JP2007103914A5 - - Google Patents
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- 光硬化樹脂にパターンをインプリントするモールドであって、
前記モールドは、第１の材料からなるモールド基板に構成される該モールドの凹部と、該モールドの凸部を構成する表面層とを有し、
前記表面層は、第２の材料からなり、かつ、前記光硬化樹脂にパターンを形成するための層であって、
前記第１および第２の材料は、該第２の材料に比べて該第１の材料が選択的にエッチングされ得る材料の組み合わせからなり、
前記第１および第２の材料は、紫外光の少なくとも一部の波長域に対し、前記光硬化樹脂を硬化させることが可能な光学的透過率を有することを特徴とするモールド。 - 前記第１の材料の前記第２の材料に対するエッチング速度比が、１０以上であることを特徴とする請求項１記載のモールド。
- 前記第２の材料は、３６５ｎｍの波長に対して３０％以上の透過率を有することを特徴とする請求項１記載のモールド。
- 前記表面層は前記モールドの凸部の一部を構成することを特徴とする請求項１記載のモールド。
- 前記表面層は前記モールドの凸部の全部を構成することを特徴とする請求項１記載のモールド。
- 前記第１の材料が酸化シリコンであり、前記第２の材料が窒化シリコン、酸化チタン、酸化アルミニウム、フッ化カルシウム、ＩＴＯのいずれかの材料であることを特徴とする請求項１記載のモールド。
- モールドを通じた紫外光の照射により光硬化樹脂を硬化させてインプリントするインプリント装置であって、前記モールドとして、請求項１記載のモールドを備えていることを特徴とするインプリント装置。
- デバイスの製造方法であって、
請求項１記載のモールドを用意する工程、
前記モールドを光硬化樹脂に接触させる工程、
前記モールドを通じて紫外光を照射する工程、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 樹脂にパターンをインプリントするモールドであって、
前記モールドは、第１の材料からなるモールド基板に構成される該モールドの凹部と、該モールドの凸部を構成する表面層とを有し、
前記表面層は、第２の材料からなり、かつ、前記樹脂にパターンを形成するための層であって、
前記第１および第２の材料は、該第２の材料に比べて該第１の材料が選択的にエッチングされ得る材料の組み合わせからなり、
前記第１および第２の材料は、光学的計測が可能な光学的透過率を有することを特徴とするモールド。 - 光硬化樹脂にパターンをインプリントするモールドであって、
前記モールドは、第１の材料からなるモールド基板に構成される該モールドの凹部と、該モールドの凸部を構成する表面層とを有し、
前記表面層は、第２の材料からなり、かつ、前記光硬化樹脂にパターンを形成するための層であって、
前記第１および第２の材料は、該第２の材料に比べて該第１の材料が選択的にエッチングされ得る材料の組み合わせからなり、
前記第１および第２の材料は、前記光硬化樹脂を硬化させることが可能な光学的透過率を有することを特徴とするモールド。
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