JP2007177262A - マグネシウム金属材料およびその製造方法 - Google Patents

マグネシウム金属材料およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007177262A
JP2007177262A JP2005374342A JP2005374342A JP2007177262A JP 2007177262 A JP2007177262 A JP 2007177262A JP 2005374342 A JP2005374342 A JP 2005374342A JP 2005374342 A JP2005374342 A JP 2005374342A JP 2007177262 A JP2007177262 A JP 2007177262A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnesium
film
metal material
spark discharge
porous layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005374342A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4825002B2 (ja
Inventor
Mitsuru Osawa
充 大澤
Yoshiyuki Morita
善幸 森田
Ayako Omori
彩子 大森
Masahiro Akimoto
政弘 秋本
Kazuhito Nishinaka
一仁 西中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DENKA HIMAKU KOGYO KK
Honda Motor Co Ltd
Original Assignee
DENKA HIMAKU KOGYO KK
Honda Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DENKA HIMAKU KOGYO KK, Honda Motor Co Ltd filed Critical DENKA HIMAKU KOGYO KK
Priority to JP2005374342A priority Critical patent/JP4825002B2/ja
Publication of JP2007177262A publication Critical patent/JP2007177262A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4825002B2 publication Critical patent/JP4825002B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

【課題】陽極酸化処理を施されたマグネシウム金属材料とその製造方法において、耐食性に優れるとともに、高い寸法精度を実現することができ、しかも低い表面粗度を有するマグネシウム金属材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】マグネシウムまたはマグネシウム合金からなる母材2の表面に、主成分としての酸化マグネシウムと、水酸化マグネシウム、マンガン、アルミニウム、および/またはフッ素とを含むスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3を備えるマグネシウム金属材料1であって、スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3が、多孔質層4と、バリヤ層5とを有しており、多孔質層4の微細孔の平均孔径が50nm〜20μmであり、多孔質層4とバリヤ層5との合計厚さが1〜50μmであることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、マグネシウムやマグネシウム合金を主に含むマグネシウム金属材料およびその製造方法に関する。
従来、マグネシウムやマグネシウム合金を主に含むマグネシウム金属材料は、金属材料のなかでも軽量であって、比強度(強度/密度(比重))が大きく、しかもダイカストにおける鋳造性が良好であることから車両の構造体、各種部品等に広く使用されている。ところで、マグネシウム金属材料は、活性が高いために大気中で酸化腐食しやすい。また、マグネシウム金属材料は、その表面に酸化皮膜が形成されると塗装が難しく、塗膜の密着性も悪い。そのため、一般には、マグネシウム金属材料に酸化皮膜以外の皮膜を化学的に形成させる化成処理を施した後に塗装が行われる。しかしながら、化成処理を施した後に塗膜を形成するとマグネシウム金属材料の寸法安定性が低下する。そして、このように塗装を施したマグネシウム金属材料を廃棄し、または再利用する際には、皮膜を剥離する必要がある。
一方、化成処理に代えて、マグネシウム金属材料に陽極酸化処理を施すことによって酸化物や水酸化物の皮膜を形成する技術も知られている。この技術は、六価のクロム酸塩等の重金属塩を含む電解液中で火花放電を生じさせながらマグネシウム金属材料に皮膜を形成するものである。ちなみに、皮膜は、厚さが30〜50μm程度であって、この皮膜には火花放電によって生じた平均孔径25μm以上の径の大きな孔が形成されることとなる。
しかしながら、この技術では、重金属塩を使用するために、環境汚染防止を考慮した排水処理設備が必要となる。また、皮膜に形成された孔によって表面粗さRaが大きい(粗い)。
そこで、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等と、所定の皮膜形成安定剤とを含む電解液中で、マグネシウム金属材料を陽極酸化処理する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。この方法では、重金属塩で環境が汚染されるおそれがなく、従来のものと比較して皮膜の表面粗さRaも小さく(細かく)抑えられる。
特開平9−176894号公報
しかしながら、例えば、特許文献1に記載の方法で陽極酸化処理されたマグネシウム金属材料は、使用環境によっては充分な耐食性を有しているとは言えず、特に、車両等に使用される場合には、さらなる耐食性が要求される。また、車両等に使用されるマグネシウム金属材料には、さらに高い寸法精度やより低い表面粗度も要求される。
そこで、本発明は、陽極酸化処理を施された従来のマグネシウム金属材料と比較して、耐食性に優れるとともに、高い寸法精度を実現することができ、しかも小さい(細かい)表面粗さRaを有するマグネシウム金属材料、およびその製造方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決する本発明のマグネシウム金属材料は、マグネシウムまたはマグネシウム合金の表面に、主成分としての酸化マグネシウムと、水酸化マグネシウム、マンガン、アルミニウム、フッ素および/またはこれらの酸化物とを含むスピネル型多孔質陽極酸化皮膜を備えるマグネシウム金属材料であって、前記スピネル型多孔質陽極酸化皮膜が、多孔質層と、バリヤ層より成り立ち、前記多孔質層の微細孔の平均孔径が50nm〜20μmであり、前記多孔質層と前記バリヤ層との合計厚さが1〜50μmであることを特徴とする。
このマグネシウム金属材料では、前記した特定の成分からなるスピネル型多孔質陽極酸化皮膜であって、従来のマグネシウム金属材料と比較して多孔質層の表層における微細孔の平均孔径が50nm〜10μmと小さいので、その封孔効果によって耐食性に優れるとともに、表面粗さRaが小さい。また、バリヤ層が、実質的に無孔質層であることからマグネシウムまたはマグネシウム合金と、大気(酸素)との接触を遮断しており、大気中でのマグネシウムまたはマグネシウム合金の酸化腐食を防止している。なお、本発明におけるバリヤ層は、5nm以下程度の超微小孔を有しているものを含んでいる。
そして、このマグネシウム金属材料では、マグネシウムまたはマグネシウム合金の表面に形成されるスピネル型多孔質陽極酸化皮膜(多孔質層およびバリヤ層(無孔質層))の厚さが1〜50μm程度であって、従来のマグネシウム金属材料と比較して薄いので、高い寸法精度を実現することができる。
また、本発明のマグネシウム金属材料の製造方法は、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のリン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、ケイフッ化塩、または水酸化物の1種以上と、皮膜添加剤としてのアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のフッ化物塩、重フッ化物塩、マンガン酸塩、または過マンガン酸塩の1種以上とを含む電解液を調製する工程と、浴温を15〜40℃に設定した前記電解液中で、電流密度を0.5〜15A/dmに設定し、電圧を20V以上に設定して火花放電をさせながら電解を行ってマグネシウムまたはマグネシウム合金の表面に火花放電型陽極酸化処理を施す工程とを備えることを特徴とする。
この製造方法では、前記した成分からなる電解液中を使用するとともに、浴温、電流密度、および電圧を前記した所定の範囲に設定した火花放電型陽極酸化処理によって、本発明のマグネシウム金属材料を製造することができる。
このような製造方法においては、前記電解液が、有機カルボン酸および/またはその塩をさらに含むことが望ましい。
また、このような製造方法においては、前記火花放電型陽極酸化処理が、直流電源、周波数が100Hz乃至2kHzの交流電源、200乃至4000回/秒の周期で極性が変化するPR電源、または正極側が200乃至2000パルス/秒のパルス波を形成するパルス電源を使用して電解が行われることが望ましい。
本発明によれば、陽極酸化処理を施された従来のマグネシウム金属材料と比較して、耐食性に優れるとともに、高い寸法精度を実現することができ、しかも細かい表面を有するマグネシウム金属材料、およびその製造方法を提供することができる。
次に、本発明のマグネシウム金属材料およびその製造方法の実施形態について適宜図面を参照しながら説明する。参照する図面において、図1は、本実施形態に係るマグネシウム金属材料の断面を示す模式図である。
図1に示すように、本実施形態に係るマグネシウム金属材料1は、マグネシウムまたはマグネシウム合金からなる母材2の表面に、スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3を備えている。
母材2を構成するマグネシウム合金としては、マグネシウム−アルミニウム系合金、マグネシウム−マンガン系合金、マグネシウム−カルシウム系合金、マグネシウム−銀系合金、マグネシウム−希土類元素系合金等が挙げられ、具体的には、例えばマグネシウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム−亜鉛系合金、マグネシウム−アルミニウム−ケイ素合金、マグネシウム−ジルコニウム−希土類元素−銀合金、マグネシウム−亜鉛−ジルコニウム合金、マグネシウム−亜鉛合金、マグネシウム−希土類元素−ジルコニウム合金、マグネシウム−アルミニウム−希土類元素合金、マグネシウム−イットリウム−希土類元素合金、およびマグネシウム−カルシウム−亜鉛合金等が挙げられる。
母材2としては、プレス成形や板金加工された展伸材や、砂型法、金型法、ロストワックス法、プラススターモールド法、スクイズキャスティング法等で得られた鋳物材や、ホットチャンバ法、コールドチャンバ法、半溶融凝固法等で得られたダイキャスト材や、熱間法、温間法等で得られた鍛造材等のいずれをも使用することができる。また、母材2は、形状に特に制限はなく、例えば、板状体、管状体、棒状体、二次元的にまたは三次元的に織り込まれた繊維、ハニカム状構造体等であってもよい。
また、母材2は、必要に応じて、機械的または化学的な前処理を施したものが好ましい。機械的な前処理としては、例えば、乾式または湿式のホーニング処理や、ベルト、パフ等を使用した研磨処理が挙げられる。そして、化学的な前処理としては、例えば、エッチング処理、化学梨地形成処理、その他の食刻処理等が挙げられる。なお、これらの前処理は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて使用してもよい。
スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3は、主に酸化マグネシウムを含むセラミック質の膜であって、多孔質層4と、バリヤ層5(無孔質層)とで主に構成されている。このスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3の厚さは、多孔質層4と、バリヤ層5(無孔質層)との合計の厚さで、1〜50μmとなっている。ちなみに、スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3全体としての平均孔径は、30nm〜20μm程度となっている。
多孔質層4は、微細孔が多数存在する層であって、その表層には、平均孔径で50nm〜20μm程度、好ましくは、50nm〜10μmの微細孔を有している。
そして、表層よりもさらに深い部分であってバリヤ層5(無孔質層)との間に形成される多孔質層4は、平均孔径で50nm〜5μmの微細孔を有している。つまり、多孔質層4は、深い部分になるほど(バリヤ層5(無孔質層)寄りになるほど)孔径分布が狭くなっている。
バリヤ層5(無孔質層)は、多孔質層4と前記母材2の間に形成される実質的に無孔質の層であって、母材2(マグネシウムまたはマグネシウム合金)と大気(酸素)との接触を遮断している。
このようなスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3は、主成分としての前記した酸化マグネシウム(MgO)と、水酸化マグネシウム(Mg(OH))、マンガン(Mn)、アルミニウム(Al)、フッ素(F)および/またはこれらの酸化物とを含んでいる。そして、前記酸化物としては、例えば、MgO・MnO、MgO・Al、MgO・MgF、MgO・Mg(OH)、MgO・Al・MnO等が挙げられる。
このようなスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3における、酸化マグネシウムの含有率は、60〜99質量%が好ましく、水酸化マグネシウムの含有率は、0.01〜30質量%が好ましい。また、スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3におけるマンガン(Mn)、アルミニウム(Al)、フッ素(F)および/またはこれらの酸化物のそれぞれの含有率は、各元素換算で、マンガン0.01〜20質量%、アルミニウム0.01〜20質量%、フッ素0.01〜20質量%が好ましい。
そして、スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3では、酸化マグネシウムと、マンガン、アルミニウム、フッ素、および/またはこれらの酸化物とがスピネル型構造を形成している。
次に、マグネシウム金属材料1の製造方法について説明する。
この製造方法では、後記する電解液中で母材2(図1参照)に火花放電型陽極酸化処理が行われて母材2の表面にスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3が形成される。
電解液を構成する電解質は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のリン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、および水酸化物の少なくともいずれかと、皮膜添加剤とを含んでいる。
前記リン酸塩としては、例えば、NaPO、NaHPO、NaHPO、Na、Na、Na、Na、Na10、KPO、KHPO、KHPO、K、K(PO等が挙げられる。
前記ホウ酸塩としては、例えば、NaBO、Na、NaBO、KBO、K等が挙げられる。
前記ケイ酸塩としては、例えば、NaSiO、NaSiO、KSiO、KSiO、KSi等が挙げられる。
前記水酸化物としては、例えば、NaOH、KOH、Ba(OH)等が挙げられる。
このようなリン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、および水酸化物は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。
皮膜添加剤は、電解液の寿命の延長や、母材2(図1参照)に形成するスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3(図1参照)の均一性、安定性等の性能向上を図るとともに、酸化マグネシウムと他の金属とのスピネル型構造を形成させるためのものである。
この皮膜添加剤としては、例えば、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のフッ化物塩、重フッ化物塩、マンガン酸塩、過マンガン酸塩、ケイ酸化合物、ケイフッ化物、金属もしくは金属化合物等の無機系のもの、または水酸基、カルボキシル基もしくはスルホン基を有する直鎖状、または環状の有機系のものが挙げられる。
前記フッ化物としては、例えば、KF、NHF等が挙げられる。
前記重フッ化物としては、例えば、NHFHF、NaFHF、KFHF等が挙げられる。
前記マンガン酸塩としては、例えば、KMnO、NaMnO、NaMnO等が挙げられる。
前記過マンガン酸塩としては、例えば、KMnO、NaMnO、Mg(MnO、Ca(MnO等が挙げられる。
前記ケイ酸化合物としては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の前記ケイ酸塩と同様のものが挙げられる。
前記ケイフッ化物としては、例えば、NaSiF、MgSiF、(NHSiF等が挙げられる。
前記金属としては、例えば、Al、Si、W、Mo等が挙げられ、金属化合物としては、例えば、NaAlO、CoAl、KAlO、NaSiO、KSiO、KSiO、CoSiO等が挙げられる。
水酸基、カルボキシル基、またはスルホン基を有する前記有機化合物としては、例えば、(CHOH)、(CHCHOH)O、(CHOH)CHOH等のアルコール類、(COOH)、(CHCHCOOH)、[CH(OH)COOH]、C(OH)COOH、CCOOH、C(COOH)等のカルボン酸及びこれらの塩、C(SOH)COOH、C(COOH)(OH)SOH等のスルホン基を有する化合物等を挙げることができる。なかでも、カルボン酸およびその塩が好ましく、その塩としては、カリウム塩、およびナトリウム塩が好ましい。
これらの皮膜添加剤は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。特に、無機系の皮膜添加剤と、カルボン酸との組み合わせは、電解液の管理が容易となるので好ましい。
電解液の溶媒としては水が使用され、このような電解液における、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のリン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、および水酸化物の少なくともいずれかの配合量は、0.2〜7モル/L程度に設定される。そして、皮膜添加剤の配合量は、0.01〜5モル/Lが好ましい。
このような電解液の温度(浴温)は、15〜40℃であり、好ましくは15〜30℃である。電解液のPHは、9以上が好ましい。
母材2(図1参照)への陽極酸化処理は、このような電解液中で、火花放電させながら行われる。
陽極酸化処理する際の電源としては、直流電源、交流電源、パルス電源、およびPR(Periodic Reverse)電源のいずれであってもよく、これらの電源は、2種以上を組み合わせて使用することができる。そして、これらの電源を組み合わせて使用することによって、電源から供給される電流の波形が、例えば、直流−PR波形、直流−周波数100Hz乃至2kHzの交流波形、直流−交流重畳波形、直流−パルス周期200乃至4000パルス/秒のパルス波形、直流−PR−直流波形、直流−周波数100Hz乃至2kHzの交流−直流波形等の各種波形の組み合わせとなるように設定することが可能となる。
ちなみに、PR電源は、直流出力の極性を高速反転させてPR電解(Periodic Reverse Electrolyzing)を行うことができるものであれば特に制限はなく、上市品を使用することができる。
この製造方法では、電流密度が、0.5〜15A/dm程度に設定される。
交流電源を使用した交流電解を行って陽極酸化処理を行う場合には、周波数が100Hz〜2kHz程度に設定されることが好ましい。また、PR電源を使用して陽極酸化処理を行う場合には、反転周期を200〜4000回/秒に設定することが望ましい。そして、パルス電源を使用する場合には、正極側におけるパルス周期を200〜2000パルス/秒に設定することが望ましい。
母材2に火花放電型の陽極酸化処理を行う時間は、10〜70分程度が好ましい。
次に、本実施形態に係るマグネシウム金属材料1、およびその製造方法の作用効果について説明する。
本実施形態に係るマグネシウム金属材料1は、マグネシウムまたはマグネシウム合金からなる母材2の表面に形成されたスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3が、主に酸化マグネシウムからなり、その他の含有金属が、略完全に近い酸化物組成となっている。そして、スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3の表面における微細孔の平均孔径は、50nm〜20μmとなっている。したがって、本実施形態に係るマグネシウム金属材料1は、従来の火花放電型陽極酸化処理で得られたマグネシウム金属材料(例えば、特許文献1参照)と比較して、大気中の酸素による酸化進行がより確実に抑制されるとともに、表面の平均孔径が比較的大きい従来のもの(平均孔径:25μm)よりも封孔性が優れているので、耐食性に優れる。
また、本実施形態に係るマグネシウム金属材料1では、バリヤ層5(無孔質層)が母材2(マグネシウムまたはマグネシウム合金)と、大気(酸素)との接触を遮断しているので、大気中での母材2の酸化腐食を防止している。
また、本実施形態に係るマグネシウム金属材料1は、スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3の厚さが従来のもの(例えば、特許文献1参照)と比較して薄いので、これを使用した製品に高い寸法精度を付与することができる。
また、本実施形態に係るマグネシウム金属材料1は、スピネル型多孔質陽極酸化皮膜3の表面(第1多孔質層4aの表面)の表面粗さRaが、従来のものと比較して小さく(細かく)、色調も淡色であるので、これを使用した製品に対する塗装回数(重ね塗り回数)を低減することができる。
また、本実施形態に係るマグネシウム金属材料1は、重金属を含んでいないので、重金属による環境汚染を懸念する必要がない。
また、本実施形態に係るマグネシウム金属材料1の製造方法は、前記した特定の電解液中で、前記した所定の電解条件を設定してマグネシウムまたはマグネシウム合金からなる母材2の表面に火花放電型陽極酸化処理を行うので、母材2の表面に、主に酸化マグネシウムからなり、その他の含有金属が略完全に近い酸化物組成となっているスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3を形成することができる。そして、特定の電解液中で、所定の電解条件を設定して火花放電型陽極酸化処理を行うので、厚さが薄く、表面の孔径が小さく、表面粗さRaが小さく(細かく)、そして色調が淡色のスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3を形成することができる。
また、この製造方法では、電解液に重金属を含まないので、重金属による環境汚染を懸念する必要がない。
また、この製造方法では、電解液中に、前記した所定の皮膜添加剤を含むので、電解液の寿命の延長や、母材2に形成するスピネル型多孔質陽極酸化皮膜3の均一性、安定性等の性能の向上を図ることができるとともに、酸化マグネシウムと他の成分とのスピネル型構造を効率よく形成させることができる。
次に、実施例を示しながら本発明をさらに具体的に説明する。
(実施例1)
マグネシウム合金製の圧延板(大阪富士社製、AZ31B(70mm×150mm×5mm))の両面を荒削りした後に、ダイヤモンドバイトを使用して仕上げ加工することで、本実施例で作製するマグネシウム金属材料の母材を形成した。この母材の厚さの寸法精度は、4.22±0.001mmであり、表面粗さ(Ra)は、0.3μmであった。次に、この母材を脱脂及び酸洗浄した後、液温26±2℃に保持した後記する組成の電解液中で母材に火花放電型陽極酸化処理を60分間施した。その結果、母材の表面には、後記する組成を有するスピネル型の多孔質陽極酸化皮膜が形成された。このときの電解条件は、電源が周波数1000Hzの交流であり、電流密度が2〜5A/dm2であり、火花放電開始電圧が約50Vであり、火花放電最終電圧が95Vであった。
<電解液の組成(溶媒:水)>
NaOH 3.5モル/L
NaHPO 0.3モル/L
Al 0.3モル/L
KF 0.2モル/L
KMnO 0.2モル/L
NaSiO 0.15モル/L
[CH(OH)COONa] 0.15モル/L
なお、Al、KF、KMnO、NaSiO、および[CH(OH)COONa]は、皮膜添加剤として配合した。
次に、母材上に形成された皮膜の表面を観察したところ、その色調は淡いベージュ色を呈していた。そして、厚さの寸法精度は、4.22±0.002mmであり、表面粗さ(Ra)は、1.5μmであった。
次に、皮膜の断面を電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−T20)で観察したところ、皮膜の厚さは、約20μmであった。そして、この皮膜には、平均径約5μmの微細孔が形成されていることが確認された。また、この皮膜の組成をX線回折装置(リガク社製、Rint1500)で分析したところ、皮膜には、MgO、MgO・Alが含まれることが確認された。また、X線光電子分析装置(日本電子社製、JPS−9000)で皮膜の組成を分析したところ、皮膜には、F、MnO、およびSiOが含まれることが確認された。また、赤外吸収分光分析装置(日本電子社製、JIR−100)で皮膜の組成を分析したところ、皮膜には、Mg(OH)が含まれることが確認された。
次に、このような皮膜(スピネル型の多孔質陽極酸化皮膜)を有するマグネシウム金属材料の耐食性試験を行った。
耐食性試験は、JIS Z 2371の塩水噴霧試験に準拠して行った。つまり、この耐食性試験では、所定の濃度の塩水を8時間噴霧した後に16時間噴霧を中断する工程を1サイクルとし、マグネシウム金属材料の表面が腐食するまでのサイクル数で耐食性が評価された。その結果、本実施例に係るマグネシウム金属材料でのサイクル数は、91回であった。ちなみに、RN(レイティングナンバ)は、9.8以上であった(腐食面積率0.02%以下)。表1に、マグネシウム金属材料の寸法精度(mm)、表面粗さRa(μm)、皮膜の厚さ(μm)、微細孔の平均孔径(μm)、耐食性試験結果(サイクル数(回))、および皮膜の色調を記載する。
なお、本実施例で電解液の成分として使用した過マンガン酸カリウム(KMnO)のような過マンガン酸塩に代えてマンガン酸塩を使用し、フッ化カリウム(KF)のようなフッ化塩に代えて重フッ化塩を使用することによっても、本実施例とほぼ同じ効果が得られる。
Figure 2007177262
(比較例1)
この比較例1では、電解条件としての、交流電源の周波数が50Hzに変更され、火花放電開始電圧が約55Vに変更され、火花放電最終電圧が92Vに変更された以外は、実施例1と同様にしてマグネシウム合金製の母材上に皮膜が形成された。母材上に形成された皮膜の表面を観察したところ、濃い茶系の色を呈していた。そして、寸法精度は、4.22±0.025mmであり、表面粗さ(Ra)は、11μmであった。
そして、実施例1と同様にして、皮膜の厚さ、皮膜に形成された孔の径を測定するとともに、皮膜の組成を分析した。その結果、皮膜の厚さは、40μmであり、平均孔径(皮膜の表面から28〜34μmまでの深さに存在する孔の平均孔径)は、30μmであった。
また、皮膜には、主に、MgO・Al、MgO、およびMg(OH)が含まれることが確認された。
次に、実施例1と同様にして、耐食性試験を行った。その結果、サイクル数は32回であった。表1に、マグネシウム金属材料の寸法精度(mm)、表面粗さRa(μm)、皮膜の厚さ(μm)、微細孔の平均孔径(μm)、耐食性試験結果(サイクル数(回))、および皮膜の色調を記載する。
(実施例2)
この実施例2では、後記する組成の電解液を使用した。そして、電解条件として、電源が直流電源に変更され、電流密度が1〜2A/dm2に変更され、火花放電最終電圧が98Vに変更され、電解時間(火花放電型陽極酸化処理時間)が65分に変更された以外は、実施例1と同様にしてマグネシウム合金製の母材上に後記する組成を有するスピネル型の多孔質陽極酸化皮膜が形成された。
<電解液の組成(溶媒:水)>
NaOH 3.0モル/L
NaHPO 0.3モル/L
Al 0.3モル/L
KMn 0.25モル/L
[CH(OH)COONa] 0.15モル/L
KF 0.2モル/L
なお、Al、KMn、[CH(OH)COONa]、およびKFは、皮膜添加剤として配合した。
母材上に形成された皮膜の表面を観察したところ、淡い茶系の色を呈していた。そして、寸法精度は、4.22±0.01mmであり、表面粗さ(Ra)は、5.8μmであった。
そして、実施例1と同様にして、皮膜の厚さ、皮膜に形成された孔の径を測定するとともに、皮膜の組成を分析した。その結果、皮膜の厚さは、30μmであり、平均孔径は、18μmであった。
また、皮膜には、MgO、MgO・Al、およびMg(OH)が主に含まれるとともに、これらに加えて微量のMnが含まれていることが確認された。
次に、実施例1と同様にして、耐食性試験を行った。その結果、サイクル数は70回であった。表1に、マグネシウム金属材料の寸法精度(mm)、表面粗さRa(μm)、皮膜の厚さ(μm)、微細孔の平均孔径(μm)、耐食性試験結果(サイクル数(回))、および皮膜の色調を記載する。
(比較例2)
この比較例2では、電解条件としての、電源が交流電源(周波数50Hz)に変更された以外は、実施例2と同様にしてマグネシウム合金製の母材上に皮膜が形成された。母材上に形成された皮膜の表面を観察したところ、濃い茶系の色を呈していた。そして、寸法精度は、4.22±0.03mmであり、表面粗さ(Ra)は、12.5μmであった。
そして、実施例1と同様にして、皮膜の厚さ、皮膜に形成された孔の径を測定するとともに、皮膜の組成を分析した。その結果、皮膜の厚さは、50μmであり、平均孔径は、30μmであった。
また、皮膜には、主に、MgO、MgO・Al、MnOが含まれることが確認された。そして、Mg(OH)については、実施例2の皮膜よりも少ないことが確認された。
次に、実施例1と同様にして、耐食性試験を行った。その結果、サイクル数は28回であった。表1に、マグネシウム金属材料の寸法精度(mm)、表面粗さRa(μm)、皮膜の厚さ(μm)、微細孔の平均孔径(μm)、耐食性試験結果(サイクル数(回))、および皮膜の色調を記載する。
(皮膜の評価)
表1に示すように、実施例1と比較例1との比較、および実施例2と比較例2との比較から明らかなように、実施例1および実施例2で得られた本発明のマグネシウム金属材料は、比較例1および比較例2で得られたものより、寸法精度、耐食性に優れている。そして、母材に形成された皮膜の表面粗さRa、および表面の孔径の大きさについては、実施例1および実施例2のものが、比較例1および比較例2のものよりも小さくなっている。また、皮膜の厚さについては、実施例1および実施例2のものが、比較例1および比較例2のものよりも薄くなっている。そして、皮膜の色調については、実施例1および実施例2のものが、比較例1および比較例2のものよりも淡色になっている。
したがって、本発明によれば、耐食性に優れるとともに、これを使用した製品の、寸法精度を高くし、表面粗さを低減し、しかも色調の淡色化を図ることができることが確認された。
本実施形態に係るマグネシウム金属材料の断面を示す模式図である。
符号の説明
1 マグネシウム金属材料
2 母材
3 スピネル型多孔質陽極酸化皮膜
4 多孔質層
5 バリヤ層

Claims (4)

  1. マグネシウムまたはマグネシウム合金の表面に、主成分としての酸化マグネシウムと、
    水酸化マグネシウム、マンガン、アルミニウム、フッ素および/またはこれらの酸化物とを含むスピネル型多孔質陽極酸化皮膜を備えるマグネシウム金属材料であって、
    前記スピネル型多孔質陽極酸化皮膜が、多孔質層と、バリヤ層より成り立ち、
    前記多孔質層の微細孔の平均孔径が50nm〜20μmであり、
    前記多孔質層と前記バリヤ層との合計厚さが1〜50μmであることを特徴とするマグネシウム金属材料。
  2. アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のリン酸塩、ホウ酸塩、ケイ酸塩、ケイフッ化塩、または水酸化物の1種以上と、
    皮膜添加剤としてのアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のフッ化物塩、重フッ化物塩、マンガン酸塩、または過マンガン酸塩の1種以上とを含む電解液を調製する工程と、
    浴温を15〜40℃に設定した前記電解液中で、電流密度を0.5〜15A/dmに設定し、電圧を20V以上に設定して火花放電をさせながら電解を行ってマグネシウムまたはマグネシウム合金の表面に火花放電型陽極酸化処理を施す工程と、
    を備えることを特徴とするマグネシウム金属材料の製造方法。
  3. 前記電解液が、有機カルボン酸および/またはその塩をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のマグネシウム金属材料の製造方法。
  4. 前記火花放電型陽極酸化処理が、直流電源、周波数が100Hz乃至2kHzの交流電源、200乃至4000回/秒の周期で極性が変化するPR電源、または正極側が200乃至2000パルス/秒のパルス波を形成するパルス電源の1種、または2種以上を組み合わせて使用して電解が行われることを特徴とする請求項2または請求項3に記載のマグネシウム金属材料の製造方法。
JP2005374342A 2005-12-27 2005-12-27 マグネシウム金属材料の製造方法 Active JP4825002B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005374342A JP4825002B2 (ja) 2005-12-27 2005-12-27 マグネシウム金属材料の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005374342A JP4825002B2 (ja) 2005-12-27 2005-12-27 マグネシウム金属材料の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007177262A true JP2007177262A (ja) 2007-07-12
JP4825002B2 JP4825002B2 (ja) 2011-11-30

Family

ID=38302734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005374342A Active JP4825002B2 (ja) 2005-12-27 2005-12-27 マグネシウム金属材料の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4825002B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2003218A1 (en) * 2007-06-12 2008-12-17 Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha Anodised magnesium alloy member, method for producing the same, and transporter comprising the same
JP2009024235A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 表面処理方法
JP2011047047A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Wiscohitec Co Ltd マグネシウム合金製品用のpeo表面処理溶液の配合物
JP2011256458A (ja) * 2010-06-09 2011-12-22 Nuc Electronics Co Ltd マグネシウム系金属の表面処理方法
KR20160120998A (ko) * 2015-04-09 2016-10-19 현대성우메탈 주식회사 마그네슘 합금용 플라즈마 전해 산화용 전해액 및 이를 이용한 전해산화방법
JP2017155323A (ja) * 2016-03-01 2017-09-07 株式会社アート1 マグネシウム金属材料表面の処理方法。
CN115011957A (zh) * 2022-05-09 2022-09-06 桂林理工大学 利用碱热法在镁合金表面制备氢氧化镁与二氧化硅复合薄膜的方法及得到的镁合金材料

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS581093A (ja) * 1981-06-24 1983-01-06 Deitsupusoole Kk マグネシウム材表面に保護皮膜を形成する方法
JPS63100195A (ja) * 1986-05-30 1988-05-02 Ube Ind Ltd マグネシウムまたはその合金の陽極酸化処理液
JPS63277793A (ja) * 1987-05-08 1988-11-15 Ube Ind Ltd マグネシウムまたはその合金の陽極酸化処理液
JPH02301656A (ja) * 1989-05-15 1990-12-13 Honda Motor Co Ltd エンジンの吸気制御装置
JPH09176894A (ja) * 1995-12-21 1997-07-08 Sony Corp 表面処理方法
JP2005068555A (ja) * 2003-08-01 2005-03-17 Denka Himaku Kogyo Kk 金属材料及び表面処理方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS581093A (ja) * 1981-06-24 1983-01-06 Deitsupusoole Kk マグネシウム材表面に保護皮膜を形成する方法
JPS63100195A (ja) * 1986-05-30 1988-05-02 Ube Ind Ltd マグネシウムまたはその合金の陽極酸化処理液
JPS63277793A (ja) * 1987-05-08 1988-11-15 Ube Ind Ltd マグネシウムまたはその合金の陽極酸化処理液
JPH02301656A (ja) * 1989-05-15 1990-12-13 Honda Motor Co Ltd エンジンの吸気制御装置
JPH09176894A (ja) * 1995-12-21 1997-07-08 Sony Corp 表面処理方法
JP2005068555A (ja) * 2003-08-01 2005-03-17 Denka Himaku Kogyo Kk 金属材料及び表面処理方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2003218A1 (en) * 2007-06-12 2008-12-17 Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha Anodised magnesium alloy member, method for producing the same, and transporter comprising the same
JP2009019269A (ja) * 2007-06-12 2009-01-29 Yamaha Motor Co Ltd マグネシウム合金部材およびその製造方法ならびに輸送機器
US7892650B2 (en) 2007-06-12 2011-02-22 Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha Magnesium alloy member, method for producing the same, and transporter comprising the same
JP2009024235A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 表面処理方法
JP2011047047A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Wiscohitec Co Ltd マグネシウム合金製品用のpeo表面処理溶液の配合物
JP2011256458A (ja) * 2010-06-09 2011-12-22 Nuc Electronics Co Ltd マグネシウム系金属の表面処理方法
KR20160120998A (ko) * 2015-04-09 2016-10-19 현대성우메탈 주식회사 마그네슘 합금용 플라즈마 전해 산화용 전해액 및 이를 이용한 전해산화방법
KR101701268B1 (ko) * 2015-04-09 2017-02-13 현대성우메탈 주식회사 마그네슘 합금용 플라즈마 전해 산화용 전해액 및 이를 이용한 전해산화방법
JP2017155323A (ja) * 2016-03-01 2017-09-07 株式会社アート1 マグネシウム金属材料表面の処理方法。
CN115011957A (zh) * 2022-05-09 2022-09-06 桂林理工大学 利用碱热法在镁合金表面制备氢氧化镁与二氧化硅复合薄膜的方法及得到的镁合金材料

Also Published As

Publication number Publication date
JP4825002B2 (ja) 2011-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4825002B2 (ja) マグネシウム金属材料の製造方法
JP2006291278A (ja) 耐食性に優れたマグネシウム金属材料及びその製造法
CN101608332B (zh) 表面具微弧氧化陶瓷膜的铝合金及其制备方法
TWI564437B (zh) 非金屬塗覆物及其生產方法
CN108560037B (zh) 一种含硼低碳钢氧化膜层及其制备方法
JPH01301889A (ja) マグネシウム及びマグネシウム合金の表面を製造する方法
JPH0551679B2 (ja)
US20140209467A1 (en) Method For Producing White Anodized Aluminum Oxide
CN101845636A (zh) 一种镁及镁合金表面致密性氟化物陶瓷膜的制备方法
WO2016017380A1 (ja) アルミニウム板
JP2011106024A (ja) マグネシウム又はマグネシウム合金の陽極酸化表面処理方法
JPH09176894A (ja) 表面処理方法
CN1405361A (zh) 镁合金超声波阳极氧化方法
JP6369745B2 (ja) 陽極酸化皮膜及びその封孔処理方法
CN108977865A (zh) 一种5xxx铝及铝合金表面高耐蚀单致密微弧氧化膜层的制备方法
JP4830095B2 (ja) 金属材料及び表面処理方法
CN110284174B (zh) 一种铝合金氧化成膜所用的电解氧化液以及铝合金氧化成膜方法
JP4468101B2 (ja) 金属材料及び表面処理方法
EP2003218B1 (en) Anodised magnesium alloy member, method for producing the same, and transporter comprising the same
US20060207884A1 (en) Method of producing corundum layer on metal parts
RU2543659C1 (ru) Способ получения композиционного металлокерамического покрытия на вентильных металлах и их сплавах
Yerokhin et al. Anodising of light alloys
KR101213976B1 (ko) 마그네슘 합금의 산화피막 형성방법 및 이로부터 제조된 산화피막을 가지는 부재
JP3666375B2 (ja) 表面処理アルミニウム材及びその製造方法
CN100381615C (zh) 镁合金表面绿色氧化膜层两步着色方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081222

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081226

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090417

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110607

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110808

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110830

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110909

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4825002

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140916

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250