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Seiko Epson Corp | 有機el装置の製造方法、及びカラーフィルターの製造方法 |
JP2011113982A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 有機発光表示装置の製造方法、有機発光表示装置用の表面処理装置及び有機発光表示装置 |
KR20150075346A (ko) * | 2013-12-24 | 2015-07-03 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계 발광소자 및 그 제조방법 |
CN113224253A (zh) * | 2020-06-12 | 2021-08-06 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 显示器件及其制备方法 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103646959B (zh) * | 2009-02-10 | 2016-09-14 | 株式会社日本有机雷特显示器 | 发光元件及其制造方法 |
KR101613865B1 (ko) * | 2009-03-26 | 2016-04-20 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 그 제작 방법 |
JP5677436B2 (ja) | 2010-08-06 | 2015-02-25 | パナソニック株式会社 | 有機el素子 |
JP5620494B2 (ja) | 2010-08-06 | 2014-11-05 | パナソニック株式会社 | 発光素子、表示装置、および発光素子の製造方法 |
JP5677437B2 (ja) | 2010-08-06 | 2015-02-25 | パナソニック株式会社 | 有機el素子 |
JP5677431B2 (ja) | 2010-08-06 | 2015-02-25 | パナソニック株式会社 | 有機el素子、表示装置および発光装置 |
WO2012017502A1 (ja) | 2010-08-06 | 2012-02-09 | パナソニック株式会社 | 有機el素子およびその製造方法 |
JP5612692B2 (ja) | 2010-08-06 | 2014-10-22 | パナソニック株式会社 | 有機el素子およびその製造方法 |
WO2012017490A1 (ja) | 2010-08-06 | 2012-02-09 | パナソニック株式会社 | 有機el素子、表示装置および発光装置 |
JP5756422B2 (ja) * | 2012-03-05 | 2015-07-29 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法 |
JP2014222642A (ja) * | 2013-05-14 | 2014-11-27 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 有機el表示装置の製造方法及び製造装置 |
CN103840087B (zh) * | 2014-02-18 | 2016-01-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示背板及其制备方法和显示装置 |
CN105428391B (zh) * | 2015-12-30 | 2017-12-22 | 天马微电子股份有限公司 | 像素结构及其制作方法、显示面板 |
CN106711355B (zh) * | 2016-12-20 | 2018-07-10 | 武汉华星光电技术有限公司 | 柔性oled显示面板的制作方法 |
CN107393939B (zh) * | 2017-08-30 | 2020-04-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及制造方法、显示面板及制造方法、显示装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003142261A (ja) * | 2001-11-02 | 2003-05-16 | Tdk Corp | 有機el表示素子の製造方法および有機el表示素子 |
JP2003217842A (ja) * | 2002-01-23 | 2003-07-31 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセント素子の製造方法 |
JP2004145244A (ja) * | 2002-01-25 | 2004-05-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置 |
JP2005095787A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | 膜形成方法、デバイス製造方法および電気光学装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4048687B2 (ja) * | 2000-04-07 | 2008-02-20 | セイコーエプソン株式会社 | 有機el素子および有機el素子の製造方法 |
US6822629B2 (en) * | 2000-08-18 | 2004-11-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
JP3628997B2 (ja) * | 2000-11-27 | 2005-03-16 | セイコーエプソン株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
US6965124B2 (en) * | 2000-12-12 | 2005-11-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and method of fabricating the same |
EP3333876A1 (en) * | 2001-05-16 | 2018-06-13 | The Trustees of Princeton University | High efficiency multi-color electro-phosphorescent oleds |
TWI258317B (en) * | 2002-01-25 | 2006-07-11 | Semiconductor Energy Lab | A display device and method for manufacturing thereof |
JP4042460B2 (ja) * | 2002-04-22 | 2008-02-06 | セイコーエプソン株式会社 | 製膜方法及びデバイス及び電子機器並びにデバイスの製造方法 |
JP2004071506A (ja) * | 2002-08-09 | 2004-03-04 | Toshiba Corp | 有機el表示装置の製造方法及び製造システム |
JP4161956B2 (ja) * | 2004-05-27 | 2008-10-08 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 |
KR100736008B1 (ko) * | 2004-06-07 | 2007-07-06 | 가시오게산키 가부시키가이샤 | 표시장치 및 그 제조방법 |
JP4306599B2 (ja) * | 2004-12-15 | 2009-08-05 | セイコーエプソン株式会社 | パターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法 |
-
2005
- 2005-12-27 JP JP2005374987A patent/JP4251331B2/ja active Active
-
2006
- 2006-12-27 TW TW095149096A patent/TWI374685B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-12-27 KR KR1020060134533A patent/KR100856624B1/ko active IP Right Grant
- 2006-12-27 CN CN2006101567768A patent/CN1992157B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-27 US US11/646,063 patent/US20070148333A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003142261A (ja) * | 2001-11-02 | 2003-05-16 | Tdk Corp | 有機el表示素子の製造方法および有機el表示素子 |
JP2003217842A (ja) * | 2002-01-23 | 2003-07-31 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセント素子の製造方法 |
JP2004145244A (ja) * | 2002-01-25 | 2004-05-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置 |
JP2005095787A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | 膜形成方法、デバイス製造方法および電気光学装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008243542A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Seiko Epson Corp | 有機el装置の製造方法 |
WO2009028126A1 (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | 有機el表示装置及びその製造方法 |
JP2009071176A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
JP2009176438A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-08-06 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置の製造装置および製造方法 |
JP2011049028A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Seiko Epson Corp | 有機el装置の製造方法、及びカラーフィルターの製造方法 |
JP2011113982A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 有機発光表示装置の製造方法、有機発光表示装置用の表面処理装置及び有機発光表示装置 |
US8389323B2 (en) | 2009-11-27 | 2013-03-05 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing organic light emitting display apparatus, surface treatment device for organic light emitting display apparatus, and organic light emitting display apparatus |
KR20150075346A (ko) * | 2013-12-24 | 2015-07-03 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계 발광소자 및 그 제조방법 |
KR102257232B1 (ko) * | 2013-12-24 | 2021-05-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계 발광소자 및 그 제조방법 |
CN113224253A (zh) * | 2020-06-12 | 2021-08-06 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 显示器件及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200735703A (en) | 2007-09-16 |
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KR20070069066A (ko) | 2007-07-02 |
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