JP2007103564A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】p型SiCベース領域6との隣接面から法線方向に伸びる素子単位構造内のn型SiCデプレッション領域10の幅17とn型SiCデプレッション領域10における不純物の体積濃度との積に相当する不純物面密度を2.5×1012cm-2乃至7.5×1012cm-2の範囲内とし、かつp型SiCベース領域6のうちn型SiCソース領域4とn型SiCデプレッション領域10とに挟まれた部分(p型SiCベース領域7に相当)より下部に位置するp型SiCベース領域6とn型SiCドリフト層2との境界部分の近傍(p型SiCベース領域8に相当)におけるp型不純物濃度を1.5×1017cm-3乃至2.5×1017cm-3の範囲内とする。
【選択図】図1
Description
本実施の形態は、炭化シリコンデプレッション領域の不純物面密度(定義は後述)、および、炭化シリコンベース領域内の不純物濃度を最適値とすることで、素子寸法が縮小された素子構造においても、炭化シリコンベース領域・炭化シリコンドリフト層間の降伏電圧の確保、炭化シリコンデプレッション領域におけるオン抵抗の低減、および、ソース・ドレイン間耐圧印加時のゲート絶縁膜中の電界値上昇の抑制、が可能なSiCパワーデバイスたる半導体装置である。
本実施の形態は、実施の形態1に係る半導体装置の変形例であって、実施の形態1における半導体装置において、チャネル層を追加形成したものである。
実施の形態1においては、n型SiCドリフト層2の表面にp型層3とn型SiCソース領域4とをイオン注入によって形成する製造方法を示した。しかし、それ以外にも、n型SiCドリフト層2上の全面にp型SiC層(図示せず)をエピタキシャル成長させたのち、p型SiC層の、n型SiCソース領域4となる部分およびn型SiCデプレッション領域10となる部分に、n型不純物をイオン注入することにより、図1および図5、図6の構成を製造してもよい。
Claims (2)
- 第1導電型の炭化シリコン基板と、
前記炭化シリコン基板上に形成された、少なくとも一つの素子単位構造と
を備え、
前記素子単位構造は、
前記炭化シリコン基板上に位置する、前記第1導電型の炭化シリコンドリフト層と、
前記炭化シリコンドリフト層上に位置する、前記第1導電型とは異なる第2導電型の炭化シリコンベース領域と、
前記炭化シリコンベース領域に隣接しつつ前記炭化シリコンドリフト層上に位置する、前記第1導電型の炭化シリコンデプレッション領域と、
前記炭化シリコンドリフト層および前記炭化シリコンデプレッション領域からは離隔しつつ前記炭化シリコンベース領域に隣接する、前記第1導電型の炭化シリコンソース領域と、
前記炭化シリコンベース領域のうち前記炭化シリコンソース領域と前記炭化シリコンデプレッション領域とに挟まれた部分の上、及び、前記炭化シリコンデプレッション領域上に位置する、ゲート絶縁膜およびゲート電極の積層構造と
を有し、
前記炭化シリコンデプレッション領域には、前記第1導電型の第1不純物が注入されており、
前記炭化シリコンベース領域との隣接面から法線方向に伸びる、前記素子単位構造内の前記炭化シリコンデプレッション領域の長さと、前記第1不純物の体積濃度と、の積に相当する不純物面密度は、1.5×1012cm-2乃至7.5×1012cm-2の範囲内にあり、
前記炭化シリコンベース領域のうち前記炭化シリコンソース領域と前記炭化シリコンデプレッション領域とに挟まれた部分から、前記炭化シリコンベース領域と前記炭化シリコンドリフト層との境界部分にかけて、前記第2導電型の第2不純物がドーピングされており、
前記第2不純物の濃度は、少なくとも前記境界部分の近傍で、1.5×1017cm-3乃至5.0×1017cm-3の範囲内にある
半導体装置。 - 前記炭化デプレッション領域の長さと、前記第1不純物の体積濃度と、の積に相当する不純物面密度は、2.5×1012cm-2乃至7.5×1012cm-2の範囲内にあり、
前記炭化シリコンベース領域のうち前記炭化シリコンソース領域と前記炭化シリコンデプレッション領域とに挟まれた部分から、前記炭化シリコンベース領域と前記炭化シリコンドリフト層との境界部分にかけて、ドーピングされた前記第2導電型の第2不純物の濃度は、少なくとも前記境界部分の近傍で、1.5×1017cm-3乃至2.5×1017cm-3の範囲内にある
請求項1記載の半導体装置。
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