JP2007101713A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】絶縁性材料からなるバンクベース部18aと、金属材料等の導電性材料からなるメタルバンク部18bとを積層した構成を有するバンク18を、表示パネル上に格子状に配設することにより、各色画素PXr、PXg、PXbの形成領域Rpx、Gpx、・・・が画定されるとともに、導電性材料からなるメタルバンク部18bにより、表示パネルの全域に共通配線(カソードラインLc)を配設することができる。ここで、メタルバンク部18bの底部は、バンクベース部18aに形成された複数の貫通孔THLを介して下層の平坦化膜14に直接密着するように構成されている。
【選択図】図2
Description
図12は、有機EL素子の基本構造を示す概略断面図である。
図12に示すように、有機EL素子は、概略、ガラス基板等の絶縁性基板111の一面側(図面上方側)に、アノード(陽極)電極112、有機化合物等(有機材料)からなる有機EL層113、及び、カソード(陰極)電極114を順次積層した構成を有している。
図13及び図14は、従来技術における表示パネル(有機EL素子)の製造プロセスの一例を示す工程断面図である。ここで、上述した有機EL素子(図12)の素子構造と同等の構成については、同一の符号を付して説明する。
次いで、上述した親液化処理を施した絶縁性基板111に対して、フッ化物ガス雰囲気中で紫外線UVを照射することにより、隔壁121表面においてはフッ素が結合して撥液化(又は、撥水化)し、一方、アノード電極112表面は親液性を保持する。
このような表示パネル(有機EL素子)の構成やその製造方法については、例えば、特許文献1等に詳しく説明されている。
なお、図15は、有機EL素子における発光構造を示す概略断面図である。
基板上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜と接触する面に複数の貫通孔が設けられた隔壁下層部と、前記前記隔壁下層上に設けられ、前記複数の貫通孔を介して、前記平坦化膜に直接密着する底部を有する隔壁上層部と、を有する隔壁と、
を備えることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項2記載の表示装置であって、前記自発光素子は、トランジスタを有する発光駆動回路に接続され、
前記隔壁上層部は、前記発光駆動回路又は前記自発光素子に接続されていることを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項1記載の表示装置であって、前記隔壁上層部は、絶縁性材料により構成されていることを特徴とする。
図1は、本発明に係る表示装置に適用される表示パネルの画素配列状態の一例を示す要部概略平面図であり、図2は、本発明に係る表示装置(表示パネル)の第1の実施形態を示す要部概略断面図である。なお、図1に示す平面図においては、図示の都合上、視野側から見た各画素形成領域とアノードラインLa及びカソードラインLcの配設構造のみを示し、図2に示す他の構成(アモルファスシリコン薄膜トランジスタ等のトランジスタ)を省略した。ここで、図1においては、隣接する赤(R)、緑(G)、青(B)の3色からなる色画素PXr、PXg、PXbを一組として一の表示画素PIXを構成する場合を示し、図2においては、赤色画素PXrの形成領域Rpxを中心とした断面構造を示す。また、図3は、本実施形態に係る表示パネルに適用されるバンクの底部構成例を示す概略図である。
次に、本発明に係る表示装置の第2の実施形態について説明する。
図4は、本発明に係る表示装置(表示パネル)の第2の実施形態の一例を示す要部概略断面図であり、図5は、本発明に係る表示装置(表示パネル)の第2の実施形態の他の例を示す要部概略断面図である。ここで、上述した第1の実施形態と同等の構成については、同一の符号を付してその説明を簡略化する。
また、上記実施形態では、バンクメタル部18bをアノードラインLaの一部として利用したが、代わりにカソードラインLcの一部に適用してもよい。
次に、本発明に係る表示装置(表示パネル)に適用可能な表示画素について具体的に説明する。
図6は、本発明に係る表示装置の表示パネルに2次元配列される各表示画素に適用可能な発光駆動回路の一例を示す等価回路図である。ここでは、上述した第1の実施形態に示した表示パネルの構成(図1)を参照しながら説明する。
図7は、本発明に係る表示装置に適用可能な表示画素の一具体例を示す平面レイアウト図であり、図8は、本発明に係る表示装置に適用可能な表示画素の平面レイアウトの要部詳細図である。ここでは、図1に示した表示画素PIXを構成する赤(R)、緑(G)、青(B)の各色画素PXr、PXg、PXbのうちの、特定の色画素の平面レイアウトを示す。なお、図7においては、表示画素PIXの平面構成を簡明にするために、図2に示したような封止基板、封止樹脂層、有機EL素子、平坦化膜を省略し、発光駆動回路を構成する各トランジスタ及び配線層等を中心に示し、図8においては、図7に示した平面レイアウトのうち、共通電圧ラインGL(カソードラインLc)の下層に形成される各トランジスタ及び配線層等を具体的に示す。なお、図8において、丸数字は、各導電層の上下の順を表し、数字が小さいほど下層(絶縁性基板側)に形成され、大きいほど上層(有機EL素子側)に形成されていることを示す。また、図9は、図7に示した平面レイアウトを有する表示画素からなる表示パネルであって、第1の実施形態に係るバンク構造及び図6に示した発光駆動回路を適用した場合の要部概略断面図である。ここでは、図7に示した表示画素(色画素)におけるX−X断面を示し、図示の都合上、封止基板、封止樹脂層を省略して示す。
14 平坦化膜
15 画素電極
16 有機EL層
16a 正孔輸送層
16b 電子輸送性発光層
17 対向電極
18 バンク
18a バンクベース部
18b メタルバンク部
18c、18d 樹脂バンク部
18e 絶縁層
T1、T2、Tr11〜Tr13 トランジスタ
La アノードライン
Lc カソードライン
THL 貫通孔
PIX 表示画素
PXr、PXg、PXb 色画素
Rpx、Gpx 色画素の形成領域
Claims (5)
- 複数の自発光素子からなる表示画素を複数配列した表示パネルを備えた表示装置において、
基板上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜と接触する面に複数の貫通孔が設けられた隔壁下層部と、前記前記隔壁下層上に設けられ、前記複数の貫通孔を介して、前記平坦化膜に直接密着する底部を有する隔壁上層部と、を有する隔壁と、
を備えることを特徴とする表示装置。 - 前記隔壁上層部は、導電性材料により構成されていることを特徴とする請求項1記載の表示装置。
- 前記自発光素子は、トランジスタを有する発光駆動回路に接続され、
前記隔壁上層部は、前記発光駆動回路又は前記自発光素子に接続されていることを特徴とする請求項2記載の表示装置。 - 前記各表示画素における前記自発光素子は、少なくとも画素電極及び少なくとも一層からなる電荷輸送層、対向電極を有していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置。
- 前記隔壁上層部は、絶縁性材料により構成されていることを特徴とする請求項1記載の表示装置。
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