JP2007120965A - 計測プローブ及び計測プローブの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】計測プローブ1は、導電性ポリマーを含むカンチレバー2と、カンチレバー2の固定端2aが接続されてカンチレバー2を片持ち支持する基部3とを備えている。カンチレバー2は、固定端2aが基部3に接続される一方、自由端2bがカンチレバー2の軸線方向及び面内方向に対して垂直方向のそれぞれに対して先鋭に形成されている。カンチレバー2の固定端2aと自由端2bとの間には湾曲部(曲げ部)2Aが配されており、固定端2a側の面内方向に対して自由端2b側が垂直方向に曲げられて探針5となっている。
【選択図】図1
Description
本発明に係る計測プローブは、ポリマーを含むカンチレバーを備え、該カンチレバーが先鋭に形成され、前記カンチレバーの固定端と自由端との間に曲げ部が配されて、前記自由端側が前記固定端側の面内方向に対して垂直方向に曲げられていることを特徴とする。
また、本発明に係る計測プローブの製造方法は、請求項10に記載の計測プローブの製造方法であって、前記薄膜が圧電体であることを特徴とする。
本実施形態に係る計測プローブ1は、図1に示すように、導電性ポリマーを含むカンチレバー2と、カンチレバー2の固定端2aが接続されてカンチレバー2を片持ち支持する基部3とを備えている。カンチレバー2は、固定端2aが基部3に接続される一方、自由端2bがカンチレバー2の軸線方向及び面内方向に対して垂直方向のそれぞれに対して先鋭に形成されている。カンチレバー2の固定端2aと自由端2bとの間には湾曲部(曲げ部)2Aが配されており、固定端2a側の面内方向に対して自由端2b側が垂直方向に曲げられて探針5となっている。
本実施形態に係る計測プローブ1の製造方法は、カンチレバー2の自由端2bを先鋭化する工程(S11)と、自由端2b側をカンチレバー2の固定端2a側の面内方向に対して垂直方向に湾曲させて自由端2bを探針5とする工程(S12)とを備えている。
図3(a)に示すように、絶縁性を有する内部酸化層6を持ついわゆるSOI(Silicon on Insulator)基板7の表面7aにフォトレジストを塗布し、フォトリソグラフィによってパターニングを施して、図3(b)に示すようなカンチレバーエッチング用マスク8を形成する。この際使用されるSOI基板7は、Siからなる支持層10に内部酸化層6としてSiO2が積層され、さらに活性層として導電性のポリマー層11が積層されて表面となっている。
ここでは、カンチレバー2の自由端2b側を自重により湾曲させる。
こうして図1に示すように、自由端2bが探針5となったカンチレバー2及び計測プローブ1が得られる。
なお、上述した第1の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第2の実施形態と第1の実施形態との異なる点は、第1の実施形態と同様の計測プローブの製造方法において、カンチレバー2の自由端2b側を固定端2a側の面内方向に対して垂直方向に湾曲させて自由端2bを探針5とする工程(S22)が、カンチレバー2の自由端2b側を加熱して湾曲させるとした点である。
続いて、自由端2bを探針5とする工程(S22)として、カンチレバー2の自由端2b側を加熱して湾曲させる。
この加熱によって加熱部分が軟化するため、加熱部分よりも自由端2b側が自重により第1の実施形態の場合よりも早い段階で湾曲して湾曲部2Aを形成する。こうして、第1の実施形態と同様に、図1に示すような自由端2bが探針5となったカンチレバー2が得られる。
なお、上述した他の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第3の実施形態と第1の実施形態との異なる点は、本実施形態に係る計測プローブ20のカンチレバー2の湾曲部2Aに、図7に示すように、カンチレバー2が有する導電性ポリマーよりも大きい膜応力を有する薄膜21が配されているとした点である。
本実施形態では、図8に示すように、第1の実施形態と同様のカンチレバー2の自由端2bを先鋭化する工程(S11)と、カンチレバー2の自由端2b側を固定端2a側の面内方向に対して垂直方向に湾曲させて自由端2bを探針5とする工程(S32)とを備えている。自由端2bを探針5とする工程(S32)では、カンチレバー2の自由端2bと固定端2aとの間に、カンチレバー2よりも大きい膜応力を有する薄膜21を形成する。
続いて、自由端2bを探針5とする工程(S32)として、図9(b)に示すように、カンチレバー2の自由端2bと固定端2aとの間に、カンチレバー2よりも大きい膜応力を有する薄膜21を成膜する。このとき、成膜後の薄膜21の残留応力が大きいので、図9(c)に示すように、薄膜21が成膜されている方向にカンチレバー2の自由端2b側が湾曲する。薄膜21は成膜後に安定しているので、湾曲状態が維持され、図7に示すように、カンチレバー2を有する計測プローブ20が得られる。
なお、上述した他の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第4の実施形態と第3の実施形態との異なる点は、本実施形態に係る計測プローブのカンチレバーに配された薄膜が圧電体であるとした点である。この圧電体は、図示しない電気配線を介して図示しない電源と接続されている。
なお、上述した他の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第5の実施形態と第1の実施形態との異なる点は、本実施形態に係る計測プローブ30のカンチレバー31に、図11(a)に示すように、カンチレバー31の剛性を低減する切込み部32と、切込み部32におけるカンチレバー31の剛性を維持する支持部33A,33Bとを備えた屈曲部(曲げ部)35が配されているとした点である。
本実施形態では、図12に示すように、第1の実施形態と同様のカンチレバー2の自由端2bを先鋭化する工程(S11)と、カンチレバー2の自由端2b側を固定端2a側の面内方向に対して垂直方向に湾曲させて自由端2bを探針5とする工程(S52)とを備えている。
自由端31bを探針5とする工程(S52)では、カンチレバー31に櫛歯構造の屈曲部35を形成する。
この際、カンチレバー31の自由端31bを形成するだけでなく切込み部32も形成するために、所定形状にパターニングされた図示しないカンチレバーエッチング用マスクをポリマー層の表面に載置する。
こうして、図11(a)に示すような計測プローブ30を得る。
例えば、カンチレバーの歪みを検知する検知手段としてピエゾ抵抗体を湾曲部や切込み部などの曲げ部に配しても構わない。
2,31 カンチレバー
2a,31a 固定端
2b,31b 自由端
2A 湾曲部(曲げ部)
5 探針
21 薄膜
32 切込み部
33A,33B 支持部
35 屈曲部(曲げ部)
Claims (13)
- ポリマーを含むカンチレバーを備え、
該カンチレバーが先鋭に形成され、
前記カンチレバーの固定端と自由端との間に曲げ部が配されて、前記自由端側が前記固定端側の面内方向に対して垂直方向に曲げられていることを特徴とする計測プローブ。 - 前記ポリマーよりも大きい膜応力を有する薄膜が前記カンチレバーに配され、前記曲げ部における曲げ状態を形成していることを特徴とする請求項1に記載の計測プローブ。
- 前記薄膜が圧電体であることを特徴とする請求項2に記載の計測プローブ。
- 前記曲げ部が、前記カンチレバーの剛性を低減する切込み部と、該切込み部における前記カンチレバーの剛性を維持する支持部とを備えていることを特徴とする請求項1に記載の計測プローブ。
- 前記切込み部が櫛歯構造となっていることを特徴とする請求項4に記載の計測プローブ。
- 前記カンチレバーの歪みを検知する検知手段が前記カンチレバーに配されていることを特徴とする請求項1から5の何れか一つに記載の計測プローブ。
- カンチレバーの自由端を先鋭化する工程と、
前記自由端側を前記カンチレバーの固定端側の面内方向に対して垂直方向に曲げて前記自由端を探針とする工程とを備えていることを特徴とする計測プローブの製造方法。 - 前記カンチレバーがポリマーを備え、
前記自由端を探針とする工程が、前記カンチレバーの前記自由端側を自重により湾曲させることを特徴とする請求項7に記載の計測プローブの製造方法。 - 前記カンチレバーがポリマーを備え、
前記自由端を探針とする工程が、前記カンチレバーの前記自由端側を加熱して湾曲させることを特徴とする請求項7に記載の計測プローブの製造方法。 - 前記カンチレバーがポリマーを備え、
前記自由端を探針とする工程が、前記カンチレバーの前記自由端と前記固定端との間に、前記カンチレバーよりも大きい膜応力を有する薄膜を形成することを特徴とする請求項7に記載の計測プローブの製造方法。 - 前記薄膜が、圧電体であることを特徴とする請求項10に記載の計測プローブの製造方法。
- 前記自由端を探針とする工程が、前記カンチレバーに櫛歯構造の切込み部と、該切込み部における前記カンチレバーの剛性を維持する支持部とを形成することを特徴とする請求項7に記載の計測プローブの製造方法。
- 前記カンチレバーの歪みを検知する検知手段を前記カンチレバーに配する工程を備えていることを特徴とする請求項7から12の何れか一つに記載の計測プローブの製造方法。
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