JP2007158324A - 有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物、有機発光ダイオード基板及びそのパターン形成方法 - Google Patents
有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物、有機発光ダイオード基板及びそのパターン形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007158324A JP2007158324A JP2006313980A JP2006313980A JP2007158324A JP 2007158324 A JP2007158324 A JP 2007158324A JP 2006313980 A JP2006313980 A JP 2006313980A JP 2006313980 A JP2006313980 A JP 2006313980A JP 2007158324 A JP2007158324 A JP 2007158324A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- photosensitive resin
- ether
- organic light
- photoacid generator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明によるOLED用感光性樹脂組成物は、a)ノボラック樹脂;b)1,2−キノンジアジド化合物;c)光酸発生剤;d)メラミン系架橋剤;およびe)溶媒を含むことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
従来のOLED製造工程に使用される絶縁体はPAC、バインダー、溶媒などの成分からなり、前記バインダーとしてはアクリル系やイミド系が主に使用され、またセパレータとしてはPAG、ノボラック樹脂、架橋剤、溶媒などの成分からなるネガティブフォトレジストを使用してきた。しかし、従来の絶縁体とセパレータとの形成時、2段階工程の進行による長い工程時間が問題になり、絶縁体上にセパレータ・アライン時、アライメントマージンの確保によって開口率の減少を招くという問題点があった。
したがって、OLED製造工程に適用される絶縁体とセパレータとの形成工程での工程時間短縮および優れた開口率確保のための研究がさらに必要なのが実情である。
a)ノボラック樹脂;
b)1,2−キノンジアジド化合物;
c)光酸発生剤;
d)メラミン系架橋剤;および
e)溶媒
を含むことを特徴とするOLED用感光性樹脂組成物を提供する。
a)ノボラック樹脂100重量部に対して
b)1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部;
c)光酸発生剤1〜20重量部;
d)メラミン系架橋剤1〜30重量部;および
e)溶媒を感光性樹脂組成物内の固形分含量が10〜50重量%になるように含む。
また、本発明は、前記感光性樹脂組成物の硬化体を含むOLED基板を提供する。
また、本発明は、前記感光性樹脂組成物を用いたOLED基板のパターン形成方法を提供する。
本発明のOLED用感光性樹脂組成物は、a)ノボラック樹脂;b)1,2−キノンジアジド化合物;c)光酸発生剤;d)メラミン系架橋剤;およびe)溶媒を含むことを特徴とする。
前記ノボラック樹脂は、例えば、アルデヒドと置換されたフェノールとを縮合して製造することができる。また、例えば、段階重合によって製造することができる。前記アルデヒドとしてはホルムアルデヒドなどがあり、置換されたフェノールとしてはオルト−、メタ−、パラ−クレゾール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチルフェノールまたはこれらの混合物などがある。
前記1,2−キノンジアジド化合物は、1,2−キノンジアジド4−スルホン酸エステル、1,2−キノンジアジド5−スルホン酸エステルまたは1,2−キノンジアジド6−スルホン酸エステルなどを使用することができる。
前記のようなキノンジアジド化合物は、ナフトキノンジアジドスルホン酸ハロゲン化合物とフェノール化合物とを弱塩基下で反応させて製造することができる。
前記1,2−キノンジアジド化合物はa)のノボラック樹脂100重量部に対して5〜100重量部で含まれるのが好ましく、さらに好ましくは10〜50重量部である。その含量が5重量部未満である場合には露光部と非露光部の溶解度差が小さくなってパターン形成が困難になる傾向があり、100重量部を超える場合には、短時間の間に光を照射する時に未反応1,2−キノンジアジド化合物が多量残存し、現像液のアルカリ水溶液に対する溶解度が過度に低くなって、現像が難しくなる傾向がある。
前記光酸発生剤は、光によって酸を発生することができる化合物であればよく、例えば、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのようなイオン性光酸発生剤、スルホニジアゾメタン系、N−スルホニルオキシイミド系、ベンゾインスルホネート系、ニトロベンジルスルホネート系、スルホン系、グリオキシム系、またはトリアジン系などを使用することができる。
前記ニトロベンジルスルホネート系光酸発生剤には2,4−ジニトロベンジルスルホネート、2−ニトロベンジルスルホネートまたは2,6−ジニトロベンジルスルホネートなどがあり、前記スルホネートとしてはトリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエタンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネート、4−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、4−フルオロベンゼンスルホネート、トルエンスルホネート、ベンゼンスルホネート、ナフタレンスルホネート、カンポスルホネート、オクタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ブタンスルホネートまたはメタンスルホネートなどがある。また、ベンジル側のニトロ基をトリフルオロメチル基に置き換えた化合物も使用することができる。
前記メラニン系架橋剤としては、尿素とホルムアルデヒドの縮合生成物、メラミンとホルムアルデヒドの縮合生成物またはアルコールから得られたメチロール尿素アルキルエーテル類やメチロールメラミンアルキルエーテル類などを使用することができる。
前記溶媒は、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール、ヘキシルアルコールなどのアルコール類;エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;エチレングリコールメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールエチルエーテルプロピオネートなどのエチレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類;エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルなどのジエチレングリコールアルキルエーテル類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類;プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテルなどのジプロピレングリコールアルキルエーテル類;ブチレングリコールモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエチルエーテルなどのブチレングリコールモノメチルエーテル類;またはジブチレングリコールジメチルエーテル、ジブチレングリコールジエチルエーテルなどのジブチレングリコールアルキルエーテル類などを使用することができる。これらは単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
前記のような成分からなる本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じてf)界面活性剤を追加的に含むことができる。
前記界面活性剤は、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、F171、F172、F173(商品名:大日本インキ化学工業株式会社)、FC430、FC431(商品名:住友スリーエム株式会社)又はKP341(商品名:信越化学工業株式会社)などを使用することができる。
前記のような成分からなる本発明の感光性樹脂組成物の固形分濃度は10〜50重量部であるのが好ましく、前記範囲の固形分を有する組成物は0.1〜0.2μmのミリポアフィルターなどでろ過した後に使用するのがよい。
また、本発明は前記感光性樹脂組成物の硬化体を含むOLED基板および前記感光性樹脂組成物を用いたOLED基板のパターン形成方法を提供する。
具体的な例として、前記感光性樹脂組成物を用いてOLED基板のパターンを形成する方法は次の通りである。
その後、予め準備されたパターンによって可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線などを前記形成された塗布膜に照射し、必要に応じて露光後ベーク(PEB)と全面露光(Flood Exposure)を実施した後、現像液で現像して、不必要な部分を除去することによって所定のパターンを形成する。
実施例1
(ノボラック樹脂製造)
オーバーヘッド撹拌機にメタクレゾール45g、パラクレゾール55g、ホルムアルデヒド65gおよびシュウ酸0.5gを入れ、攪拌して均質混合物を製造した。前記均質混合物を95℃で加熱し、この温度を4時間維持した。還流コンデンサを蒸留装置に置き換え、均質混合物の温度を110℃で2時間蒸留させた。真空蒸留を180℃で2時間行って、残余単量体を蒸留除去し、溶融されたノボラック樹脂を室温で冷却させた。その後、GPCで重量平均分子量を測定して、重量平均分子量が3500であるノボラック樹脂を収得した。この重量平均分子量はGPCを用いて測定したポリスチレン換算平均分子量である。
4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1モルと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸[クロライド]2モルを縮合反応させて、4,4‘−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルを製造した。
前記ノボラック樹脂100重量部と前記製造した4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル30重量部、光酸発生剤としてトリアジン系TME−トリアジン(TME−Triazine)3重量部およびメラミン架橋剤としてヘキサメチロールメラミン5重量部を混合した。その後、前記混合物の固形分含量が20重量%になるようにジプロピレングリコールジメチルエーテルで溶解させた後、0.2μmのミリポアフィルターでろ過して感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1でノボラック樹脂重合時に単量体として、メタクレゾール45gおよびパラクレゾール55gの代わりに、メタクレゾール70gおよびキシレノール30gを使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1でノボラック樹脂重合時に単量体として、メタクレゾール45gおよびパラクレゾール55gの代わりに、メタクレゾール35g、パラクレゾール40g、およびキシレノール25gを使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1でノボラック樹脂重合時に単量体として、メタクレゾール45gおよびパラクレゾール55gの代わりに、メタクレゾール40、パラクレゾール40g、およびトリメチルフェノール20gを使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1で感光性樹脂組成物製造時に、光酸発生剤のトリアジン系TME−トリアジン(TME−Triazine)の代わりに、スルホニウム塩系トリフェノールスルホニウムおよび(4−tert−ブトキシフェニル)ジフェニルスルホニウムを使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1で感光性樹脂組成物製造時に、光酸発生剤のトリアジン系TME−トリアジン(TME−Triazine)の代わりに、ヨードニウム塩系ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムを使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1で感光性樹脂組成物製造時に、光酸発生剤のトリアジン系TME−トリアジン(TME−Triazine)の代わりに、ビス(エチルスルホニル)ジアゾメタンを使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1で感光性樹脂組成物製造時に、光酸発生剤のトリアジン系TME−トリアジン(TME−Triazine)の代わりに、ニトロベンジルスルホネート系2,4−ジニトロベンジルスルホネートを使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1で感光性樹脂組成物製造時に光酸発生剤のトリアジン系TME−トリアジン(TME−Triazine)を使用しないことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1で感光性樹脂組成物製造時に4,4‘−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルを使用しないことを除いては、前記実施例1と同様の方法で、感光性樹脂組成物を製造した。
イ)ポジティブ型感度−ITOの蒸着された370mm×470mmガラス基板上にスピンコーターを用いて前記実施例1〜8および比較例1、2で製造した感光性樹脂組成物を塗布した後、110℃にて、2分間ホットプレート上でプリベークして、厚さが2.0μmである膜を形成した。前記形成した膜に所定パターンマスクを用いて435nmでの強度が20mW/cm2である紫外線を50μmアイソレートパターン(Isolate Pattern)CD(critical dimension)基準ドーズツクリアー(Dose to Clear)量を照射した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38重量%の水溶液で、23℃で90秒間現像し、超純水で1分間洗浄した。その後、前記で現像されたパターンをオーブンの中で、140℃にて60分間加熱して硬化させ、厚さ1.5μmのパターン膜を得た。
まず、2−段階工程の場合、比較例1で製造した感光性樹脂組成物を用いて前記イ)の方法で絶縁体を形成し、比較例2で製造した感光性樹脂組成物を用いて前記ロ)の方法でセパレータを形成した。1−段階工程の場合、実施例1〜8で製造した感光性樹脂組成物を塗布した後、110℃で2分間ホットプレート上でプリベークして、厚さが6.0μmである膜を形成した。形成した膜に所定ポジティブパターンマスクを用いて435nmでの強度が20mW/cm2である紫外線を50μmアイソレートパターンCD基準ドーズツクリアー量を照射した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38重量%の水溶液で、23℃にて90秒間現像した後、超純水で1分間洗浄して、ポジティブパターンを形成した。その後、ネガティブパターンマスクをアラインした後、435nmでの強度が20mW/cm2である紫外線を25μmアイソレートパターンCD基準ドーズ量を照射した後、110℃にて、90秒間ホットプレート上で露光後ベーク(PEB)した。その後、マスクを除去し、前面露光を100mJ/sqcmし、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38重量%の水溶液で、23℃にて100秒間現像した後、超純水で1分間洗浄した。前記で現像されたパターンをオーブンの中で、140℃にて60分間加熱して硬化させ、厚さ1.5μmのインシュレータと4.0μmのセパレータを同時に形成した。
C(静電容量)=(ε0×εr×A)/d上記数式で、ε0は真空誘電率、εrは誘電体薄膜比誘電率、Aは有効面的、dは誘電体薄膜厚さである。
Claims (10)
- a)ノボラック樹脂;
b)1,2−キノンジアジド化合物;
c)光酸発生剤;
d)メラミン系架橋剤;および
e)溶媒
を含むことを特徴とする有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物。 - a)ノボラック樹脂100重量部に対して、
b)1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部;
c)光酸発生剤1〜20重量部;
d)メラミン系架橋剤1〜30重量部;および
e)溶媒を感光性樹脂組成物内の固形分含量が10〜50重量%になるように含む請求項1に記載の有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物。 - 前記a)のノボラック樹脂が、アルデヒドとオルト−、メタ−、パラ−クレゾール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチルフェノールおよびこれらの混合物からなる群より選択される1種以上のフェノールとを縮合して製造される請求項1又は2に記載の有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物。
- 前記a)のノボラック樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が3,000〜30,000である請求項1〜3のいずれか1つに記載の有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物。
- 前記b)の1,2−キノンジアジド化合物が、1,2−キノンジアジド4−スルホン酸エステル、1,2−キノンジアジド5−スルホン酸エステルおよび1,2−キノンジアジド6−スルホン酸エステルからなる群より選択される1種以上である請求項1〜4のいずれか1つに記載の有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物。
- 前記c)の光酸発生剤が、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニジアゾメタン系光酸発生剤、N−スルホニルオキシイミド系光酸発生剤、ベンゾインスルホネート系光酸発生剤、ニトロベンジルスルホネート系光酸発生剤、スルホン系光酸発生剤、グリオキシム系光酸発生剤およびトリアジン系光酸発生剤からなる群より選択される1種以上である請求項1〜5のいずれか1つに記載の有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物。
- 前記d)のメラニン系架橋剤が、尿素とホルムアルデヒドの縮合生成物、メラミンとホルムアルデヒドの縮合生成物、メチロール尿素アルキルエーテル類およびメチロールメラミンアルキルエーテル類からなる群より選択される1種以上である請求項1〜6のいずれか1つに記載の有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物。
- 前記e)の溶媒が、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール、ヘキシルアルコール、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールエチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ブチレングリコールモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエチルエーテル、ジブチレングリコールジメチルエーテルおよびジブチレングリコールジエチルエーテルからなる群より選択される1種以上である請求項1〜7のいずれか1つに記載の有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜請求項8のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物の硬化体を含む有機発光ダイオード基板。
- 請求項1〜請求項9のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物を用いた有機発光ダイオード基板のパターン形成方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050117085A KR101323201B1 (ko) | 2005-12-02 | 2005-12-02 | 오엘이디 패턴형성방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007158324A true JP2007158324A (ja) | 2007-06-21 |
Family
ID=38165651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006313980A Pending JP2007158324A (ja) | 2005-12-02 | 2006-11-21 | 有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物、有機発光ダイオード基板及びそのパターン形成方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007158324A (ja) |
KR (1) | KR101323201B1 (ja) |
CN (1) | CN1983031A (ja) |
TW (1) | TWI410747B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014071373A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物 |
JP2018146978A (ja) * | 2018-05-31 | 2018-09-20 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2020064325A (ja) * | 2020-01-16 | 2020-04-23 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101132520B1 (ko) * | 2008-05-13 | 2012-04-02 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 절연막 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11352702A (ja) * | 1997-11-17 | 1999-12-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | 耐熱性に優れたレジストパターンの形成方法及びそれに用いられるポジ型レジスト組成物 |
JP2002083687A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Jsr Corp | El表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁およびel表示素子 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990045397A (ko) * | 1997-11-17 | 1999-06-25 | 고오사이 아끼오 | 레지스트 패턴 형성법 및 이 방법에 사용되는포지티브 레지스트 조성물 |
-
2005
- 2005-12-02 KR KR1020050117085A patent/KR101323201B1/ko active IP Right Grant
-
2006
- 2006-11-21 JP JP2006313980A patent/JP2007158324A/ja active Pending
- 2006-11-24 TW TW95143511A patent/TWI410747B/zh active
- 2006-12-01 CN CN 200610163334 patent/CN1983031A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11352702A (ja) * | 1997-11-17 | 1999-12-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | 耐熱性に優れたレジストパターンの形成方法及びそれに用いられるポジ型レジスト組成物 |
JP2002083687A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Jsr Corp | El表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁およびel表示素子 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014071373A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物 |
JP2018146978A (ja) * | 2018-05-31 | 2018-09-20 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2020064325A (ja) * | 2020-01-16 | 2020-04-23 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200731009A (en) | 2007-08-16 |
TWI410747B (zh) | 2013-10-01 |
KR101323201B1 (ko) | 2013-10-30 |
CN1983031A (zh) | 2007-06-20 |
KR20070057534A (ko) | 2007-06-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI483074B (zh) | 化學增幅負型光阻組成物及圖型之形成方法 | |
TWI459158B (zh) | 包含嵌段共聚物之組成物及光微影方法 | |
JP5016828B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
TWI507821B (zh) | 化學增幅型負型光阻組成物及圖型形成方法 | |
TWI675051B (zh) | 萘酚型杯芳烴化合物及其製造方法、感光性組成物、光阻材料、及塗膜 | |
JP6668499B2 (ja) | 高解像度及び高アスペクト比を有するKrFレーザー用ネガ型フォトレジスト組成物 | |
US11460774B2 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, and pattern forming process | |
KR101351311B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
KR101882217B1 (ko) | 오엘이디용 폴리이미드 감광성 수지 조성물 | |
KR101764722B1 (ko) | 마이크로 구조체의 제조 방법 및 광 패턴 형성성 희생막 형성용 조성물 | |
TWI506361B (zh) | 化學增幅型負型光阻組成物及圖案形成方法 | |
KR20090001178A (ko) | 유기박막 트랜지스터용 감광성 수지 조성물 | |
KR20180016986A (ko) | 감방사선성 조성물 | |
JPH0792680A (ja) | レジスト組成物 | |
JP2007158324A (ja) | 有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物、有機発光ダイオード基板及びそのパターン形成方法 | |
US5728504A (en) | Positive photoresist compositions and multilayer resist materials using the same | |
TW201739842A (zh) | 表面處理用組成物及使用其之光阻圖案之表面處理方法 | |
JP6361361B2 (ja) | ポジ型リフトオフレジスト組成物及びパターン形成方法 | |
KR101615980B1 (ko) | 반도체 패턴 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물 | |
JP2019523459A (ja) | 化学増幅型ネガ型フォトレジスト組成物 | |
KR20180123017A (ko) | 감방사선성 수지 조성물 및 레지스트 | |
TWI414889B (zh) | Chemically enhanced positive type photoresist composition | |
KR20180132042A (ko) | 레지스트 패턴 형성 방법 및 레지스트 | |
TW202313734A (zh) | 阻劑輔助膜組成物、及使用該組成物之圖案之形成方法 | |
JP2017181924A (ja) | 感放射線性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110407 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110412 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110712 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120321 |