JP2007145785A - ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、一般式(1)
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から100℃が好ましく、30℃から60℃がより好ましい。
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、-40℃から30℃が好ましく、-20℃から20℃がより好ましい。得られたイリドは単離することなく式(3)で表される化合物と反応させるのが好ましい。また、メトキシメチルトリフェニルホスホニウム塩および式(3)で表される化合物の混合物に対して塩基を加えてもよい。
反応温度は溶媒の凝固点から還流温度範囲で行うことができるが、0℃から80℃が好ましい。
化合物記載に下記の略号を使用する。
THF :テトラヒドロフラン
DMF :N, N-ジメチルホルムアミド
Me :メチル基
Et :エチル基
Bu :ブチル基
Ph :フェニル基
Ms :メタンスルホニル基
(実施例1)1-((4’,4’-エチレンジオキシ)シクロヘキシル)メトキシ-2,3-ジフルオロベンゼン(Ia)の合成
MS m/z : 284 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.3 2.0 (m, 9 H), 3.8 4.0 (m, 6 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
(実施例2)2,3-ジフルオロ-1-(4-オキソシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Ib)の合成
MS m/z : 240 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.6 1.9 (m, 4 H), 2.0 2.4 (m, 5 H), 3.8 4.0(m, 2 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
(実施例3)2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-ホルミルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Ic)の合成
MS m/z : 254 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.3 2.0 (m, 9 H), 2.2 2.4 (m, 1 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H), 9.6 9.8 (m, 1 H)
(実施例4)2,3-ジフルオロ-1- (トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(Id)の合成
沸点 125℃/0.4 mmHg
MS m/z : 252 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.3 1.5 (m, 8 H), 1.8 2.2 (m, 2 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 4.8 5.0 (m, 2 H), 5.7 5.9 (m, 1 H), 6.4 6.6 (m, 2 H), 6.8 7.0 (m, 1 H)
(実施例5)2,3-ジフルオロ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシフェノール(Ie)の合成
MS m/z : 268 (M+)
1H-NMR (60 MHz, CDCl3)
δ: 1.3 1.5 (m, 8 H), 1.8 2.2 (m, 2 H), 3.8 4.0 (m, 2 H), 4.8 5.0 (m, 2 H), 5.7 5.9 (m, 1 H), 6.3 6.5 (m, 2 H), 4.0 6.0 (s, 1 H)
(実施例6)2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-ブチルシクロヘキシル)メトキシ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(If)の合成
相転移温度 : C 55.2 N 95.8 I
MS m/z : 420 (M+), 146 (100)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ: 0.80 1.35 (m, 15 H), 0.889 (t, J = 6.8 Hz, 3 H), 1.65 2.00 (m, 11 H), 3.76 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 3.78 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.85 5.05 (m, 2 H), 5.79 (ddd, J = 6.8 Hz, J = 10.4 Hz, J = 17.2 Hz, 1 H), 6.59 (d, J = 5.6 Hz, 2 H)
(実施例7)2,3-ジフルオロ-1-(トランス-4-(トランス-4-エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)メトキシ-4-(トランス-4-ビニルシクロヘキシル)メトキシベンゼン(IIf)の合成
相転移温度 : C 75.6 N 195.2 I
MS m/z : 474 (M+), 146 (100)
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ: 0.75 1.25 (m, 17 H), 0.86 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 1.65 2.00 (m, 15 H), 3.75 (d, J = 6.8 Hz, 2 H), 3.78 (d, J = 6.4 Hz, 2 H), 4.87 5.03 (m, 2 H), 5.79 (ddd, J = 6.8 Hz, J = 10.4 Hz, J = 17.2 Hz, 1 H), 6.59 (d, J = 5.2 Hz, 2 H)
Claims (19)
- 一般式(1)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
- 一般式(2)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
- 式(3)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
- 式(4)
で表される化合物とし、この化合物を酸化して一般式(6)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
- 一般式(5)
で表される化合物を酸化して一般式(6)
で表される化合物とし、この化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
- 一般式(6)
で表される化合物から調製されるフェノラートを一般式(7)
- メトキシメチルリンイリドがメトキシメチルトリフェニルホスホニウム塩より調製されるイリドである請求項1、2、3又は4記載の製造方法。
- アルキルリンイリドがアルキルトリフェニルホスホニウム塩より調製されるイリドである請求項1、2又は3記載の製造方法。
- 一般式(5)で表される化合物を酸化する方法が、一般式(5)で表される化合物の4位を有機金属試薬により脱プロトン化し、ほう酸トリアルキルと反応させた後、過酸化物を反応させることによる請求項1、2、3、4、5または7の何れかに記載の製造方法。
- 有機金属試薬としてn-ブチルリチウムまたはsec-ブチルリチウムを用い、ほう酸トリアルキルとしてほう酸トリメチルを用いる請求項8の製造方法。
- 酸化剤として過酸化水素、過ギ酸または過酢酸を用いる請求項8または9記載の製造方法。
- X1が臭素またはメタンスルホニルオキシ基を表す請求項1記載の製造方法。
- X2が臭素またはメタンスルホニルオキシ基を表す請求項1から6の何れかに記載の製造方法。
- R1およびR2が共にメチル基を表すかまたは、R1およびR2が-CH2CH2-または-CH2CH2CH2-を表す請求項1または2に記載の製造方法。
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