JP2007169257A

JP2007169257A - カルボキサミド化合物及びその用途

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Publication number: JP2007169257A
Application number: JP2006093739A
Authority: JP
Inventors: Sadayuki Arimori; 貞幸有森; Yoshiharu Kinoshita; 義晴木下
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2005-05-31
Filing date: 2006-03-30
Publication date: 2007-07-05
Anticipated expiration: 2026-03-30
Also published as: JP5002998B2

Abstract

【課題】植物病害防除効力を有する化合物及びこれを含有する植物病害防除剤を提供すること。
【解決手段】式（１）[式中、Ｑはベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基を表し、該複素環基はハロゲン原子等からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい、Ｒ¹はＣ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ２〜Ｃ５アルコキシアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表すか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になってＣ３〜Ｃ４アルキレン基を表し、Ｒ³は水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す。］で示されるカルボキサミド化合物及びこれを有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。

【選択図】なし

Description

本発明はカルボキサミド化合物、及びその用途に関する。

植物病害を防除するための薬剤の開発が広く進められ、植物病害防除効力を有する化合物が見出されて、実用に供されている。
また、４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド化合物として、アミドの窒素原子上に３−トリフルオロメチルフェニル基が置換した化合物が除草活性を有する化合物として知られている (特許文献1の化合物番号２．００１８) 。
特開平８−６７６７１号

本発明は、植物病害防除効力を有する化合物及びその用途を提供することを課題とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、式(I)で示されるカルボキサミド化合物が植物病害防除効力を有することを見出した。即ち、本発明は、
式(I)

[式中、Ｑはベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基を表し、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよく、
Ｒ¹はＣ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ2〜Ｃ５アルコキシアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表すか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になってＣ３〜Ｃ４アルキレン基を表し、
Ｒ³は水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す。］
で示されるカルボキサミド化合物（以下、本発明化合物と記す。但し、本発明化合物はそのケトエノール互変異性体をも含む。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤、及び本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法を提供する。

本発明により、植物病害防除効力を有する化合物及びその用途を提供することができる。

本発明において、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³で示される基として、以下の具体例が挙げられる。
Ｒ¹で示されるＣ１〜Ｃ３アルキル基とはメチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基であり、Ｃ２〜Ｃ５アルコキシアルキル基としては、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基が挙げられる。
Ｒ²で示されるＣ１〜Ｃ３アルキル基とはメチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基である。
Ｒ¹とＲ²とが一緒になって示されるＣ３〜Ｃ４アルキレン基としてはトリメチレン基、テトラメチレン基が挙げられる。
Ｒ³で示されるハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子である。
Ｒ³で示されるＣ１〜Ｃ３アルキル基とはメチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基である。

Ｑはベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、５員環及び／又はベンゼン環上において、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子等)、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基(例えば、トリフルオロメチル基等)からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいが、そのような複素環基としては、
ベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよく、５員環の環構成原子である窒素原子に隣接する炭素原子の位置で式(I)におけるＮＨと結合している複素環基；
ベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよく、１つの窒素原子と、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子とを環構成原子として有している複素環基；
他の環と縮合していない含窒素５員の複素環基であり、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい複素環基；
ベンゼン環と縮合している含窒素５員の複素環基であり、５員環及び／又はベンゼン環上において、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい複素環基；

式(a-1)又は式(a-2)

［式中、Ｚ¹は酸素原子、硫黄原子又はＮＡ¹を表し、Ｚ²は窒素原子又はＣＡ²基を表し、Ｚ³は窒素原子又はＣＡ³基を表し、
Ａ¹は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）を表し、Ａ²は水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子等）、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル基等）を表し、Ａ³は水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子等）、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル基等）を表すか、あるいは、Ａ²及びＡ³が一緒になってハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基で置換されていてもよい１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基（例えば、１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、２−フルオロ−１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、２−クロロ−１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、２−シアノ−１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、２−メチル−１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、２−トリフルオロメチル−１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、１−フルオロ−１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、１−クロロ−１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、１−メチル−１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基等）を表してもよい。但し、Ｚ¹がＮＡ¹であり、Ａ¹が水素原子である場合、Ｚ²はＣＡ²基であり、Ｚ³はＣＡ³基である。
Ｚ⁴は酸素原子、硫黄原子又はＮＡ⁴を表し、Ｚ⁵は窒素原子又はＣＡ⁵を表し、Ｚ⁶は窒素原子又はＣＡ⁶を表し、Ａ⁴は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）を表し、Ａ⁵は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）を表し、Ａ⁶は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）を表す。]
で示される複素環基；
チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、１，２，４−オキサジアゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾリル基及び１，３，４−チアジアゾリル基からなる群より選ばれ、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい複素環基；
２−チアゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−イミダゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基、３−ピラゾリル基、３−イソキサゾリル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基及び１，３，４−チアジアゾール−２−イル基からなる群より選ばれ、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい複素環基が挙げられる。

Ｑで示される複素環基としては、具体的には、
２−イミダゾリル基、４−メチル−２−イミダゾリル基、４，５−ジメチル−２−イミダゾリル基、４−クロロ−２−イミダゾリル基、４−ブロモ−２−イミダゾリル基、４，５−ジシアノ−２−イミダゾリル基、４−フルオロ−２−イミダゾリル基、４−シアノ−２−イミダゾリル基、
２−ベンゾイミダゾリル基、４−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−シアノ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−シアノ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、４−トリフルオロメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジフルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジクロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５−シアノ−２−ベンゾイミダゾリル基、
２−チアゾリル基、４−メチル−２−チアゾリル基、４，５−ジメチル−２−チアゾリル基、４−クロロ−２−チアゾリル基、４−ブロモ−２−チアゾリル基、４，５−ジシアノ−２−チアゾリル基、４−フルオロ−２−チアゾリル基、４−シアノ−２−チアゾリル基、４−メチル−２−チアゾリル基、４−エチル−２−チアゾリル基、５−メチル−２−チアゾリル基、５−クロル−２−チアゾリル基、
２−ベンゾチアゾリル基、４−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、６−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、７−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、４−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、６−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、７−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、４−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、５−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、６−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、７−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジメチル−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジフルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジクロロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾチアゾリル基、５−シアノ−２−ベンゾチアゾリル基、
３−ピラゾリル基、１−メチル−３−ピラゾリル基、１，５−ジメチル−３−ピラゾリル基、４−クロロ−１−メチル−３−ピラゾリル基、１−エチル−３−ピラゾリル基、１−（２，２，２−トリフルオロエチル−３−ピラゾリル基、
３−イソキサゾリル基、５−メチル−３−イソキサゾリル基、
１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−メチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−エチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−シアノ−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、
１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−エチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−トリフルオロメチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−シアノ−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、
１，２，４−トリアゾール−３−イル基、５−メチル−１，２，４−トリアゾール−３−イル基が挙げられる。

本発明化合物の態様としては、例えば以下の本発明化合物内のカルボキサミド化合物があげられる。
式(I)において、Ｑがベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、該５員環は１つの窒素原子と、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子とを有し、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑがベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、該５員環の環構成原子である窒素原子に隣接する炭素原子の位置で式(I)におけるＮＨと結合し、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが他の環と縮合していない含窒素５員の複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑがベンゼン環と縮合している含窒素５員の複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが式(a-1)又は式(a-2)

［式中、Ｚ¹は酸素原子、硫黄原子又はＮＡ¹を表し、Ｚ²は窒素原子又はＣＡ²基を表し、Ｚ³は窒素原子又はＣＡ³基を表し、Ａ¹は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ａ²は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基を表し、Ａ³は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基を表すか、あるいは、Ａ²及びＡ³が一緒になってハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基で置換されていてもよい１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基を表してもよい。但し、Ｚ¹がＮＡ¹であり、Ａ¹が水素原子である場合、Ｚ²はＣＡ²基であり、Ｚ³はＣＡ³基である。
Ｚ⁴は酸素原子、硫黄原子又はＮＡ⁴を表し、Ｚ⁵は窒素原子又はＣＡ⁵を表し、Ｚ⁶は窒素原子又はＣＡ⁶を表し、Ａ⁴は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ａ⁵は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ａ⁶は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す。]
で示される複素環基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑがチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、１，２，４−オキサジアゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾイル基及び１，３，４−チアジアゾイル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑがチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾイル基及び１，３，４−チアジアゾイル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが２−チアゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−イミダゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基、３−ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基及び１，３，４−チアジアゾール−２−イル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが２−チアゾリル基、２−イミダゾリル基、３−ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基及び１，３，４−チアジアゾール−２−イル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが２−ベンゾチアゾリル基及び２−ベンゾイミダゾリル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑがハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基で置換されていてもよい２−ベンゾイミダゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが２−イミダゾリル基、４−メチル−２−イミダゾリル基、４，５−ジメチル−２−イミダゾリル基、４−クロロ−２−イミダゾリル基、４−ブロモ−２−イミダゾリル基、４，５−ジシアノ−２−イミダゾリル基、４−フルオロ−２−イミダゾリル基又は４−シアノ−２−イミダゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが２−ベンゾイミダゾリル基、４−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジフルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジクロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾイミダゾリル基又は５−シアノ−２−ベンゾイミダゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが２−チアゾイル基、４−メチル−２−チアゾリル基、４，５−ジメチル−２−チアゾリル基、４−クロロ−２−チアゾリル基、４−ブロモ−２−チアゾリル基、４，５−ジシアノ−２−チアゾリル基、４−フルオロ−２−チアゾリル基又は４−シアノ−２−チアゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが２−ベンゾチアゾリル基、４−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、６−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、７−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、４−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、６−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、７−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、４−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、５−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、６−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、７−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジメチル−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジフルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジクロロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾチアゾリル基又は５−シアノ−２−ベンゾチアゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−メチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基又は５−シアノ−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｑが１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−トリフルオロメチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基又は５−シアノ−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ¹とＲ²とが一緒になってトリメチレン基であり、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であるカルボキサミド化合物；

式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑがベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、該５員環は１つの窒素原子と、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子とを有し、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑがベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、該複素環基は該５員環の環構成原子である窒素原子に隣接する炭素原子の位置で式(I)におけるＮＨと結合し、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが含窒素５員の複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑがベンゼン環と縮合している含窒素５員の複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが式(a-1)又は式(a-2)

［式中、Ｚ¹は酸素原子、硫黄原子又はＮＡ¹を表し、Ｚ²は窒素原子又はＣＡ²基を表し、Ｚ³は窒素原子又はＣＡ³基を表し、Ａ¹は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ａ²は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基を表し、Ａ³は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基を表すか、あるいは、Ａ²及びＡ³が一緒になってハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基で置換されていてもよい１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基を表してもよい。但し、Ｚ¹がＮＡ¹であり、Ａ¹が水素原子である場合、Ｚ²はＣＡ²基であり、Ｚ³はＣＡ³基である。
Ｚ⁴は酸素原子、硫黄原子又はＮＡ⁴を表し、Ｚ⁵は窒素原子又はＣＡ⁵を表し、Ｚ⁶は窒素原子又はＣＡ⁶を表し、Ａ⁴は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ａ⁵は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ａ⁶は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す。]
で示される複素環基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑがチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾイル基及び１，３，４−チアジアゾイル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが２−チアゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−イミダゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基、３−ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基及び１，３，４−チアジアゾール−２−イル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが２−チアゾリル基、２−イミダゾリル基、３−ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基及び１，３，４−チアジアゾール−２−イル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが２−ベンゾチアゾリル基及び２−ベンゾイミダゾリル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよいカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑがハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基で置換されていてもよい２−ベンゾイミダゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが２−イミダゾリル基、４−メチル−２−イミダゾリル基、４，５−ジメチル−２−イミダゾリル基、４−クロロ−２−イミダゾリル基、４−ブロモ−２−イミダゾリル基、４，５−ジシアノ−２−イミダゾリル基、４−フルオロ−２−イミダゾリル基又は４−シアノ−２−イミダゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが２−ベンゾイミダゾリル基、４−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジフルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジクロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾイミダゾリル基又は５−シアノ−２−ベンゾイミダゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが２−チアゾイル基、４−メチル−２−チアゾリル基、４，５−ジメチル−２−チアゾリル基、４−クロロ−２−チアゾリル基、４−ブロモ−２−チアゾリル基、４，５−ジシアノ−２−チアゾリル基、４−フルオロ−２−チアゾリル基又は４−シアノ−２−チアゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが２−ベンゾチアゾリル基、４−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、６−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、７−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、４−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、６−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、７−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、４−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、５−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、６−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、７−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジメチル−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジフルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジクロロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾチアゾリル基又は５−シアノ−２−ベンゾチアゾリル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−メチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基又は５−シアノ−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ³は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｑが１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−トリフルオロメチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基又は５−シアノ−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³が水素原子であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³が水素原子であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³がメチル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³が水素原子であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³が水素原子であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³がメチル基であるカルボキサミド化合物；
式(I)において、Ｒ¹とＲ²とが一緒になってトリメチレン基であり、Ｒ³が水素原子であるカルボキサミド化合物。

次に本発明化合物の製造方法を説明する。本発明化合物は、例えば下記の（製造法Ａ）〜（製造法C）にしたがって製造することができる。
本発明化合物の製造法及び中間体の参考製造法においては、化合物は反応条件において必要応じて、特定の官能基を保護するための保護基を用いることもでき、該保護基は適当な条件において脱保護することができる。

（製造法Ａ）
本発明化合物は式(II)で示される化合物と式(III)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。

[式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＱは前記と同じ意味を表す。またＲ⁴はＣ１〜Ｃ１０アルキル基を示す。]
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。必要に応じて、反応の進行に伴って生じるＣ１〜Ｃ１０アルコールを吸着、留出や共沸などによって除去しながら行われることもある。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド類等の酸アミド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に際して、式(III)で示される化合物１モルに対して、式(II)で示される化合物が通常０．１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常８０〜１８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、
・反応混合物を室温に冷却した後、生じた固体をろ過により集め、該固体を有機溶媒で洗浄し、乾燥する；
・反応混合物を減圧下に濃縮し、生じた固体を有機溶媒で洗浄し、乾燥する
等の操作を行うことにより、式(I)で示される化合物を単離する事が出来る。単離された式(I)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（製造法B）
本発明化合物は式(XIII)で示される化合物と式(III)で示される化合物とを、式(XIV)で示されるカルボニルジイミダゾールの存在下に反応させることにより製造することができる。

[式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＱは前記と同じ意味を表す。]
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に際して、式(XIII)で示される化合物１モルに対して、式(III)で示される化合物が通常１モルの割合、式(XIV)で示されるカルボニルジイミダゾールが通常１モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−１０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物中に生じた固体をろ過により集め、該固体を有機溶媒で洗浄し、乾燥する等の操作を行われることにより、式(I)で示される化合物を単離することができる。単離された式(I)で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（製造法Ｃ）
本発明化合物は式(XIII)で示される化合物と式(XV)で示される化合物とを、金属塩の存在下に反応させることにより製造することもできる。

[式中、Ｒ³³及びＱは前記と同じ意味を表す。]
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。
該反応に用いられる金属塩としては、例えばマグネシウムトリフラート、カルシウムトリフラートが挙げられる。
反応に際して、式(XIII)で示される化合物１モルに対して、式(XV)で示される化合物が通常１モルの割合、金属塩が通常０．０１〜０．１モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常１００〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物中に生じた固体をろ過により集め、該固体を有機溶媒で洗浄し、乾燥する等の操作を行われることにより、式（I）で示される化合物を単離することができる。単離した式(I)で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

次に、本発明化合物の中間体の製造法について参考製造法で説明する。
（参考製造例１）
式(II)で示される化合物のうち式(II-1)で示される化合物は、例えば式(IV)で示される化合物より下記のスキームに従って製造することができる。

〔式中、Ｑは前記と同じ意味を表し、Ｒ¹¹はＣ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ２〜Ｃ５アルコキシアルキル基を表し、Ｒ²¹は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ³¹は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ⁴はＣ１〜Ｃ１０アルキル基を表す。〕

工程(1-1)
式(V-1)で示される化合物は、式(IV)で示される化合物を、アジド化合物（例えば、ナトリウムアジド、トリメチルシリルアジド等）と反応させた後、得られた生成物を更にアルコール化合物（例えば、メタノール、エタノール）と反応させることにより製造することができる。
これらの反応は、通常溶媒の存在下で行われる。用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素、クロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド類等の酸アミド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に際して、式(IV)で示される化合物１モルに対して、アジド化合物が通常１〜５モルの割合で用いられ、アジド化合物１モルに対して、アルコール化合物が通常１モルの割合で用いられる。
式(IV)で示される化合物をアジド化合物と反応させる際の温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。得られた生成物をアルコール化合物と反応させる際の温度は、通常−２０〜１０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
これらの反応終了後は、反応混合物中に生じた固体をろ過により集め、該固体を有機溶媒で洗浄し、乾燥する等の操作を行うことにより、式(V-1)で示される化合物を単離することができる。単離された式(V-1)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
また式(V-1)で示される化合物は、ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒｓＮｏ．４，ｐｐ２４３−２４６，１９７６で示される方法によっても製造することができる。

工程(1-2)
式(VI-1)で示される化合物は、式(V-1)で示される化合物を、塩基の存在下に式(X)

〔式中、Ｒ¹¹は前記と同じ意味を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、メトキシスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等のスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。〕
で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばアセトン、エチルメチルケトン等のケトン類、クロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド類等の酸アミド類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリルなどのニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる式(X)で示される化合物としては、ヨウ化メチル、臭化メチル、硫酸ジメチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロピル、エトキシメチルクロライドが挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物が挙げられる。
反応に際して、式(VI-1)で示される化合物１モルに対して、式(X)で示される化合物が通常１〜５モルの割合で用いられ、塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、
・反応混合物を室温に冷却した後、ろ過し、ろ液を減圧下に濃縮し、生じた固体を有機溶媒で洗浄し、乾燥する；
・反応混合物に水を加えて、有機溶媒で抽出し、有機層を濃縮する
等の操作を行うことにより、式(VI-1)で示される化合物を単離する事が出来る。単離された式(VI-1)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

工程(1-3)
式(II-1)で示される化合物は、式(VI-1)で示される化合物を、塩基の存在下にマロン酸ジアルキルと反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド類等の酸アミド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるマロン酸ジアルキルとしては、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチルが挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物が挙げられる。
反応に際して、式(VI-1)で示される化合物１モルに対して、マロン酸ジアルキルが通常１〜５モルの割合で用いられ、塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−１０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を室温に冷却した後、希塩酸等の酸性水を加えて、水層側を酸性に調製し、有機溶媒で抽出し、該有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(II-1)で示される化合物を単離する事ができる。単離された式(II-1)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

また、式(II)で示される化合物のうち式(II-2)で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。

〔式中、Ｑ、Ｒ¹¹及びＲ⁴は前記と同じ意味を表し、Ｒ²²はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ³²はハロゲン原子を表し、Ｒ⁴はＣ１〜Ｃ１０アルキル基を表す。〕
工程(1'-1)
式(V-2)で示される化合物は、ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒｓＮｏ．４，ｐｐ２４３−２４６，１９７６で示される方法によって製造することができる。
工程(1'-2)及び工程(1'-3)は、工程(1-2)及び工程(1-3)と同様に行う。

（参考製造例２）
式(II)で示される化合物は、下記のスキームに従って製造することもできる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＱは前記と同じ意味を表す。〕

工程(2-1)
式(II)で示される化合物は、式(VII)で示される化合物を、式(VIII)で示される化合物と反応させることによって製造することができる。
該反応は、通常無溶媒で行われることができるが、溶媒の存在下に、反応に伴い生ずるアルコール化合物を共沸等によって除去しながら行ってもよい。反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロベンゼン、ブロモベンゼン、等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド類等の酸アミド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に際して、式(VII)で示される化合物１モルに対して、式(VIII)で示される化合物が通常１〜５０モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常１００〜２５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、
・反応混合物を室温に冷却した後、生じた固体をろ過により集め、該固体を有機溶媒で洗浄し、乾燥する；
・反応混合物を室温に冷却した後、該反応混合物に水を加えて、有機溶媒にて抽出し、有機層を濃縮する
等の操作を行うことにより、式(II)で示される化合物を単離する事が出来る。単離された式(II)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（参考製造例３）
式(XIII)で示される化合物のうち、式(XIII-1)で示される化合物は、例えばRussian Journal of Organic Chemistry (Translation of Zhurnal Organicheskoi Khimii), 40(9), 1329-1331, 2004に記載される方法又は該方法に準ずる方法より製造することができる。具体的には、式（XVII）で示される化合物より下記のスキームにより製造することができる。

〔式中、Ｒ¹³はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す。〕
（工程3-1）
式(XVIII)で示される化合物は、式(XVII)で示されるメルドラム酸と式(XIX)で示されるジケテンとを第３級アミン又はピリジン類の存在下に反応させた後、得られた生成物を更に式(XX)で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
これらの反応は、通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる第３級アミンとしてはトリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミンが挙げられ、ピリジン類としてはピリジン、４−ジメチルアミノピリジンが挙げられる。反応に用いられる用いられる(XX)で示される化合物は、具体的にはメチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン及びイソプロピルアミンである。反応に際して、式(XVII)で示される化合物１モルに対して、式(XIX)で示されるジケテンが通常１モルの割合、第３級アミン又はピリジン類が通常１モルの割合で用いられる。又、式(XVII)で示される化合物１モルに対して、式(XX)で示される化合物が通常１モルの割合で用いられる。
式(XVII)で示されるメルドラム酸と式(XIX)で示されるジケテンとを反応させる際の温度は通常０〜４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。得られた生成物を式(XX)で示される化合物と反応させる際の温度は通常０〜４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
これらの反応終了後、反応混合物に酸（例えば希塩酸、希硫酸等）を加え、生じた結晶をろ取し、乾燥する等の操作を行われることにより、式(XVIII)で示される化合物を単離することができる。単離した式（XVIII）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（工程3-2）
式(XIII-1)で示される化合物は、式(XVIII)で示される化合物を溶媒中、４０〜１２０℃に保持して反応させることにより製造することができる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒にて抽出し、有機層を濃縮する等の操作を行うことにより、式(XIII-1)で示される化合物を単離することができる。単離した式(XIII-1)で示される化合物は有機溶媒による洗浄、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

（参考製造例４）
式(XIII)で示される化合物のうち、式(XIII-2)で示される化合物は、式(XVIII)で示される化合物とハロゲン化剤とを−１０〜３０℃、溶媒中で反応させた後、得られた生成物を該溶媒中で４０〜１２０℃に保持して反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ³⁴はハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）を表す。〕
これらの反応に用いられる溶媒としては、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロベンゼン、ブロモベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤としては、例えばＮ，Ｎ’−ジフルオロ−２，２’−ビピリジニウムビス（テトラフルオロボレート）等のＮ−フルオロピリジニウム塩、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド等のＮ−ハロゲノイミドが挙げられる。
式(XVIII)で示される化合物１モルに対して、ハロゲン化剤が通常０．５〜２モルの割合で用いられる。
式(XVIII)で示される化合物とハロゲン化剤とを反応させる際の反応時間は通常０．１〜５時間の範囲であり、得られた生成物を４０〜１２０℃に加熱する際の反応時間は通常０．１〜２４時間である。
これらの反応終了後、反応混合物を水に注加し、有機溶媒にて抽出し、有機層を濃縮する等の操作を行われることにより、式(XIII-2)で示される化合物を単離することができる。単離した式(XIII-2)で示される化合物は有機溶媒による洗浄、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。

式(XV)で示される化合物は、式(XVI)

で示される化合物とジメチルイミダゾールとから製造することができる。
式(III)で示される化合物は、市販されているか、既知の方法（例えば、Indian Journal of Chemistry, Section B: Organic Chemistry Including Medicinal Chemistry (1998), 37B(1), 84p、Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters (2002), 12(16), 2221-2224p、特公昭52-009736号公報、Journal of Organic Chemistry (1994), 59(24), 7299-7305p、Phosphorus, Sulfur and Silicon and the Related Elements (2002), 177(11), 2651-2659p、Bioorganic & Medicinal Chemistry (2001), 9(12), 3231-3241、Chemische Berichte (1960), 93, 2190-2097p、「The Chemistry of Heterocyclic Compounds (John Wiley & Sons, Inc.)」等に記載の方法）を使用して合成することができる。
式(IV)で示される化合物、式(VII)で示される化合物、式(VIII)で示される化合物、式(X)で示される化合物及びマロン酸ジアルキルは、市販されているか既知の方法を使用して合成することができる。

本発明化合物により防除することができる植物病害としては例えば以下のような病害をあげることができる。
イネのいもち病（Pyricularia oryzae）、ごま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus）、紋枯病（Rhizoctonia solani）、
ムギ類のうどんこ病（Erysiphe graminis）、赤かび病（Gibberella zeae, Fsarium graminearum, F. culmorum, F. avenaceum, Microdochium nivale）、さび病（Puccinia striiformis, P. graminis, P. recondita, P. hordei）、雪腐病（Typhula sp.,Micronectriella nivalis）、裸黒穂病 (Ustilago tritici, U. nuda)、なまぐさ黒穂病 (Tilletia caries)、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、雲形病（Rhynchosporium secalis）、葉枯病（Septoria tritici）、ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）、立枯病（Gaeumanomyces graminis）、
カンキツ類の黒点病（Diaporthe citri）、そうか病（Elsinoe fawcetti）、果実腐敗病 (Penicillium digitatum, P. italicum) 、
リンゴのモニリア病 (Sclerotinia mali) 、腐らん病 (Valsa mali) 、うどんこ病（Podosphaera leucotricha)、斑点落葉病（Alternaria mali)、黒星病（Venturia inaequalis)、
ナシの黒星病（Venturia nashicola, V. pirina)、黒斑病（Alternaria kikuchiana)、赤星病（Gymnosporangium haraeanum)、
モモの灰星病（Sclerotinia cinerea)、黒星病（Cladosporium carpophilum) 、フォモプシス腐敗病（Phomopsis sp.)、
ブドウの黒とう病（Elsinoe ampelina) 、晩腐病（Glomerella cingulata) 、うどんこ病（Uncinula necator) 、さび病 (Phakopsora ampelopsidis)、ブラックロット病（Guignardia bidwellii) 、べと病（Plasmopara viticola)、
カキの炭そ病（Gloeosporium kaki)、落葉病 (Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae)、
ウリ類の炭そ病（Colletotrichum lagenarium)、うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea) 、つる枯病 (Mycosphaerella melonis) 、つる割病 (Fusarium oxysporum) 、べと病 (Pseudoperonospora cubensis) 、疫病（Phytophthora sp.) 、苗立枯病 (Pythium sp.)、
トマトの輪紋病（Alternaria solani)、葉かび病 (Cladosporium fulvum)、疫病（Phytophthora infestans) 、
ナスの褐紋病（Phomopsis vexans) 、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum) 、アブラナ科野菜の黒斑病（Alternaria japonica)、白斑病（Cercosporella brassicae）、
ネギのさび病（Puccinia allii）、ダイズの紫斑病（Cercospora kikuchii）、黒とう病（Elsinoe glycines）、黒点病 (Diaporthe phaseolorum var. sojae) 、さび病（Phakospora pachyrhizii）、インゲンの炭そ病（Colletotrichum lindemthianum）、ラッカセイの黒渋病（Cercospora personata）、褐斑病（Cercospora arachidicola）、エンドウのうどんこ病（Erysiphe pisi）、ジャガイモの夏疫病（Alternaria solani）、疫病（Phytophthora infestans）、イチゴのうどんこ病（Sphaerotheca humuli）、チャの網もち病（Exobasidium reticulatum）、白星病（Elsinoe leucospila）、タバコの赤星病（Alternaria longipes）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、炭そ病（Colletotrichum tabacum）、べと病（Peronospora tabacina）、疫病（Phytophthora nicotianae）、テンサイの褐斑病（Cercospora beticola）、バラの黒星病（Diplocarpon rosae）、うどんこ病（Sphaerotheca pannosa）、キクの褐班病 (Septoria chrysanthemi−indici) 、白さび病（Puccinia horiana）、種々の作物の灰色かび病（Botrytis cinerea）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、シバのダラースポット病（Sclerotinia homeocarpa）、ブラウンパッチ病及びラージパッチ病（Rhizoctonia solani）。

本発明の植物病害防除剤は、本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、エマルション製剤、フロアブル製剤、粉剤、粒剤等に製剤して用いる。これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量比で通常、0.1〜90%含有する。

製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げられ、液体担体としては、例えば、キシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル及び水が挙げられる。
界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢHＴ等の安定化剤が挙げられる。

本発明の植物病害防除剤は、例えば、植物体に茎葉処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ²あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常を水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。種子消毒の方法としては、例えば、本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に粉剤に製剤化された本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。

本発明の植物病害の防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物又はその植物が生育する土壌に処理する、及び／又は病害の発生が確認された植物又はその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。
本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。

本発明の植物病害防除剤は他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／又は肥料と共に用いる（混用又は併用）こともできる。
かかる他の殺菌剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン、フルオキソストロビン、メトミノストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンゾイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ピコベンザミド、マンジプロパミド、ゾキサミド、エタボキサム、ボスカリド、ピリベンカリブ、フルオピコリド、フェンヘキサミド、キノキシフェン、プロキナジット、ジエトフェンカルブ及びアシベンズラールＳメチル、グアザチン、ペンチオピラド等が挙げられる。

本発明化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
下記の式（i）〜（xxviii）で示されるカルボキサミド化合物

なお式(i)〜(xxviii)において、Ｑは下記に示される基のいずれかである。
２−イミダゾリル基、４−メチル−２−イミダゾリル基、４，５−ジメチル−２−イミダゾリル基、４−クロロ−２−イミダゾリル基、４−ブロモ−２−イミダゾリル基、４，５−ジシアノ−２−イミダゾリル基、４−フルオロ−２−イミダゾリル基、４−シアノ−２−イミダゾリル基、
２−ベンゾイミダゾリル基、４−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−シアノ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−シアノ−２−ベンゾイミダゾリル基、４−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、４−トリフルオロメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジフルオロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５，６−ジクロロ−２−ベンゾイミダゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾイミダゾリル基、５−シアノ−２−ベンゾイミダゾリル基、
２−チアゾリル基、４−メチル−２−チアゾリル基、４，５−ジメチル−２−チアゾリル基、４−クロロ−２−チアゾリル基、４−ブロモ−２−チアゾリル基、４，５−ジシアノ−２−チアゾリル基、４−フルオロ−２−チアゾリル基、４−シアノ−２−チアゾリル基、４−メチル−２−チアゾリル基、４−エチル−２−チアゾリル基、５−メチル−２−チアゾリル基、５−クロル−２−チアゾリル基、
２−ベンゾチアゾリル基、４−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、６−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、７−フルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、４−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、６−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、７−クロロ−２−ベンゾチアゾリル基、４−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、５−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、６−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、７−メチル−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジメチル−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジフルオロ−２−ベンゾチアゾリル基、５，６−ジクロロ−２−ベンゾチアゾリル基、５−トリフルオロメチル−２−ベンゾチアゾリル基、５−シアノ−２−ベンゾチアゾリル基、
３−ピラゾリル基、１−メチル−３−ピラゾリル基、１，５−ジメチル−３−ピラゾリル基、４−クロロ−１−メチル−３−ピラゾリル基、１−エチル−３−ピラゾリル基、１−（２，２，２−トリフルオロエチル−３−ピラゾリル基、
３−イソキサゾリル基、５−メチル−３−イソキサゾリル基、
１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−メチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−エチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、３−シアノ−１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、
１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−エチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−トリフルオロメチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、５−シアノ−１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、
１，２，４−トリアゾール−３−イル基、５−メチル−１，２，４−トリアゾール−３−イル基。

本発明化合物の中間体の態様としては、例えば以下の化合物が挙げられる。

式(II)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ２〜Ｃ５アルコキシアルキル基であり、Ｒ²が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である化合物。
式(II)において、Ｒ¹とＲ²とが互いに末端で結合したＣ３〜Ｃ４アルキレン基であり、Ｒ³が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である化合物。
式(II)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である化合物。
式(II)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³がハロゲン原子である化合物。
式(II)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³がフッ素原子である化合物。
式(II)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³がフッ素原子である化合物。
式(II)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³がフッ素原子である化合物。
式(XIII)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ２〜Ｃ５アルコキシアルキル基であり、Ｒ²が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である化合物。
式(XIII)において、Ｒ¹とＲ²とが互いに末端で結合したＣ３〜Ｃ４アルキレン基であり、Ｒ³が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である化合物。
式(XIII)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である化合物。
式(XIII)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³がハロゲン原子である化合物。
式(XIII)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³がフッ素原子である化合物。
式(XIII)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³がフッ素原子である化合物。
式(XIII)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³がハロゲン原子である化合物。
式(XIII)において、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²がメチル基であり、Ｒ³がフッ素原子である化合物。

以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例及び本発明化合物の製造中間体の製造例を、製造例及び参考製造例にて示す。

製造例１
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチル１１０ｍｇ及び２−アミノベンゾイミダゾール８３．９ｍｇをブロモベンゼン１５ｍｌに加えた後、混合物を加熱還流条件下に４時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、ｎ−へキサンを３０ｍｌ加えた。生じた固体をろ過により集め、ｎ−へキサンで洗浄、乾燥して、式

で示されるＮ−（２−ベンゾイミダゾリル）−４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１と記す。）１１５ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（３Ｈ，ｓ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．１２（２Ｈ，ｍ），７．５０（２Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１２．２２（１Ｈ，ｓ），１３．３１（１Ｈ，ｓ）

製造例２
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて、１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（２−ベンゾイミダゾリル）−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４５（３Ｈ，ｓ），３．５０（３Ｈ，ｓ），６．２６（１Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｍ），７．４８（２Ｈ，ｍ），１２．１９（１Ｈ，ｓ），１３．３２（１Ｈ，ｓ），１４．２８（１Ｈ，ｓ）

製造例３
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用い、２−アミノベンゾイミダゾールに代えて５−アミノ−３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾールを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル）−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物３と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４４（３Ｈ，ｓ），３．５８（３Ｈ，ｓ），６．０６（１Ｈ，ｓ），１３．３４（１Ｈ，ｓ），１４．０７（１Ｈ，ｓ）

製造例４
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用い、２−アミノベンゾイミダゾールに代えて２−アミノ−５−フルオロベンゾイミダゾールを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（５−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル）−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物４と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４５（３Ｈ，ｓ），３．４９（３Ｈ，ｓ），６．２６（１Ｈ，ｓ），６．９７（１Ｈ，ｍ），７．２６（１Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｍ），１２．２８（１Ｈ，ｓ），１３．３７（１Ｈ，ｓ），１４．２０（１Ｈ，ｓ）

製造例５
２−アミノベンゾイミダゾールに代えて２−アミノ−５−フルオロベンゾイミダゾールを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（５−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル）−４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物５と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．５２（３Ｈ，ｓ），６．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．９８（１Ｈ，ｍ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１２．３１（１Ｈ，ｓ），１３．３７（１Ｈ，ｓ），１４．３２（１Ｈ，ｓ）

製造例６
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用い、２−アミノベンゾイミダゾールに代えて２−アミノ−５−クロロベンゾイミダゾールを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（５−クロロ−２−ベンゾイミダゾリル）−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物６と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４５（３Ｈ，ｓ），３．４９（３Ｈ，ｓ），６．２６（１Ｈ，ｓ），７．１４（１Ｈ，ｍ），７．４３〜７．５２（２Ｈ，ｍ），１２．３３（１Ｈ，ｓ），１３．４０（１Ｈ，ｓ），１４．１６（１Ｈ，ｓ）

製造例７
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて１−エトキシメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（５−フルオロ−２−ベンゾイミダゾリル）−１−エトキシメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物７と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．３５（２Ｈ，ｓ），６．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．１３（２Ｈ，ｍ），７．４７（２Ｈ，ｍ）８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１２．２０（１Ｈ，ｍ），１３．１７（１Ｈ，ｍ）

製造例８
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて、式

で示されるカルボン酸エステル化合物を用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるカルボン酸アミド化合物（以下、本発明化合物８と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．１５（２Ｈ，ｍ）３．１４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），４．０７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．２６（１Ｈ，ｓ），７．１４（２Ｈ，ｍ），７．４８（２Ｈ，ｍ），１２．２０（１Ｈ，ｂｓ），１３．２２（１Ｈ，ｓ）

製造例９
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて１−エチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（２−ベンゾイミダゾリル）−１−エチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物９と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．２７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．００（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．１４（２Ｈ，ｍ），７．４９（２Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），１３．３５（１Ｈ，ｓ）

製造例１０
２−アミノベンゾイミダゾールに代えて２−アミノ−４，５−ジシアノイミダゾールを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（４，５−ジシアノ−２−イミダゾリル）−４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１０と記す。）を得た。

製造例１１
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用い、２−アミノベンゾイミダゾールに代えて３−アミノピラゾールを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（３−ピラゾリル）−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１１と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５１（３Ｈ，ｓ），３．５２（３Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｓ），６．５９（１Ｈ，ｓ），７．６９（１Ｈ，ｓ），１２．５８（１Ｈ，ｓ），１２．６３（１Ｈ，ｓ）

製造例１２
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用い、２−アミノベンゾイミダゾールに代えて２−アミノ−５−メチル−１，３，４−チアジアゾールを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１２と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４１（３Ｈ，ｓ），２．７２（３Ｈ，ｓ），３．５４（３Ｈ，ｓ），６．０１（１Ｈ，ｓ），１３．６６（１Ｈ，ｓ），１３．８０（１Ｈ，ｓ）

製造例１３
４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルに代えて１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用い、２−アミノベンゾイミダゾールに代えて２−アミノチアゾールを用いて、製造例１と同様の方法で、式

で示されるＮ−（２−チアゾリル）−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１３と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３９（３Ｈ，ｓ），３．５３（３Ｈ，ｓ），５．９９（１Ｈ，ｓ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），１３．４９（１Ｈ，ｓ），１４．０９（１Ｈ，ｓ）

製造例１４
５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル１９７ｍｇ及び２−アミノ−１,３,４−チアジアゾール７６ｍｇをブロモベンゼン２ｍｌに加えた後、混合物を加熱還流条件下に５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、ｎ−ヘキサンを加えた。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとｎ−ヘキサンの混合物で洗浄、乾燥して、式

で示されるＮ−（１,３,４−チアジアゾール−２−イル）−５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１４と記す。）を１８３ｍｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．６４（３Ｈ，ｓ），３．６５（３Ｈ，ｓ），８．９０（１Ｈ，ｓ），１３．８５（１Ｈ，ｓ），１４．６３（１Ｈ，ｓ）

製造例１５
５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルに代えて、５−フルオロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを用い、２−アミノ−１,３,４−チアジアゾールに代えて２−アミノ−５−メチルチアゾールを用いて、製造例１２と同様の方法で、式

で示されるＮ−（５−メチル−２−チアゾリル）−５−フルオロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１５と記す。）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４２（３Ｈ，ｓ），２．４３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），３．５４（３Ｈ，ｓ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ），１３．３２（１Ｈ，ｓ），１４．６９（１Ｈ，ｓ）

製造例１６
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１３ｍｇおよび２−アミノ−１，３，４−チアジアゾール９４ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に６．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−Ｎ−（１，３，４−チアジアゾール−２−イル）−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１６と記す。）１８５ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４１（３Ｈ，ｓ），３．５４（３Ｈ，ｓ），６．０１（１Ｈ，ｓ），８．８８（１Ｈ，ｓ），１３．６７（１Ｈ，ｓ），１３．８４（１Ｈ，ｓ）

製造例１７
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１２ｍｇおよび２−アミノ−５−エチル−１，３，４−チアジアゾール１１７ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示されるＮ−（５−エチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１７と記す。）２００ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．４３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），２．４１（３Ｈ，ｓ），３．０８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ），３．５３（３Ｈ，ｓ），６．００（１Ｈ，ｓ），１３．６５（１Ｈ，ｓ），１３．８１（１Ｈ，ｓ）

製造例１８
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２４３ｍｇおよび２−アミノ−３−メチル−１，２，４−チアジアゾール１２２ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−（３−メチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル）−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサアミド（以下、本発明化合物１８と記す。）２５７ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４２（３Ｈ，ｓ），２．５８（３Ｈ，ｓ），３．５４（３Ｈ，ｓ），６．０４（１Ｈ，ｓ），１３．５３（１Ｈ，ｓ），１３．６１（１Ｈ，ｓ）

製造例１９
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１３ｍｇおよび５−アミノ−３−エチル−１，２，４−チアジアゾール１２０ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に４時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−Ｎ−（３−エチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル）−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物１９と記す。）２３１ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．４２（３Ｈ，ｓ），２．９１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．５４（３Ｈ，ｓ），６．０３（１Ｈ，ｓ），１３．５５（１Ｈ，ｓ），１３．５９（１Ｈ，ｓ）

製造例２０
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１２ｍｇおよび２−アミノ−５−メチルチアゾール１０５ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に５．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−（５−メチルチアゾール−２−イル）−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２０と記す。）１８８ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３９（３Ｈ，ｓ），２．４２（３Ｈ，ｓ），３．５２（３Ｈ，ｓ），５．９９（１Ｈ，ｓ），７．１６（１Ｈ，ｓ），１３．３３（１Ｈ，ｓ），１４．１７（１Ｈ，ｓ）

製造例２１
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１０ｍｇおよび２−アミノ−４−エチルチアゾール１１７ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に５．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−Ｎ−（４−エチルチアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２１と記す。）１５０ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．３９（３Ｈ，ｓ），２．７２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．５２（３Ｈ，ｓ），５．９９（１Ｈ，ｓ），６．５７（１Ｈ，ｓ），１３．４１（１Ｈ，ｓ），１４．１４（１Ｈ，ｓ）

製造例２２
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２２３ｍｇおよび２−アミノ−５−クロロチアゾール１２９ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に８．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示されるＮ−（５−クロロチアゾール−２−イル）−１，３−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２２と記す。）１５３ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４１（３Ｈ，ｓ），３．５３（３Ｈ，ｓ），６．０１（１Ｈ，ｓ），７．３３（１Ｈ，ｓ），１３．４４（１Ｈ，ｓ），１３．８４（１Ｈ，ｓ）

製造例２３
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１３ｍｇおよび２−アミノ−１，３，４−トリアゾール７８ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に７．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−Ｎ−（１，２，４−トリアゾール−３−イル）−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２３と記す。）１８８ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４２（３Ｈ，ｓ），３．５３（３Ｈ，ｓ），６．０２（１Ｈ，ｓ），７．７９（１Ｈ，ｓ），１３．２９（１Ｈ，ｓ），１３．８６（１Ｈ，ｓ）

製造例２４
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１１ｍｇおよび２−アミノ−５−メチル−１，３，４−トリアゾール９０ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に７時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−（５−メチル−１，２，４−トリアジン−３−イル）−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２４と記す。）２１４ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３８（３Ｈ，ｓ），２．４０（３Ｈ，ｓ），３．５２（３Ｈ，ｓ），６．００（１Ｈ，ｓ），７．７９（１Ｈ，ｓ），１３．１９（１Ｈ，ｓ），１３．９４（１Ｈ，ｓ）

製造例２５
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１３ｍｇおよび３−アミノ−１−メチルピラゾール７９ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に６．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−（１−メチル−３−ピラゾリル）−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２５と記す。）１３４ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３７（３Ｈ，ｓ），３．５０（３Ｈ，ｓ），３．８４（３Ｈ，ｓ），５．９５（１Ｈ，ｓ），６．５９（１Ｈ，ｓ），６．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），１２．４８（１Ｈ，ｓ），１５．２５（１Ｈ，ｓ）

製造例２６
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル５２７ｍｇおよび２−アミノイミダゾール２６０ｍｇをブロモベンゼン５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に２時間攪拌した。さらに該混合物に１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル１５１ｍｇを加え、加熱還流条件下に２．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−（２−イミダゾリル）−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２６と記す。）５８０ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３９（３Ｈ，ｓ），３．５２（３Ｈ，ｓ），５．９８（１Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ），１０．６０（１Ｈ，ｓ），１３．０６（１Ｈ，ｓ），１４．２９（１Ｈ，ｓ），

製造例２７
１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル２１３ｍｇおよび３−アミノ−５−メチルイソキサゾール７９ｍｇをブロモベンゼン２．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に６．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンの混合溶媒で洗浄、乾燥して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−（５−メチル−３−イソキサゾリル）−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２７と記す。）１４１ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４２（３Ｈ，ｓ），２．４２（３Ｈ，ｓ），３．５１（３Ｈ，ｓ），５．９８（１Ｈ，ｓ），６．６６（１Ｈ，ｓ），１２．７２（１Ｈ，ｓ），１４．６５（１Ｈ，ｓ）

製造例２８
５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル１９９ｍｇおよび２−アミノ−ベンズイミダゾール９８ｍｇをブロモベンゼン２ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に９．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、ヘキサンを加え、静置した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとｎ−ヘキサンの混合物で洗浄、乾燥して式

で示されるＮ−（２−ベンズイミダゾリル）−５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２８と記す。）を２０２ｍｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．６２（３Ｈ，ｓ），３．６３（３Ｈ，ｓ），７．１８−７．７２（５Ｈ，ｍ），１０．７６（１Ｈ，ｓ），１３．４１（１Ｈ，ｓ）

製造例２９
５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル１６１ｍｇおよび２−アミノ−１，３，４−トリアゾール５１ｍｇをブロモベンゼン１．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、ヘキサンを加え、静置した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとｎ−ヘキサンの混合物で洗浄、乾燥して式

で示される５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−Ｎ−（１，２，４−トリアゾール−３−イル）−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物２９と記す。）を１５３ｍｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．６４（３Ｈ，ｓ），３．６３（３Ｈ，ｓ），７．８１（１Ｈ，ｓ），１３．３０（１Ｈ，ｓ），１４．８０（１Ｈ，ｓ）

製造例３０
５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル１６０ｍｇおよび２−アミノチアゾール６０ｍｇをブロモベンゼン１．５ｍｌに加えた後、該混合物を加熱還流条件下に５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、ヘキサンを加え、静置した。生じた固体をろ過により集め、ｔ−ブチルメチルエーテルとｎ−ヘキサンの混合物で洗浄、乾燥して式

で示される５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−Ｎ−（２−チアゾリル）−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物３０と記す。）を１３６ｍｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．６２（３Ｈ，ｓ），３．６２（３Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３ｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），１３．４８（１Ｈ，ｓ），１５．０７（１Ｈ，ｓ）

製造例３１
５−フルオロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸２００ｍｇを３ｍｌのアセトニトリルに溶解し、カルボニルジイミダゾール１６２ｍｇを加えた。該混合物を加熱還流条件下で１時間攪拌後、２−アミノ−４−メチルチアゾール１１４ｍｇを加え、さらに加熱還流条件下で１時間攪拌した。その後、反応混合物を、室温まで冷却した。その結果、結晶が生成した。生成した結晶をろ過により集め、式

で示される５−フルオロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−Ｎ−（４−メチル−２−チアゾリル）−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボキサミド（以下、本発明化合物３１と記す。）９０ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．２９（３Ｈ，ｓ），２．４３（３Ｈ，ｓ），３．５０（３Ｈ，ｓ），６．９７（１Ｈ，ｓ），１３．７５（１Ｈ，ｓ），１４．３７（１Ｈ，ｓ）

参考製造例１
室温にて、無水マレイン酸５．０ｇをベンゼン２０ｍｌに加えた後、トリメチルシリルアジド７．９ｍｌを加えた。混合物を５０〜６０℃にて３時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却した後、エタノール４．５ｍｌを加えて、さらに３時間撹拌した。生じた固体をろ過により集め、ジエチルエーテルで洗浄して、式

で示される２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン３００ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：５．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１１．５５（１Ｈ，ｓ）

参考製造例２
室温にて、無水シトラコン酸４４．８ｇをクロロホルム６０ｍｌに加えた後、トリメチルシリルアジド５０．０ｇを加えた。混合物を５０〜６０℃にて５時間撹拌した。反応混合物を氷冷した後、エタノール２５．０ｇを加えて、さらに３０分間撹拌した。生じた固体をろ過により集め、クロロホルムとエタノールの混合溶媒で洗浄して、式

で示される粗４−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。また、洗浄液を減圧下に濃縮した。残渣にｔ−ブチルメチルエーテル加えてろ過し、ろ上物をｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄した。ろ液と洗浄液をあわせ、減圧下に濃縮することにより、式

で示される粗５−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。
４−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．０６（３Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｓ），１１．４７（１Ｈ，ｓ−ｂｒ）
５−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．７８（３Ｈ，ｓ），７．４８（１Ｈ，ｓ），１１．４７（１Ｈ，ｓ−ｂｒ）

参考製造例３
室温にて、２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン１．５０ｇ、炭酸カリウム２．１９ｇ及びヨウ化メチル３．７７ｇを順次アセトン３０ｍｌに加えた後、混合物を加熱還流条件下に１０時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた固体を乾燥して、式

で示される３−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン１．４６ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．２６（３Ｈ，ｓ），５．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）

参考製造例４
２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて粗４−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用いて、参考製造例３と同様の方法で、式

で示される粗３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．２７（３Ｈ，ｄ），３．４１（３Ｈ，ｓ），５．４９（１Ｈ，ｄ）

参考製造例５
ヨウ化メチルに代えて臭化エチルを用いて、参考製造例３と同様の方法で、式

で示される３−エチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。

参考製造例６
ヨウ化メチルに代えてクロロメチルエチルエーテルを用いて、参考製造例３と同様の方法で、式

で示される３−エトキシメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。

参考製造例７
２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて粗５−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用いて、参考製造例３と同様の方法で、式

で示される粗３，５−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．９４（３Ｈ，ｄ），３．３７（３Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｑ−ｌｉｋｅ）

参考製造例８
２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて、既知の方法により製造した式

で示される４，５−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用いて、参考製造例３と同様の方法で、式

で示される３，４，５−トリメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．９７（３Ｈ，ｓ），２．２６（３Ｈ，ｓ），３．４２（３Ｈ，ｓ）

参考製造例９
氷冷下にて、マロン酸ジメチル１８１ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０ｍｌに加えた後、水素化ナトリウム（６０％）５６８ｍｇを加えて２０分間攪拌した。混合物を８０℃に加温した後、３−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン１．５０ｇを加え、１２０℃で７時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、２規定塩酸水溶液を加え、６０℃で１５分間攪拌した。混合物より酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル）に付し、式

で示される４−ヒドロキシ−１−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチル１００ｍｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．４４（３Ｈ，ｓ），３．９７（３Ｈ，ｓ），５．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１３．２１（１Ｈ，ｓ）

参考製造例１０
室温にて、水素化ナトリウム０．１９ｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに加えた後、マロン酸ジエチル０．７１ｇのテトラヒドロフラン１ｍｌ溶液を加えて、２０分間攪拌した。室温にて、３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン０．５９ｇのテトラヒドロフラン３ｍｌ溶液を加え、還流条件下にて２時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮して、水１０ｍｌを加え、更に２規定塩酸水１２ｍｌを加えた。混合物より酢酸エチルにて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過、濃縮して、式

で示される１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル０．５７ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．４４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．３４（３Ｈ，ｓ），３．４５（３Ｈ，ｓ），４．４３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．８６（１Ｈ，ｓ），１３．２６（１Ｈ，ｓ）

参考製造例１１
３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて３−エチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用い、マロン酸ジエチルに代えてマロン酸ジメチルを用いて、参考製造例１０と同様の方法で、式

で示される１−エチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９８（３Ｈ，ｓ），５．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１３．２５（１Ｈ，ｓ）

参考製造例１２
３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて３−エトキシメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用いて、参考製造例１０と同様の方法で、式

で示される１−エトキシメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．４４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．４５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．３０（２Ｈ，ｓ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１３．５５（１Ｈ，ｓ）

参考製造例１３
３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて３，５−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用いて、参考製造例１０と同様の方法で、式

で示される、１，５−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを得た。

参考製造例１４
３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて３，４，５−トリメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用い、マロン酸ジエチルに代えてマロン酸ジメチルを用いて、参考製造例１０と同様の方法で、式

で示される、４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，５，６−トリメチル−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸メチルを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．０５（３Ｈ，ｓ），２．３６（３Ｈ，ｓ），３．５１（３Ｈ，ｓ），３．９６（３Ｈ，ｓ），１３．８３（１Ｈ，ｓ）

参考製造例１５
２−メチル−１−ピロリン１０．１ｍｌとメタントリカルボン酸＝トリエチル２．２７ｍｌとの混合物を２００℃にて、２０時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−に付し、式

で示されるカルボン酸エステル４００ｍｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．４３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．１４（２Ｈ，ｍ），３．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．４１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．９０（１Ｈ，ｓ），１３．３５（１Ｈ，ｓ）

参考製造例１６
オキシ塩化リン８３．９ｇに２−クロロアセト酢酸エチル１６．５ｇ及びカルバミン酸エチル８．９１ｇを順次加えた後、９０℃で加熱下５時間攪拌した。反応液を減圧下に濃縮した後、トルエンと水を加えた。有機層を水で４回抽出した。水相を全て集め、この水相を酢酸エチルで４回抽出した。有機層を全て集めて、この有機層を水で洗浄、硫酸マグネシウム乾燥、ろ過し、濃縮した。得られた固体をｔ−ブチルメチルエーテルとｎ−ヘキサンの混合物で洗浄し、乾燥して、式

で示される５−クロロ−４−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３４（３Ｈ，ｓ）

参考製造例１７
室温にて、５−クロロ−４−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン２．１１ｇ、炭酸カリウム２．０７ｇ及びヨウ化メチル１．３ｍｌを順次アセトン４０ｍｌに加えた後、混合物を加熱還流条件下に３時間攪拌した。反応混合物に更にヨウ化メチル０．５ｍｌを加え、加熱還流条件下に２時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、ろ過した。ろ液を減圧条件下に濃縮し、得られた固体を乾燥して、式

で示される５−クロロ−３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを１．７４ｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４８（３Ｈ，ｓ），３．４８（３Ｈ，ｓ）

参考製造例１８
水素化ナトリウム（６０％）０．４３ｇにテトラヒドロフラン３５ｍｌを加え、更に氷冷下にてマロン酸ジエチル１．７６ｇのテトラヒドロフラン２．５ｍｌ溶液を加え、室温で１時間攪拌した。混合物に５−クロロ−３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオン１．７４ｇを加え、加熱還流条件下で３．５時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、濃縮物に水２０ｍｌ及び１規定塩酸水溶液１５ｍｌを順次加え、クロロホルム８５ｍLで２回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、濃縮した。残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、式

で示される５−クロロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチル１．５２ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．５７（３Ｈ，ｓ），３．５４（３Ｈ，ｓ），４．４６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），１４．１０（１Ｈ，ｓ）

参考製造例１９
２−クロロアセト酢酸エチルに代えて２−フルオロアセト酢酸エチルを用いて、参考製造例１６と同様の方法で、式

で示される５−フルオロ−４−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。

参考製造例２０
５−クロロ−４−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて５−フルオロ−４−メチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用いて、参考製造例１７と同様の方法で、式

で示される５−フルオロ−３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを得た。

参考製造例２１
５−クロロ−３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンに代えて５−フルオロ−３，４−ジメチル−２Ｈ−１，３−オキサジン−２，６（３Ｈ）−ジオンを用いて、参考製造例１８と同様の方法で、式で

で示される５−フルオロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸エチルを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．４５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．３８（３Ｈ，ｓ），３．４６（３Ｈ，ｓ），４．４６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），１３．６７（１Ｈ，ｓ），１３．６４（１Ｈ，ｓ）

参考製造例２２
メルドラム酸１４．４ｇ、ジケテン６．８ｇをアセトニトリル１５０ｍｌに溶解し、ここにトリエチルアミン１．０１ｇを室温下で加えた。該混合物を室温で１時間攪拌した。次いで４０％メチルアミンメタノール溶液１５．５ｇを該混合物に加え、室温で１時間攪拌した。その後、反応混合物を氷冷し、濃塩酸３０ｍｌを加えた。生じた結晶をろ過により集め、乾燥して、式

で示される２，２−ジメチル−５−（１−ヒドロキシ−３−メチルアミノ−２−ブテニリデン）−１，３−ジオキサン−４，６−ジオンを１７．６ｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．７０（６Ｈ，ｓ），２．１６（３Ｈ，ｓ），３．０９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｓ），８．８２（１Ｈ，ｂｒ）

参考製造例２３
２，２−ジメチル−５−（１−ヒドロキシ−３−メチルアミノ−２−ブテニリデン）−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン１．０ｇをアセトニトリル２０ｍｌに懸濁し、ここに８０６ｍｇのＮ，Ｎ’−ジフルオロ−２，２’−ビピリジニウムビス（テトラフルオロボレート）を加え、室温で１時間、５０℃で３０分間攪拌した。反応混合物を氷水１００ｍｌに注加し、クロロホルム１００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し（溶離液：酢酸エチル）、下式

で示される５−フルオロ−１，６−ジメチル−４−ヒドロキシ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジン−３−カルボン酸を４８０ｍｇ得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４７（３Ｈ，ｓ），３．５８（３Ｈ，ｓ），１３．８９（１Ｈ，ｂｒ），１５．４６（１Ｈ，ｂｒ）

次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物１〜３１の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
製剤例２
本発明化合物１〜３１の各々２０部とソルビタントリオレエート１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコール１０部を加えて攪拌混合し各々のフロアブル製剤を得る。
製剤例３
本発明化合物１〜３１の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。
製剤例４
本発明化合物１〜３１の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。
製剤例５
本発明化合物１〜３１の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。
製剤例６
本発明化合物１〜３１の各々１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより各々のフロアブル製剤を得る。

次に、本発明化合物が植物病害防除剤の有効成分として有用であることを試験例で示す。なお、本発明化合物は化合物番号で示す。
本発明化合物の防除効果は、調査時における供試植物上の病斑の面積を目視観察し、有効成分を処理していない植物の病斑の面積と本発明化合物を処理した植物の病斑の面積を比較することにより評価した。

試験例１：キュウリ灰色かび病防除効果試験
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（相模半白）を播種し、温室内で１０日間生育させた。製剤例６に準じて得られた、本発明化合物１〜９及び１２〜１５のフロアブル製剤の各々を、水で所定濃度(500ppm)に希釈し、散布液を調製した。各々の散布液を、上記キュウリ葉面に充分付着するように、茎葉散布した。散布後、葉面上の散布液が乾く程度に該キュウリを風乾した後、キュウリ灰色かび病菌の胞子含有PDA培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後、該キュウリを１２℃、多湿下に５日間置いた後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物１〜９、１２〜１７、２０、２３〜２５、２７及び３１を処理した植物における病斑の面積は、無処理の植物における病斑の面積の１０％以下であった。

試験例２：コムギ赤かび病防除効果試験（予防効果）
プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ（シロガネコムギ）を播種し、温室内で８日間生育させた。製剤例６に準じて得られた、本発明化合物１２，１３及び１５のフロアブル製剤を、水で所定濃度（５００ｐｐｍ）に希釈し、散布液を調製した。散布液を上記コムギ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の散布液が乾く程度に該コムギを風乾した後、コムギ赤かび病の胞子懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約２００００００個の胞子を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、多湿下に４日間置いた後、２３℃の温室内で３日間置いた。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物１２，１３及び１５を処理した植物における病斑の面積は、無処理の植物における病斑の面積の１０％以下であった。

本発明化合物を用いることにより、植物病害を防除することができる。

Claims

式(I)

[式中、Ｑはベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基を表し、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよく、
Ｒ¹はＣ１〜Ｃ３アルキル基又はＣ２〜Ｃ５アルコキシアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表すか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になってＣ３〜Ｃ４アルキレン基を表すこともできる。
Ｒ³は水素原子、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す。］
で示されるカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱがベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよく、該複素環基は５員環の環構成原子である窒素原子に隣接する炭素原子の位置で式(I)におけるＮＨと結合している請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱがベンゼン環と縮合していてもよい含窒素５員の複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよく、該複素環基は１つの窒素原子と、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子とを環構成原子として有している請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱが他の環と縮合していない含窒素５員の複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱがベンゼン環と縮合している含窒素５員の複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱがチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾリル基及び１，３，４−チアジアゾリル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱが２−チアゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−イミダゾリル基、２−ベンゾイミダゾリル基、３−ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基及び１，３，４−チアジアゾール−２−イル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱが２−チアゾリル基、２−イミダゾリル基、３−ピラゾリル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基及び１，３，４−チアジアゾール−２−イル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱが２−ベンゾチアゾリル基及び２−ベンゾイミダゾリル基からなる群より選ばれる複素環基であり、該複素環基はハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＱがハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基及びＣ１〜Ｃ３ハロアルキル基からなる群より選ばれる基で置換されていてもよい２−ベンゾイミダゾリル基である請求項１に記載されたカルボキサミド化合物。
式(I)におけるＲ³が水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基である請求項１〜１０のいずれかに記載されたカルボキサミド化合物。
請求項１〜１１のいずれかに記載されたカルボキサミド化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。
請求項１〜１１のいずれかに記載されたカルボキサミド化合物を植物又は植物の生育する土壌に施用することを特徴とする植物病害の防除方法。