JP2007109822A - 半導体素子の製造方法、及びそれにより得られる半導体素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の製造方法は、ウエハ50を基板片12に切断、分離する分離工程の後に、基板片12で構成された保持基板11(ウエハ51)を表面処理加工、例えば研磨処理又はブラスト処理、することで、基板の割れ、欠けを防止して、所望の形状となるような表面加工が可能となる。また、予め分離溝40を形成するような場合には、例えばレーザスクライブ痕の生成物41をその表面加工工程により除去することもできる。
【選択図】図1B
Description
また、窒化物半導体素子においては、その基板にサファイア、SiCが好適に用いられるが、サファイアはモース硬度9(修正モース硬度12)、炭化ケイ素は修正モース硬度13であり(ダイヤモンドはモース硬度10(修正モース硬度15))、非常に硬度の高い物質であることから、基板の切断、分離、分離溝の加工形成が困難であり、また、その際に上記研磨やブラスト処理などの基板加工、上記ダイサーやスクライブによる溝加工により割れ、欠けが発生しやすい問題がある。また、GaN基板においても、同様にその硬度が高くて脆い性質がある。
(1)基板の第1の主面上に半導体層を有する半導体素子の製造方法において、半導体層が設けられた基板を、複数の基板片に分離し、板状に保持された基板を形成する基板分離工程と、前記板状保持基板を、少なくとも基板表面の一部、若しくは少なくとも基板片の角部の一部を削り取る表面加工処理する表面加工工程と、を具備することを特徴とする。
(2)前記分離工程において、前記基板の表面加工面に、分離溝を形成する溝形成工程を具えて、前記基板片に分離することを特徴とする上記(1)記載の半導体素子の製造方法。
(3)前記溝形成工程において、少なくともレーザ照射することで分離溝を形成することを特徴とする上記(2)記載の半導体素子の製造方法。
(4)前記表面加工工程において、前記溝形成工程のレーザ照射処理により、溝部及びその周辺に設けられた生成物を、除去することを特徴とする上記(2)又は(3)記載の半導体素子の製造方法。
(5)前記表面加工処理に、ブラスト処理を用いることを特徴とする上記(1)乃至(4)のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
(6)前記表面加工が基板の第1の主面に対向する第2の主面側表面である上記(1)又は(2)記載の半導体素子の製造方法。
(7)前記板状保持基板が、半導体層側を粘着性シートに貼付されていることを特徴とする上記(1)乃至(6)のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
(8)前記粘着性シートが粘着層を有し、少なくとも前記半導体層より深い位置まで該粘着層に埋め込まれていることを特徴とする上記(7)記載の半導体素子の製造方法。
(9)前記基板がSiC、サファイアで、前記半導体層が、窒化物半導体である上記(1)乃至(8)のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
(10)前記板状保持基板の第2の主面の表面加工工程後に、板状保持基板の第2の主面のほぼ全面、及び溝部側面に、金属膜を形成する工程を具備することを特徴とする上記(1)乃至(9)のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
(11)前記分離工程前に、基板を研磨して基板厚さを薄くする基板研磨工程を具備することを特徴とする上記(1)乃至(10)のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
(12)上記(1)〜(11)記載の半導体素子の製造方法により、得られる半導体素子チップ。
本発明における分離工程は、図1Bに示すように、基板10を複数の基板片12(ウエハが分離された分離片13)に分離する。ここて、分離方法は、後述の分離溝を用いてブレイキングする方法の他に、レーザスクライブ、ダイサー、劈開などにより基板を分離することもできる。好ましくは、後述の分離溝を形成した後に、基板を切断(割断)、分離することで、表面加工工程において、溝形状から加工でき、効率的な加工が可能となる。
分離工程において、図1に示すように、粘着性のシート30などのような支持部材により、ウエハ50を貼り合わせて、保持されている状態であることが好ましい。これは、基板片12に分離後もウエハ状態51、具体的には元の基板における板状に保持させることができ、後に続く表面加工工程において、基板片12単位でなく、ウエハ単位(板状に保持された基板11単位)で処理できるため好ましい。また、支持体としては、粘着シートの他に、支持基板、具体的には半導体基板、金属基板など、に接着部材、粘着部材などを介して、ウエハを貼り合わせる方法であっても良い。好ましくは、チップの間隔を広げることが可能な、換言すれば伸長可能な板状部材、を用いること、具体的にはウエハシート、粘着シート、エキスパンドテープなどと呼ばれる粘着性シートを用いることができる。このとき、該支持部材30は、柔軟性がある、例えばフレキシブルシートである、と、基板10を押し割る際に基板を一時的に変形することが容易であり、基板分割に有利となり、後に続く表面加工工程において取り扱いやすい状態となり、好ましい。
上述した支持部材30は、図2Aに示すように、主に粘着部材(層)32若しくは接着部材(層)と、基材部(基体)31とに分けられ、この粘着・接着部材32中に基板片12、分離片13の一部が覆われて、埋め込まれる形態で接着される。このとき、図2Aに示すように、半導体層20aのほぼ全体が埋まる深さで、半導体層表面のほぼ全面が覆われていると、基板分割時の汚染物、生成物からの保護、表面加工時の砥粒、粒子などの加工媒体に晒されることから保護されるため、半導体素子構造が守られることになり、好ましい。更に好ましくは、図2Aに示すように、半導体層20aと、基板10の一部が埋まり、半導体層表面ほぼ全体と基板の一部表面が覆われる形態であることで、半導体層20aがその周辺部の基板領域を含めて保護されることで、その保護効果がより強固となり、保護効果の素子間ばらつきも少なくなる。
分離溝の形成方法としては、実施例で示すレーザスクライブの他に、基板表面を罫書きするカッタースクライブ、ダイサーなどの機械加工法、一般に半導体加工に用いられるドライエッチングなどのエッチング法を用いることができる。機械加工では、加工時の加工屑、粉塵などが表面に付着して汚染物となり、光取り出しに悪影響を与える場合がある。
本発明において、表面加工工程は、分離された基板片の基板一部、好ましくは、図2Bに示すように、角部(断面肩部)15、具体的には図5Aに示すようにチップの肩部、が加工されて平滑化されるような加工であることが好ましい。また、図2Bに示すように、基板裏面、基板露出表面に凹凸面が形成されることで、基板側からの光取り出し効率が高くなる傾向にあり、好ましい。
本発明における研磨工程は、基板を薄くする目的で付加的に追加される工程であり、基板分離前後、表面加工工程前後の何れでも良いが、基板を薄くする場合には分離前である方が、容易に研磨することができるため、好ましい。
本発明において、基板片12に、反射膜、実装用の共晶膜などのメタライズ層を形成する工程を附加することができる。具体的には、図3に示すように、基板分離、表面加工後に、板状保持基板のほぼ全面について、金属膜を形成する。金属膜は、その機能により好適な材料、積層構造、組成が選択され、例えば、発光素子における基板側反射膜を形成する場合には、Al、Agが好ましく、他に白金族元素を形成することもでき、共晶材料としてはAu−Sn、Pd−Snなどの積層構造を形成することができる。また、基板裏面側を実装面側とする場合、反射膜と共晶膜、実装面側の膜を積層する場合には、バリア層として、高融点金属膜、例えばMo,Wなどを付加的に設けることもできる。このような表面加工面側の膜形成は、溝部の形状として、上述した傾斜面16を有することで、図3に示すようにその傾斜部の基板側面も覆う膜が形成でき、強固な膜形成、好適な光反射を実現する反射膜を形成することができ好ましい。また、図5Aにみるような角部15(肩部)が加工されて面取りされた形態であると、基板裏面(第2の主面)から基板側面(溝部側面)を連続して覆う膜の接続部が強固となり、信頼性に優れた膜が形成できる。また、基板裏面が、図2B、5Cに示すように凹凸面14であると膜との界面の表面積が大きくなり、密着性が高くなる傾向にあり好ましく、また、基板と反射膜との界面における光散乱作用が得られ好ましい。
窒化物半導体の成長に用いる基板、特にエピタキシャル成長用の基板としては、具体的な材料としては、窒化物半導体と異なる材料の異種基板として、例えば、C面、R面、及びA面のいずれかを主面とするサファイア、スピネル(MgA12O4)のような絶縁性基板、SiC(6H、4H、3Cを含む)、ZnS、ZnO、GaAs、Si、及び窒化物半導体と格子整合する酸化物基板等、窒化物半導体を成長させることが可能で従来から知られており、窒化物半導体と異なる基板材料を用いることができ、また、異種基板の他にGaN、AlNなどの窒化物半導体基板なども用いることができる。本発明における好ましい基板としては、異種基板としては、硬度の高いサファイア、SiC、スピネルが挙げられ、またGaN基板も好適に用いられる。このような異種基板はオフアングルしていてもよく、この場合ステップ状にオフアングルしたものを用いると窒化物半導体からなる下地層の成長が結晶性よく成長させることができ、また面内の組成分布を好適なものとでき好ましい。更に、異種基板を用いる場合には、異種基板上に素子構造形成前の下地層となる窒化物半導体を成長させた後、異種基板を研磨、レーザリフトオフ法などの方法により除去して、窒化物半導体の単体基板として素子構造を形成してもよく、この場合除去後の単体基板が本発明の基板10となる。
本発明に係る窒化物半導体材料としては、特に限定されないが、具体的には、GaN、AlN、もしくはInN、又はこれらの混晶であるIII−V族窒化物半導体(InαAlβGa1−α−βN、0≦α、0≦β、α+β≦1)であり、またこれに加えて、III族元素として一部若しくは全部にBなどを用いたり、V族元素としてNの一部をP、As、Sbなどで置換したりした混晶でもよい。また、n型不純物として、Si、Ge、Se、Te、C等を用いることができる。p型不純物として、Mg、Zn、Be、Ca、Sr、Ba等を用いることができる。
本発明の発光素子の積層構造としては、基本的に基板上のn型層の上にp型層を積層してp型層が最表面となるように積層して、この最表面のp型層に電極を形成できる構造とする。具体的にはp−n接合を有するへテロ構造、p−i−n接合を有するヘテロ接合の発光素子、またホモ接合、MIS構造の発光素子等が挙げられる。部分的に別の素子を形成して集積した集積素子とすることもできる。また、素子構造における電極配置としては、図5に示すように、第1導電型層のn層21と、第2導電型層のp層23との間に活性層22を有する構造が積層され、積層面の同一面側に正負電極が設けられる構造であっても良く、基板を挟んで対向する半導体層表面と導電性基板の裏面(第2の主面)にそれぞれ正負電極が設けられる構造でも良い。また、基板側電極形成については上記金属膜形成により設けることもできる。また、発光素子以外の素子についても同様に、所望の素子構造、積層構造となるように、半導体層を形成する。
以上は、図示するように、基板表面(第1の主面)側に半導体層を有する場合に、基板裏面(第2の主面)側を、分離溝形成面、表面加工面としているが、この変形例として、半導体層側の基板面(第1の主面)側に、分離溝形成、表面加工処理を施す形態とすることもできる。この場合、表面加工工程においては、素子構造となる半導体層部分を保護膜で覆うなどして、具体的には溝部を保護膜から露出させて、その露出部を表面加工処理して、保護膜で覆われた半導体層を半導体加工時の損傷から回避すると良い。また、この場合、図2C,Dに示すように、基板表面(第1の主面)が露出しない場合(図2C)と、露出する場合と、に分けられるが、露出しない場合は、半導体層と基板とに溝部を形成し、露出する場合は、通常基板表面の露出部に基板の溝部を形成するが、露出しない場合と同様に半導体層形成部において半導体層と基板とに溝部を形成することができる。また、基板と半導体層が、同一材料系である場合、具体的には、GaN基板の上に、GaN系半導体層を有する形態の場合、には、基板まで溝部を形成せずに、半導体層だけに溝部を形成する形態とすることもできる。
実施例1において、基板分離せずに、基板研磨工程、レーザスクライブ(溝部形成工程)の後、ブラスト処理して(表面加工工程を経て)、最後にチップ状に分離する。
Claims (12)
- 基板の第1の主面上に半導体層を有する半導体素子の製造方法において
半導体層が設けられた基板を、複数の基板片に分離し、板状に保持された基板を形成する基板分離工程と、
前記板状保持基板を、少なくとも基板表面の一部、若しくは少なくとも基板片の角部の一部を削り取る表面加工処理する表面加工工程と、
を具備することを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 前記分離工程において、前記基板の表面加工面に、分離溝を形成する溝形成工程を具えて、前記基板片に分離することを特徴とする請求項1記載の半導体素子の製造方法。
- 前記溝形成工程において、少なくともレーザ照射することで分離溝を形成することを特徴とする請求項2記載の半導体素子の製造方法。
- 前記表面加工工程において、前記溝形成工程のレーザ照射処理により、溝部及びその周辺に設けられた生成物を、除去することを特徴とする請求項2又は3記載の半導体素子の製造方法。
- 前記表面加工処理に、ブラスト処理を用いることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
- 前記表面加工が基板の第1の主面に対向する第2の主面側表面である請求項1又は2記載の半導体素子の製造方法。
- 前記板状保持基板が、半導体層側を粘着性シートに貼付されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
- 前記粘着性シートが粘着層を有し、少なくとも前記半導体層より深い位置まで該粘着層に埋め込まれていることを特徴とする請求項7記載の半導体素子の製造方法。
- 前記基板がSiC、サファイアで、前記半導体層が、窒化物半導体である請求項1乃至8のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
- 前記板状保持基板の第2の主面の表面加工工程後に、板状保持基板の第2の主面のほぼ全面、及び溝部側面に、金属膜を形成する工程を具備することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
- 前記分離工程前に、基板を研磨して基板厚さを薄くする基板研磨工程を具備することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項記載の半導体素子の製造方法。
- 請求項1〜11記載の半導体素子の製造方法により、得られる半導体素子チップ。
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