JP2007149744A - 処理装置及び超音波洗浄装置並びに超音波洗浄方法及び超音波洗浄プログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明では、洗浄槽に複数の被処理体を配列させた状態で浸漬するとともに、被処理体に向けて超音波を照射して被処理体の洗浄処理を行う超音波洗浄装置において、被処理体に向けて超音波を照射するための超音波振動子を被処理体の配列方向に向けて走行可能に配設することにした。また、超音波振動子は、洗浄槽の内部で被処理体を支持するための支持体に対して被処理体を挟んで反対側に配設することにした。また、超音波振動子は、洗浄槽の上部に配設することにした。また、超音波振動子は、被処理体の表面に対して傾斜させて配設することにした。さらに、超音波振動子は、被処理体への超音波の照射角度を変更可能にした。
【選択図】図2
Description
3 キャリア 4 キャリア搬入出部
5 バッチ 6 バッチ編成部
7 基板処理部 8 キャリアステージ
9 開閉扉 10 キャリア搬送機構
11 キャリアストック 12 キャリア載置台
13 開閉扉 14 基板搬送機構
15 バッチ形成機構 16 配列順序変更機構
17 バッチ搬送機構 18 ウエハ収容状態検出センサー
19 ノッチアライナー 20 洗浄乾燥機構
21 洗浄機構 22 ウエハ昇降機構
23 基板洗浄乾燥ユニット 24 搬送機構洗浄ユニット
25 超音波洗浄ユニット 26,27 洗浄ユニット
28,29,30 薬液処理用の洗浄槽 31,32,33 純水処理用の洗浄槽
34,35,36 搬送機構 37 洗浄槽
38,39 左右側壁 40〜45 洗浄液供給ノズル
46 底壁 47 排水管
48 開閉バルブ 49 オーバーフロー槽
50 底壁 51 排水管
52 開閉バルブ 53 純水供給源
54 開閉バルブ 55 制御部
56 昇降桿 57 ウエハボート
58,59 連結体 60〜63 支持体
64〜67 支持溝 68 超音波照射機構
69 基台 70 走行台
71 支持軸 72 超音波振動子
73 走行機構 74 稼動機構
75 回動機構 76 コントローラ
77 記憶媒体 78 超音波洗浄プログラム
Claims (18)
- 洗浄槽に複数の被処理体を配列させた状態で浸漬するとともに、被処理体に向けて超音波を照射して被処理体の洗浄処理を行う超音波洗浄ユニットを有する処理装置において、
超音波洗浄ユニットは、被処理体に向けて超音波を照射するための超音波振動子を被処理体の配列方向に向けて走行可能に配設したことを特徴とする処理装置。 - 前記超音波振動子は、洗浄槽の内部で被処理体を支持するための支持体に対して被処理体を挟んで反対側に配設したことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
- 前記超音波振動子は、洗浄槽の上部に配設したことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の処理装置。
- 前記超音波振動子は、被処理体の表面に対して傾斜させて配設したことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の処理装置。
- 前記超音波振動子は、被処理体への超音波の照射角度を変更可能としたことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の処理装置。
- 洗浄槽に複数の被処理体を配列させた状態で浸漬するとともに、被処理体に向けて超音波を照射して被処理体の洗浄処理を行う超音波洗浄装置において、
被処理体に向けて超音波を照射するための超音波振動子を被処理体の配列方向に向けて走行可能に配設したことを特徴とする超音波洗浄装置。 - 前記超音波振動子は、洗浄槽の内部で被処理体を支持するための支持体に対して被処理体を挟んで反対側に配設したことを特徴とする請求項6に記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動子は、洗浄槽の上部に配設したことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動子は、被処理体の表面に対して傾斜させて配設したことを特徴とする請求項6〜請求項8のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動子は、被処理体への超音波の照射角度を変更可能としたことを特徴とする請求項6〜請求項9のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
- 洗浄槽に複数の被処理体を配列させた状態で浸漬するとともに、被処理体に向けて超音波を照射して被処理体の洗浄処理を行う超音波洗浄方法において、
被処理体に向けて超音波を照射するための超音波振動子を被処理体の配列方向に向けて走行させることによって被処理体の洗浄処理を行うことを特徴とする超音波洗浄方法。 - 前記洗浄槽の内部で被処理体を支持するための支持体に対して被処理体を挟んで反対側から超音波振動子によって超音波を被処理体に向けて照射することを特徴とする請求項11に記載の超音波洗浄方法。
- 前記超音波振動子によって超音波を被処理体の表面に対して傾斜状に照射することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の超音波洗浄方法。
- 前記超音波振動子から被処理体への超音波の照射角度を変更しながら超音波を被処理体に照射することを特徴とする請求項11〜請求項13のいずれかに記載の超音波洗浄方法。
- 洗浄槽に複数の被処理体を配列させた状態で浸漬するとともに、被処理体に向けて超音波を照射して被処理体の洗浄処理を行う超音波洗浄装置に対して洗浄処理を実行させるための超音波洗浄プログラムにおいて、
被処理体に向けて超音波を照射するための超音波振動子を被処理体の配列方向に向けて走行させることによって被処理体の洗浄処理を行う超音波洗浄ステップを有することを特徴とする超音波洗浄プログラム。 - 前記超音波洗浄ステップは、洗浄槽の内部で被処理体を支持するための支持体に対して被処理体を挟んで反対側から超音波振動子によって超音波を被処理体に向けて照射することを特徴とする請求項15に記載の超音波洗浄プログラム。
- 前記超音波洗浄ステップは、超音波振動子によって超音波を被処理体の表面に対して傾斜状に照射することを特徴とする請求項15又は請求項16に記載の超音波洗浄プログラム。
- 前記超音波洗浄ステップは、超音波振動子から被処理体への超音波の照射角度を変更しながら超音波を被処理体に照射することを特徴とする請求項15〜請求項17のいずれかに記載の超音波洗浄プログラム。
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