JP2007142036A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】pMOSトランジスタは、半導体基板1上にゲート絶縁膜4を介して形成されたゲート電極5と、ゲート電極5の両側における半導体基板1上に形成され、p型不純物を含有するp型エクステンション層11pとを有する。nMOSトランジスタは、半導体基板1上にゲート絶縁膜4を介して形成されたゲート電極5と、ゲート電極5の両側における半導体基板1上に形成され、n型不純物を含有するn型エクステンション層とを有する。p型エクステンション層11pは、n型エクステンション層11nに比べて厚く形成されている。
【選択図】図1
Description
あるいは、前記p型エクステンション層および前記n型エクステンション層は、前記ゲート電極側に傾斜端面を有し、前記p型エクステンション層の傾斜端面の角度は、前記n型エクステンション層の傾斜端面の角度よりも小さい。
あるいは、p型エクステンション層の傾斜端面の角度が、n型エクステンション層の傾斜端面の角度よりも小さく形成されていることにより、第2トランジスタよりも第1トランジスタにおける不純物の拡散源が少なくなる。このため、第1トランジスタと第2トランジスタで不純物の拡散が同程度に抑制される。
あるいは、前記n型エクステンション層および前記p型エクステンション層をエピタキシャル成長させる工程において、前記p型エクステンション層の傾斜端面の角度が前記n型エクステンション層の傾斜端面の角度よりも小さくなるように調整する。
あるいは、p型エクステンション層の傾斜端面の角度を、n型エクステンション層の傾斜端面の角度よりも小さくすることにより、第2トランジスタよりも第1トランジスタにおける不純物の拡散源が少なくなる。このため、第1トランジスタと第2トランジスタで不純物の拡散が同程度に抑制される。
なお、上記のゲート絶縁膜およびゲート電極をダミーゲート絶縁膜およびダミーゲート電極とし、後にダマシンプロセスにより埋め込みゲート電極を形成してもよい。
図1は、CMOSデバイスのチャネル方向の断面図である。
2つの第1エピタキシャル成長層11pの各々は、その対向側に同様に傾斜端面を有し、2つの第1エピタキシャル成長層11pの間におけるSi基板1上にゲート絶縁膜4が形成され、その上にゲート電極5が形成されている。
とくに、図示していないが、トランジスタの全面は層間絶縁膜に覆われており、層間絶縁膜には、シリサイド層14に接続する接続層が埋め込まれ、層間絶縁膜の上に配線が形成されている。
図4(A)〜図13(B)は、本実施の形態における製造方法を適用して製造されるCMOSデバイスのチャネル方向の断面図である。
一般に、選択的エピタキシィによるSiの成長は絶縁膜の表面では生じず、Siの露出表面で生じる。このため、本実施形態では、pMOS側とnMOS側の一方を絶縁膜で保護して選択エピタキシィを行い、その後、逆に他方側を絶縁膜で保護して選択エピタキシィを行う方法を提案する。
続いて、選択的エピタキシィをしたくない場所を保護する目的の絶縁膜(ここではSiN膜21a)をCVDにより形成する。SiN膜21aの膜厚は1〜10nmであり、SiN膜21aによって完全にゲート電極5を被覆する。この保護用の膜の材料は、SiO2など基板が自然に酸化されてできる膜に対して、ウエットエッチング速度の遅い膜を使う必要がある。
すなわち、まず、nMOS側を保護するレジストR2を形成し(図9(A))、pMOS側のSiO2膜22aを除去し(図9(B))、異方性のドライエッチングによりSiN膜21aをエッチングしてpMOS側のゲート電極5の両側面に隔壁絶縁膜21を形成し(図10(A))、レジストR2を除去する(図10(B))。次に、pMOS側で露出したシリコン基板表面に、ホウ素Bなどのp型の不純物が含まれる第1エピタキシャル成長層11pを選択的エピタキシィにより形成する(図11(A))。このときnMOS側はSiO2膜22aに覆われており第1エピタキシャル成長層11pが形成されることはない。このp型の第1エピタキシャル成長層に、nMOS側と同様に20〜70°の傾斜角度(FASET)を有する傾斜端面11Aが形成される。
この側壁スペーサ13の幅は、エッチバック時の異方性を高くすると、最初に成膜した膜の厚さでほぼ決まることから一定となり、その制御性も高まる。
図14は、第2実施形態に係る半導体装置の断面図である。
図15は、第3実施形態に係る半導体装置の断面図である。本実施形態では、第2実施形態と比べてSi基板1内に深いn型拡散層10n,10pが形成されていない点が異なる。
図16は、第4実施形態に係る半導体装置の断面図である。
図19は、第5実施形態に係る半導体装置の断面図である。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
Claims (10)
- 半導体基板上に形成されたpチャネルの第1トランジスタと、nチャネルの第2トランジスタとを有する半導体装置であって、
前記第1トランジスタは、
前記半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極の両側における前記半導体基板上に形成され、p型不純物を含有するp型エクステンション層と
を有し、
前記第2トランジスタは、
前記半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極の両側における前記半導体基板上に形成され、n型不純物を含有するn型エクステンション層と
を有し、
前記p型エクステンション層は、前記n型エクステンション層に比べて薄く形成されている
半導体装置。 - 前記第1トランジスタの形成領域における前記半導体基板の結晶方位と、前記第2トランジスタの形成領域における前記半導体基板の結晶方位が異なる
請求項1記載の半導体装置。 - 前記p型エクステンション層および前記n型エクステンション層は、前記ゲート電極側に傾斜端面を有し、
前記p型エクステンション層の傾斜端面の角度は、前記n型エクステンション層の傾斜端面の角度よりも小さい
請求項1記載の半導体装置。 - 半導体基板上に形成されたpチャネルの第1トランジスタと、nチャネルの第2トランジスタとを有する半導体装置であって、
前記第1トランジスタは、
前記半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極の両側における前記半導体基板上に形成され、p型不純物を含有するp型エクステンション層と
を有し、
前記第2トランジスタは、
前記半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極の両側における前記半導体基板上に形成され、n型不純物を含有するn型エクステンション層と
を有し、
前記p型エクステンション層および前記n型エクステンション層は、前記ゲート電極側に傾斜端面を有し、
前記p型エクステンション層の傾斜端面の角度は、前記n型エクステンション層の傾斜端面の角度よりも小さい
半導体装置。 - 前記第1トランジスタの形成領域における前記半導体基板の結晶方位と、前記第2トランジスタの形成領域における前記半導体基板の結晶方位が異なる
請求項4記載の半導体装置。 - 半導体基板の第1領域にpチャネルの第1トランジスタを形成し、前記半導体基板の第2領域にnチャネルの第2トランジスタを形成する半導体装置の製造方法であって、
第1領域および第2領域における前記半導体基板上に、ゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する工程と、
前記第2領域において前記ゲート電極の両側における前記半導体基板上にn型不純物を含有するn型エクステンション層をエピタキシャル成長させる工程と、
前記第1領域において前記ゲート電極の両側における前記半導体基板上にp型不純物を含有するp型エクステンション層をエピタキシャル成長させる工程と
を有し、
前記p型エクステンション層をエピタキシャル成長させる工程において、前記n型エクステンション層に比べて薄い前記p型エクステンション層を形成する
半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート電極を形成する工程の前に、前記第1領域と前記第2領域とで結晶方位が異なる前記半導体基板を作製する工程をさらに有する
請求項6記載の半導体装置の製造方法。 - 前記n型エクステンション層および前記p型エクステンション層を形成する工程において、前記ゲート電極側に傾斜端面を有する前記n型エクステンション層および前記p型エクステンション層を形成し、かつ、前記p型エクステンション層の傾斜端面の角度が、前記n型エクステンション層の傾斜端面の角度よりも小さくなるように調整する
請求項6記載の半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の第1領域にpチャネルの第1トランジスタを形成し、前記半導体基板の第2領域にnチャネルの第2トランジスタを形成する半導体装置の製造方法であって、
第1領域および第2領域における前記半導体基板上に、ゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する工程と、
前記第2領域において前記ゲート電極の両側における前記半導体基板上に、n型不純物を含有し、かつ、前記ゲート電極側に傾斜端面を有するn型エクステンション層をエピタキシャル成長させる工程と、
前記第1領域において前記ゲート電極の両側における前記半導体基板上に、p型不純物を含有し、かつ、前記ゲート電極側に傾斜端面を有するp型エクステンション層をエピタキシャル成長させる工程と
を有し、
前記n型エクステンション層および前記p型エクステンション層をエピタキシャル成長させる工程において、前記p型エクステンション層の傾斜端面の角度が前記n型エクステンション層の傾斜端面の角度よりも小さくなるように調整する
半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート電極を形成する工程の前に、前記第1領域と前記第2領域とで結晶方位が異なる前記半導体基板を作製する工程をさらに有する
請求項9記載の半導体装置の製造方法。
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