JP5035797B2 - 探針形成用エッチングマスク及びそれを用いた探針の製造方法 - Google Patents
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Description
まず予備実験を行った。予備実験では、シリコン基板の表面上に、図1に示した形状のSiO2のエッチングマスクを形成し、エッチング液KOH(濃度34重量%、温度70℃)を使用し、探針を形成した。このとき、エッチングマスクの配置をシリコンの結晶方位に合せた。形成したエッチグマスクの各部の寸法を表1、2に示す。第2〜第5マスク部の幅は全て等しくした。表1、2の右端の列には、各々のエッチングマスクを用いて形成した探針の写真から、探針の先鋭さ及び全体形状を目視によって評価した結果を示す。○は良好、△は使用可能、×は不良なものを表す。また、表1、2には、各マスク部の辺の長さを、第1マスク部の1辺Sを基準とした割合で示した。
上記の予備実験の後、同様に、種々の形状のエッチングマスクを使用して、エッチング液KOH(濃度34重量%、温度70℃)を使用して、探針を形成した。実験2では、エッチングマスクの全体の寸法を実験1の場合の約1/10にした。具体的には、第1マスク部の1辺Sを16μmとした(実験1では200μm)。このとき、エッチングマスクの配置をシリコンの結晶方位に合せた。第2〜第5マスク部の幅は全て等しくした。形成したエッチグマスクの各部の寸法を表3に示す。表3の右端の列には、表1、2と同様に、形成した探針の形状を評価した結果を示す。記号(○、△、×)の意味は表1、2と同じである。また、表3には、各マスク部の辺の長さを、第1マスク部の1辺Sを基準とした割合で示した。
11 第1マスク部
12 第2マスク部
13 第3マスク部
14 第4マスク部
15 第5マスク部
a1 第1の辺
a2 第2の辺
Claims (4)
- 単結晶シリコンの表面に形成される異方性エッチング用マスクであって、
正方形の第1マスク部と、
少なくとも、
前記第1マスク部の第1の辺の両端から延伸する一組の第2マスク部及び第3マスク部、又は、前記第1の辺に対向する第2の辺の両端から延伸する一組の第4マスク部及び第5マスク部の何れかの組とを備え、
前記第2マスク部及び前記第3マスク部が、前記第1の辺に直交する方向に沿って、相互に同じ方向に延伸し、
前記第2マスク部の長さ及び第3マスク部の長さが等しく、
前記第2マスク部の幅及び第3マスク部の幅が等しく、
前記第4マスク部及び前記第5マスク部が、前記第2の辺を延長する方向に沿って、相互に逆の方向に延伸し、
前記第4マスク部の長さ及び第5マスク部の長さが等しく、
前記第4マスク部の幅及び第5マスク部の幅が等しいことを特徴とする探針形成用エッチングマスク。 - 前記第2〜第5マスク部の全てを備え、
前記第2〜第5マスク部の各々の幅が、全て等しいことを特徴とする請求項1に記載の探針形成用エッチングマスク。 - 正方形の第1マスク部と、
少なくとも、
前記第1マスク部の第1の辺の両端から延伸する一組の第2マスク部及び第3マスク部、又は、前記第1の辺に対向する第2の辺の両端から延伸する一組の第4マスク部及び第5マスク部の何れかの組とを備え、
前記第2マスク部及び前記第3マスク部が、前記第1の辺に直交する方向に沿って、相互に同じ方向に延伸し、
前記第2マスク部の長さ及び第3マスク部の長さが等しく、
前記第2マスク部の幅及び第3マスク部の幅が等しく、
前記第4マスク部及び前記第5マスク部が、前記第2の辺を延長する方向に沿って、相互に逆の方向に延伸し、
前記第4マスク部の長さ及び第5マスク部の長さが等しく、
前記第4マスク部の幅及び第5マスク部の幅が等しいことを特徴とする探針形成用エッチングマスクを、単結晶シリコンの表面に形成し、異方性エッチングを行うことを特徴とする探針の製造方法。 - 前記探針形成用エッチングマスクを、単結晶シリコンの表面に所定の間隔で複数形成することを特徴とする請求項3に記載の探針の製造方法。
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