JP2007106751A - 塩化メチルガスを分解的にスクラビングする方法 - Google Patents

塩化メチルガスを分解的にスクラビングする方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007106751A
JP2007106751A JP2006239700A JP2006239700A JP2007106751A JP 2007106751 A JP2007106751 A JP 2007106751A JP 2006239700 A JP2006239700 A JP 2006239700A JP 2006239700 A JP2006239700 A JP 2006239700A JP 2007106751 A JP2007106751 A JP 2007106751A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
methyl chloride
salt
solvent
scrubbing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006239700A
Other languages
English (en)
Inventor
Gabriele Razzetti
ラッツェッティ ガブリエレ
Pietro Allegrini
アッレグリーニ ピエトロ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dipharma SpA
Original Assignee
Dipharma SpA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dipharma SpA filed Critical Dipharma SpA
Publication of JP2007106751A publication Critical patent/JP2007106751A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/68Halogens or halogen compounds
    • B01D53/70Organic halogen compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/20Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/206Organic halogen compounds
    • B01D2257/2064Chlorine

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Abstract

【課題】発明は、工業規模の反応の間に生成するその塩化メチル含有ガスを効率的にスクラビングして、容易に処理できる毒性の少ない化合物に変えることができる方法の提供。
【解決手段】塩化メチル含有ガスを、硫黄を含む有機化合物の塩を含むスクラビング溶液と接触させることを含む塩化メチルを分解的にスクラビングする。
【選択図】なし

Description

この発明は塩化メチルをスクラビングする新規な方法に関する。
塩化メチルは、エチルクロロホルメートによるメチルアミノ残基のウレタンへの転換におけるような種々の化学反応の間に、副生物として形成され得る毒性の高いガスである。
塩化メチルをスクラビング(scrubbing)する多くの方法が知られている。例えば、特許文献1は従来の方法に対して数個の利点を持った方法を特許請求しているが、この方法は、またガスのすべてが溶液中に保持されているという不利益も有する。特に、この特許はエタノールアミン、水および水と混和性の溶媒との混合物から成るスクラビングシステムを開示している。しかし、低い方の濃度ではすべての塩化メチルをスクラビングするためには異常に長時間を要するということもあるので、スクラビングは加えられたエタノールアミンの約50%が消費されるまでしか効果的ではない。それゆえ、より高価でない試薬を使用する、より効果的な工業的プロセスに対する要求は依然として存在している。
USP.5,419,885号公報
発明は、工業規模の反応の間に生成するそのガスを、捕えるために十分なレベルまで、溶解している塩化メチルを捕集することのできるスクラビング溶液を用いて、塩化メチルを分解的にスクラビングする方法を提供すること、およびその溶液は塩化メチルと反応し、容易に処理できる毒性の少ない化合物に変えることができる方法の提供を目的とする。
発明のプロセスは、塩化メチル含有ガスを、硫黄を含む有機化合物の塩を含むスクラビング溶液と接触させることを含む。
塩は、例えば、アルカリまたはアルカリ土類金属と、好ましくは1または2個の硫黄原子を含む有機化合物との塩であり得る。
アルカリまたはアルカリ土類金属は、ナトリウム、カリウム、カルシウムまたはバリウムで、特にナトリウムである。
発明は、工業規模の反応の間に生成するそのガスを、捕えるために十分なレベルまで、溶解している塩化メチルを捕集することのできるスクラビング溶液を用いて、塩化メチルを分解的にスクラビングする方法でその溶液は塩化メチルと反応し、容易に処理できる毒性の少ない化合物に変えることができるので工業的に極めて有用である。
発明のプロセスは、塩化メチル含有ガスを、硫黄を含む有機化合物の塩を含むスクラビング溶液と接触させることを含む。
塩は、例えば、アルカリまたはアルカリ土類金属と、好ましくは1または2個の硫黄原子を含む有機化合物との塩であり得る。
アルカリまたはアルカリ土類金属は、ナトリウム、カリウム、カルシウムまたはバリウムで、特にナトリウムである。
硫黄を含む有機化合物は、チオフェノール、C1−C4アルキル−チオカルボン酸、C1−C4アルキル−チアカルボン酸または(C1−C4アルキル)2−ジチオカルバミン酸、好ましくは(C1−C4アルキル)2−ジチオカルバミン酸である。
上掲の化合物において、C1−C4アルキル基は例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピルまたはブチル、特にメチルまたはエチル、好ましくはメチルである。(C1−C4アルキル)2グループにおいて、各アルキル基は、同じであっても異なってもよく、例えば上に定義したように好ましくはメチルまたはエチルである。
硫黄を含む有機化合物の塩の特定の例は、ナトリウムチオフェネート、ナトリウムメチルチオアセテート、ナトリウムメチル−チアアセテートおよび好ましくはナトリウム(C1−C4アルキル)2−ジチオカーバメート、特にナトリウムジメチルジチオカルバメートおよびナトリウムジエチルジチオカーバメート、より好ましくはナトリウムジメチルジチオカーバメートである。
スクラビング溶液の溶媒は水またはその中に塩化メチルおよび硫黄含有有機化合物塩が溶解する有機溶媒、またはこの有機溶媒の2またはそれ以上の混合物、またはそれらの1またはそれ以上と水との混合物であり得る。有機溶媒の混合物は好ましくは2または3種の溶媒からなる。
有機溶媒は、例えば、芳香族炭化水素、好ましくはトルエンまたはキシレン;エーテル、好ましくはテトラヒドロフランまたはジオキサン;エステル、好ましくは酢酸エチルまたは酢酸ブチル;両性の非プロトン性溶媒、好ましくはジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドまたはN−メチルピロリドン;C1−C4アルカノール、好ましくはメタノールまたはイソプロパノール;ニトリル、好ましくはアセトニトリル;または塩素化溶媒、好ましくはジクロロメタンであり得る。
スクラビング溶液の溶媒は、好ましくは水またはトルエン−水、テトラヒドロフラン−水、メタノール−水、またはイソプロパノール−水混合物であり、特に水、またはメタノール−水またはテトラヒドロフラン−水混合物である。
スクラビング溶液中の塩のスクラブすべき塩化メチルに対するモル比は、典型的には10:1から1:1までの範囲、好ましくは約5:1から1.5:1、より好ましくは2:1から1.2:1である。
スクラビング溶液に使われる溶媒の量は、反応混合物中の塩化メチルを完全に溶解するために十分であるべきで、その量は使用する溶媒に依り、典型的には塩の量の1.2〜5倍量である。スクラビング溶液中の水の量は好ましくは硫黄含有有機化合物塩の飽和溶液を形成するために十分であるべきである。
以下に述べる実施例は発明を例証するものである。
実施例1
0℃で300mlのジクロロメタンを入れた容器と結合した密封反応器に228gのナトリウムジメチルジチオカーバメートの40%水溶液を充填する。4.7gの塩化メチルをその溶液に気泡状で42分かけて注入する。メチルジメチルジチオカーバメートが沈澱する。ジクロロメタン溶液へのガスの進入は認められない。バブリングが終った後、容器中の溶液の中味をNMRで分析し、塩化メチルは無視できる量を示す。
実施例2
0℃で300mlのジクロロメタンを入れた容器と結合した密封した反応器に98gの40%ナトリウムジメチルジチオカーバメート水溶液と200mlのメタノールとを充填する。4.7gの塩化メチルをその溶液に40分かけて気泡状で注入する。メチルジメチルジチオカーバメートが添加の終了のころ沈澱しはじめる。ジクロロメタン溶液へのガスの進入は認められない。バブリング終了後、容器中の溶液の中味をNMRで分析し、塩化メチルは無視できる量を示す。
実施例3
150mlのジクロロメタンを入れた容器と接続した密閉反応器に90gの40%ナトリウムジメチルジチオカーバメート水溶液と72gのテトラヒドロフランを充填する。二相性の混合物が形成される。ついで7.2gの塩化メチルを溶液に気泡状で20分かけて注入する。ジクロロメタン溶液へのガスの進入は認められない。バブリング終了後、容器内の溶液の中味をNMRで分析し、塩化メチルは無視できる量を示す。スクラビング混合物の重さは7.1gの増加が認められる。6時間後、有機相を分離し、NMRによりメチルジメチルジチオカーバメートが分析され(内部標準として1,4ジメトキシベンゼンを使用)、開始時の塩化メチルに対し、モルで95%を超える増加を示す。
実施例4
150mlのジクロロメタンを入れた容器と結合した密封した反応器に60gのナトリウムジエチルジチオカーバメートトリハイドレートおよび140mlの水を充填する。72gのテトラヒドロフランが混合物に加えられた。ついで7.0gの塩化メチルが20分かけてその溶液に気泡状で加えられる。ジクロロメタン溶液へのガスの進入は認められない。バブリング終了後、容器中の溶液の中味がNMRで分析され、塩化メチルは無視できる量を示す。スクラビング混合物の重さは6.9gの増加が認められる。6時間後、有機相は分離され、メチルジエチルジチオカーバメートがNMRで分析され(内部標準として1,4ジメトキシベンゼンを使用)、開始時の塩化メチルに対し、モルで95%を超える増加を示す。

Claims (12)

  1. 塩化メチルを硫黄を含む有機化合物の塩を含むスクラビング溶液と接触させることを含む塩化メチルを分解的にスクラビングする方法。
  2. 前記塩がアルカリまたはアルカリ土類金属と一または二個の硫黄原子を含む有機化合物との塩である請求項1記載の方法。
  3. 前記有機化合物がチオフェノール、C1−C4アルキル−チオカルボン酸、C1−C4アルキル−チアカルボン酸または(C1−C4アルキル)2−ジチオカルバミン酸である請求項1または2記載の方法。
  4. 前記有機化合物の塩が、ナトリウムチオフェネート、ナトリウムメチルチオアセテート、ナトリウムメチルチアアセテートまたはナトリウム(C1−C4アルキル)2−ジチオカルバメートである請求項1または2記載の方法。
  5. 前記スクラビング溶液の溶媒が、水または塩化メチルおよび硫黄含有有機化合物の塩がその中に溶解する有機溶媒か、またはそれらの2またはそれ以上の混合物か、またはそれらの1またはそれ以上と水との混合物である請求項1記載の方法。
  6. 前記有機溶媒が芳香族炭化水素;エーテル;エステル;両性非プロトン性溶媒;C1−C4アルカノール;ニトリル、または塩素化された溶媒である請求項5記載の方法。
  7. 前記溶液の溶媒が水、またはトルエン−水、テトラヒドロフラン−水、メタノール−水、またはイソプロパノール−水混合物である請求項5記載の方法。
  8. 前記溶媒が水、またはメタノール−水またはテトラヒドロフラン−水混合物である請求項7記載の方法。
  9. 前記スクラビング溶液中の塩とスクラブすべき塩化メチルとのモル比が、10:1から1:1の範囲である請求項1記載の方法。
  10. 前記スクラビング溶液中に使われる溶媒の量が、塩化メチルと硫黄含有有機化合物の塩を完全に溶解するために十分である請求項1記載の方法。
  11. 前記溶媒の量が塩の量に対して1.2から5容量比である請求項10記載の方法。
  12. 前記スクラビング溶液が、硫黄含有有機化合物の塩の飽和溶液を生成するのに十分な水の量を含む請求項10記載の方法。
JP2006239700A 2005-09-06 2006-09-05 塩化メチルガスを分解的にスクラビングする方法 Pending JP2007106751A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT001635A ITMI20051635A1 (it) 2005-09-06 2005-09-06 Metodo per l'abbattimento distruttivo del gas cloruro di metile

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007106751A true JP2007106751A (ja) 2007-04-26

Family

ID=37433784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006239700A Pending JP2007106751A (ja) 2005-09-06 2006-09-05 塩化メチルガスを分解的にスクラビングする方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20070053819A1 (ja)
EP (1) EP1759758A1 (ja)
JP (1) JP2007106751A (ja)
CA (1) CA2558751A1 (ja)
IL (1) IL177892A0 (ja)
IT (1) ITMI20051635A1 (ja)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5159072A (en) * 1990-10-05 1992-10-27 Eastman Kodak Company Dichloromethane abatement
JP2831869B2 (ja) * 1991-12-27 1998-12-02 日本ペイント株式会社 ハロゲン化炭化水素の分解処理方法
US5419885A (en) 1993-12-15 1995-05-30 Schering Corporation Method for the destructive scrubbing of methyl chloride gas
DE19518797A1 (de) * 1995-05-22 1996-11-28 Hoechst Ag Verfahren zum Reinigen von Inertgasen
DE19841513A1 (de) * 1997-11-25 1999-05-27 Metallgesellschaft Ag Verfahren zur Reinigung von Abgasen aus Verbrennungsanlagen
US6858562B1 (en) * 1999-09-29 2005-02-22 Mitsui Chemicals, Inc. Catalyst for decomposing organic harmful substances and method for decomposing organic halides by use thereof
US20040166043A1 (en) * 2003-02-24 2004-08-26 Vandine Robert W. Gas scrubbing reagent and methods for using same
US7678353B2 (en) * 2004-10-25 2010-03-16 Value Recovery, Inc. Process for scrubbing alkyl halides from gases

Also Published As

Publication number Publication date
CA2558751A1 (en) 2007-03-06
EP1759758A1 (en) 2007-03-07
US20070053819A1 (en) 2007-03-08
IL177892A0 (en) 2006-12-31
ITMI20051635A1 (it) 2007-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2818736T3 (es) Método de fluoración aromática
WO2020084854A1 (ja) 含フッ素イミド塩化合物及び界面活性剤
JP4341055B2 (ja) N−(シクロヘキシルチオ)フタルイミドの製造方法
EA200801745A1 (ru) Новый хлорирующий реагент и новый способ для хлорирования сахаров с использованием тионил хлорида
JP5928149B2 (ja) イミド酸化合物の製造方法
JP2007106751A (ja) 塩化メチルガスを分解的にスクラビングする方法
RU2217434C1 (ru) Способ получения высокочистого цефподоксима проксетила
BR112018007505B1 (pt) PROCESSO INDUSTRIAL PARA A PREPARAÇÃO DE SAL DE (E)-3-CARBOXIACRILATO DE (5S,10S)-10-BENZIL16-METIL-ll,14,18-TRIOXO-15,17,19-TRIOXA-2,7,8-TRITIA-12-AZA-HENICOSAN-5-AMÍNIO
PL103103B1 (pl) Sposob wytwarzania pochodnych 2-chlorosulfinyloazetydynonu-4
US5874658A (en) Purification of organic fluorine compounds
US20230382887A1 (en) Process for the preparation of chlorantraniliprole
JP5250478B2 (ja) 廃棄物の処理方法
JPWO2008047812A1 (ja) 親水性単量体の製造方法
EP3845520B1 (en) Synthesis of monofunctional thiuram accelerator
JP2006193480A (ja) 1,3−ジベンジル−2−オキソイミダゾリジン−4,5−ジカルボン酸の製造方法
JP2013060517A (ja) 重金属処理剤、重金属処理剤の製造方法およびそれを用いた重金属含有物の処理方法
JP2008303173A (ja) チオジグリコール酸ジメチルの製造方法
ES2824551T3 (es) Método de fluoración de compuestos aromáticos
JP5885159B2 (ja) 環状ウレタンの製造方法
JP2006232742A (ja) 2,3−ビス(ベンジルアミノ)コハク酸の製造方法
ES2302658B1 (es) Preparacion de derivados de insotiazolinona n-sustituidos.
JP2005179289A (ja) 6−アルコキシ−2−ナフタレンチオールおよびその製造方法
JP2003238510A (ja) シアノ酢酸t−ブチルの製造方法
JP2011207872A (ja) 保存安定性に優れたピリジンカルボン酸無水物、及びその製造方法
BR112014020118B1 (pt) processo para a preparação de cloroaminas