JP2007092120A - 軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心 - Google Patents
軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007092120A JP2007092120A JP2005283064A JP2005283064A JP2007092120A JP 2007092120 A JP2007092120 A JP 2007092120A JP 2005283064 A JP2005283064 A JP 2005283064A JP 2005283064 A JP2005283064 A JP 2005283064A JP 2007092120 A JP2007092120 A JP 2007092120A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic particles
- metal
- metal magnetic
- soft magnetic
- magnetic material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
【課題】高強度の成形体を得ることができ、かつ絶縁被膜を形成した後の酸性水溶液の処理の問題が生じない軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心を提供する。
【解決手段】軟磁性材料の製造方法は、金属磁性粒子10と、金属磁性粒子10を被覆する絶縁被膜20とを有する複数の複合磁性粒子30を備えた軟磁性材料の製造方法であって、金属磁性粒子10を酸性溶液に浸漬することで金属磁性粒子10の表面に凹凸を形成する凹凸形成工程と、凹凸形成工程後、金属磁性粒子10の表面に絶縁被膜20を形成する絶縁被膜形成工程とを備えている。絶縁被膜形成工程は、金属磁性粒子10を有機溶剤に分散させる工程と、金属アルコキシドおよびリン酸水溶液を有機溶剤に加える工程と、金属磁性粒子10の表面を乾燥して有機溶剤を除去する工程とを含んでいる。
【選択図】図1
【解決手段】軟磁性材料の製造方法は、金属磁性粒子10と、金属磁性粒子10を被覆する絶縁被膜20とを有する複数の複合磁性粒子30を備えた軟磁性材料の製造方法であって、金属磁性粒子10を酸性溶液に浸漬することで金属磁性粒子10の表面に凹凸を形成する凹凸形成工程と、凹凸形成工程後、金属磁性粒子10の表面に絶縁被膜20を形成する絶縁被膜形成工程とを備えている。絶縁被膜形成工程は、金属磁性粒子10を有機溶剤に分散させる工程と、金属アルコキシドおよびリン酸水溶液を有機溶剤に加える工程と、金属磁性粒子10の表面を乾燥して有機溶剤を除去する工程とを含んでいる。
【選択図】図1
Description
本発明は、軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心に関し、より特定的には、金属磁性粒子と、金属磁性粒子を被覆する絶縁被膜とを有する複数の複合磁性粒子を備えた軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心に関する。
電磁弁、モータ、または電源回路などを有する電気機器には、軟磁性材料を加圧成形した圧粉磁心が使用されている。この軟磁性材料は、複数の複合磁性粒子よりなっており、複合磁性粒子は金属磁性粒子と、その表面を被覆するガラス状の絶縁被膜とを有している。軟磁性材料には、小さな磁場の印加で大きな磁束密度を得ることができ、外部からの磁界変化に対して敏感に反応できる磁気的特性が求められる。
圧粉磁心を交流磁場で使用した場合、鉄損と呼ばれるエネルギー損失が生じる。この鉄損は、ヒステリシス損と渦電流損との和で表わされる。ヒステリシス損を低下させるためには、金属磁性粒子内の歪や転位を除去して磁壁の移動を容易にすることで、圧粉磁心の保磁力Hcを小さくすればよく、また、渦電流損を低下させるためには、金属磁性粒子を絶縁被膜で被覆し、金属磁性粒子間の絶縁性を確保することで、軟磁性材料の電気抵抗率ρを大きくすればよい。
金属磁性粒子内の歪や転位を除去するためには、成形した圧粉磁心を400℃以上の高温、好ましくは550℃もしくは650℃以上の高温で熱処理する必要がある。しかしながら、圧粉磁心を400℃以上の高温で熱処理しようとすると、絶縁被膜が熱により破壊されてしまい、圧粉磁心の電気抵抗率ρが低下し、渦電流損が大きくなってしまうという問題がある。このため、耐熱性の高い絶縁被膜が求められている。
また、上述のように、圧粉磁心は軟磁性材料を加圧成形することによって製造されるため、軟磁性材料の加圧成形の際に、絶縁被膜が圧力によって破壊されやすい。その結果、鉄粉の粒子同士が電気的に短絡しやすくなり、渦電流損自体が増大するという問題がある。このため、金属磁性粒子表面との密着性の高い絶縁被膜が求められている。
また、従来の軟磁性材料には、加圧成形して得られる成形体の強度が低いという問題があり、十分な強度を有する圧粉磁心を製造することが困難であった。
このため、圧粉磁心の絶縁性および強度を向上させる方法について、従来から種々の検討がなされている。
高い絶縁性と磁束密度を得る技術として、たとえば特開2003−272911号公報(特許文献1)および特開2005−113258号公報(特許文献2)には、強磁性体金属粉末の表面を、アルミニウムを含有するリン酸塩またはリン酸化合物で被覆した被覆金属粉末に関する技術が開示されている。
また、非特許文献1には、鉄粉を硫酸で処理し、鉄粉の表面粗度を大きくすることにより、成形体強度を改善することが報告されている。
特開2003−272911号公報
特開2005−113258号公報
P.Lefebvre et. al., Powder Metallurgy 1999, vol.42 No.4 P.325-330
上述のように、高い絶縁性を有するとともに、十分な強度を有する圧粉磁心を製造することのできる軟磁性材料は、現在最も要求されているところではあるが、未だ得られていない。
前記特許文献1および2には、流動状態にある金属磁性粒子粉末に、アルミニウムを含有するリン酸塩またはリン酸化合物などを噴霧することにより被覆する方法が記載されているが、金属磁性粒子表面の酸化被膜を十分除去しないまま絶縁被膜が形成されているので、金属磁性粒子表面との密着性の高い絶縁被膜を有する軟磁性材料を得ることが困難である。また、この方法では、金属磁性粒子表面に凹凸を形成することが困難であり、この方法によって得られた軟磁性材料を用いて作製された圧粉磁心は、十分な強度を有さない。
そこで、本発明の目的は、高強度の成形体を得ることができ、かつ高い絶縁性を有する軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心を提供することである。
本発明の軟磁性材料の製造方法は、金属磁性粒子と、金属磁性粒子を被覆する絶縁被膜とを有する複数の複合磁性粒子を備えた軟磁性材料の製造方法であって、金属磁性粒子を酸性溶液に浸漬することで金属磁性粒子の表面に凹凸を形成する凹凸形成工程と、凹凸形成工程後、金属磁性粒子の表面に絶縁被膜を形成する絶縁被膜形成工程とを備えている。絶縁被膜形成工程は、金属磁性粒子を有機溶剤に分散させる工程と、金属アルコキシドおよびリン酸水溶液を有機溶剤に加える工程と、金属磁性粒子の表面を乾燥して有機溶剤を除去する工程とを含んでいる。
本発明の軟磁性材料の製造方法によれば、凹凸形成工程において金属磁性粒子を酸性溶液に浸漬することによって、金属磁性粒子の表面に粒子径の100分の1程度のオーダーの微細な凹凸が形成される。成形体においてはこの凹凸により複合磁性粒子同士が接合するので、複合磁性粒子同士の摩擦が大きくなる。その結果、高強度の成形体を得ることができる。また、絶縁被膜形成工程前に金属磁性粒子を酸性溶液に浸漬することにより、金属磁性粒子表面の酸化物被膜を除去することができるため、この後に行なう絶縁被膜形成処理をより効率的に行なうことができる。そのため、金属磁性粒子表面と絶縁被膜との密着強度が高く、均一な膜厚の絶縁被膜を形成することができる。
本発明の軟磁性材料は、上記の製造方法を用いて製造される。また、本発明の圧粉磁心は、上記の軟磁性材料を用いて製造される。これにより、高い絶縁性を有するとともに高強度の成形体を得ることができる。
本発明の軟磁性材料の製造方法によれば高い絶縁性を有する軟磁性材料を得ることができるとともに、該軟磁性材料を用いることにより、高強度の圧粉磁心を得ることができる。
以下、本発明の一実施の形態について図に基づいて説明する。
図1は、本発明の一実施の形態における軟磁性材料を用いて作製された圧粉磁心を拡大して示した模式図である。図1に示すように、本実施の形態における軟磁性材料を用いて作製された圧粉磁心は、金属磁性粒子10と、金属磁性粒子10の表面を被覆する絶縁被膜20とを有する複数の複合磁性粒子30を含んでいる。複数の複合磁性粒子30の各々は、たとえば複合磁性粒子30の各々の間に介在している有機物40や、複合磁性粒子30が有する凹凸の噛み合わせなどによって接合されている。なお、複合磁性粒子30の各々は、絶縁被膜20を覆うように形成された保護被膜(図示なし)をさらに有していてもよく、有機物40はなくてもよい。
図1は、本発明の一実施の形態における軟磁性材料を用いて作製された圧粉磁心を拡大して示した模式図である。図1に示すように、本実施の形態における軟磁性材料を用いて作製された圧粉磁心は、金属磁性粒子10と、金属磁性粒子10の表面を被覆する絶縁被膜20とを有する複数の複合磁性粒子30を含んでいる。複数の複合磁性粒子30の各々は、たとえば複合磁性粒子30の各々の間に介在している有機物40や、複合磁性粒子30が有する凹凸の噛み合わせなどによって接合されている。なお、複合磁性粒子30の各々は、絶縁被膜20を覆うように形成された保護被膜(図示なし)をさらに有していてもよく、有機物40はなくてもよい。
図2は、図1の複合磁性粒子の表面の拡大図である。図2を参照して、複合磁性粒子30には粒径の100分の1程度のオーダーの微細な凹凸31が多数形成されている。これらの凹凸31の噛み合わせによって複合磁性粒子30の各々は互いに接合されている。
図1を参照して、複合磁性粒子30の平均粒径は、5μm以上300μm以下であることが好ましい。複合磁性粒子30の平均粒径が5μm以上である場合、金属が酸化されにくくなるため、軟磁性材料の磁気的特性の低下を抑止できる。また、複合磁性粒子30の平均粒径が300μm以下である場合、加圧成形時において混合粉末の圧縮性が低下することを抑止できる。これにより、加圧成形によって得られた成形体の密度が低下せず、取り扱いが困難になることを防ぐことができる。
なお、平均粒径とは、ふるい法によって測定した粒径のヒストグラム中、粒径の小さいほうからの質量の和が総質量の50%に達する粒子の粒径、つまり50%粒径をいう。
金属磁性粒子10は、たとえばFe、Fe−Si系合金、Fe−Al(アルミニウム)系合金、Fe−N(窒素)系合金、Fe−Ni(ニッケル)系合金、Fe−C(炭素)系合金、Fe−B(ホウ素)系合金、Fe−Co(コバルト)系合金、Fe−P系合金、Fe−Ni−Co系合金、Fe−Cr(クロム)系合金あるいはFe−Al−Si系合金などから形成されている。金属磁性粒子10はFeを主成分としていればよく、金属単体でも合金でもよい。
絶縁被膜20は、金属磁性粒子10間の絶縁層として機能する。金属磁性粒子10を絶縁被膜20で覆うことによって、この軟磁性材料を加圧成形して得られる圧粉磁心の電気抵抗率ρを大きくすることができる。これにより、金属磁性粒子10間に渦電流が流れるのを抑制して、圧粉磁心の渦電流損を低減させることができる。絶縁被膜20は、たとえば金属としてAl、Si、Ti、またはZrを用いたリン酸金属塩化合物などの絶縁性物質よりなっている。
絶縁被膜20の厚みは、0.005μm以上20μm以下であることが好ましい。絶縁被膜20の厚みを0.005μm以上とすることによって、トンネル電流の発生を防止でき、渦電流によるエネルギー損失を効果的に抑制することができる。また、絶縁被膜20の厚みを20μm以下とすることによって、軟磁性材料に占める絶縁被膜20の割合が大きくなりすぎない。このため、この軟磁性材料を加圧成形して得られる圧粉磁心の磁束密度が著しく低下することを防止できる。
続いて、図1に示す圧粉磁心を製造する方法について説明する。図3は、本発明の一実施の形態における圧粉磁心の製造方法を工程順に示す図である。
図3を参照して、始めに、Feを主成分としており、たとえば純度99.8%以上の純鉄や、Fe、Fe−Si系合金、またはFe−Co系合金などよりなる金属磁性粒子10の原料粉末を準備する(ステップS1)。
金属磁性粒子10は、たとえばガスアトマイズ粉であってもよいし、水アトマイズ粉であってもよい。ここで、ガスアトマイズ粉とは、金属磁性粒子となる材料の溶湯を高圧のガスにより噴霧し、気体で急冷することで得られる粉体であり、水アトマイズ粉とは、金属磁性粒子となる材料の溶湯を高圧の水流により水中へ噴霧することで得られる粉体である。
金属磁性粒子10が水アトマイズ粉である場合には、金属磁性粒子10の表面には多数の突起部が存在し、加圧成形時に絶縁被膜が破壊されやすい。そこで、これらの突起部を除去するために、次に金属磁性材料10の表層を平滑化する(ステップS1a)。具体的には、ボールミルを用いて軟磁性材料の表面を摩耗させ、金属磁性粒子10の表面の突起部を除去する。ボールミル加工時間を長くする程、突起部は除去されるので、金属磁性粒子10の形状は真球に近くなる。ボールミル加工時間はたとえば30分〜60分である。
なお、この球状化処理は省略されてもよい。特に金属磁性粒子10がガスアトマイズ粉である場合には、金属磁性粒子10は元々真球に近い形状であるので、この球状化処理は不要である。
次に、金属磁性粒子10を400℃以上融点未満の温度で熱処理する(ステップS2)。熱処理前の金属磁性粒子10の内部には、多数の歪み(転位、欠陥)が存在している。そこで、金属磁性粒子10に熱処理を実施することによって、この歪みを低減させることができる。熱処理の温度は、600℃以上900℃未満であることがさらに好ましい。この温度域で処理することによって、歪み取りの効果を十分に得ることができ、かつ、粉末同士が焼結してしまうことを回避できる。なお、この熱処理は省略されてもよい。
次に、金属磁性粒子10の表面に凹凸を形成する(ステップS3)。具体的には、酸性水溶液を所望の濃度に調整し、この酸性水溶液に金属磁性粒子を加えることにより酸性水溶液の懸濁液とする。これにより、金属磁性粒子10の表面が酸によりエッチングされ、金属磁性粒子の表面に凹凸が形成される。酸性水溶液の種類、濃度、および酸性水溶液中への金属磁性粒子10の浸漬時間などによって、金属磁性粒子10の表面に形成される凹凸の量が調節可能である。その後、この酸性水溶液をろ過して金属磁性粒子10が取り出される。
なお、本実施の形態の酸性水溶液としては、硫酸、しゅう酸、硝酸、塩酸などが用いられ、好ましくは硫酸が用いられる。また、酸性水溶液の濃度は、0.3μmol/l〜1.0mol/lであることが好ましく、より好ましくは0.4μmol/l〜0.9mol/lであり、さらに好ましくは0.5μmol/l〜0.8mol/lである。酸性水溶液の濃度が0.3μmol/l未満の場合、酸によるエッチングに時間がかかり過ぎるため好ましくない。1.0mol/lを超える場合には、エッチングが急激に進行するとともに、溶解する金属磁性粒子の成分が多すぎるため、所望の磁気特性を得ることが困難となる。さらに、酸性水溶液への浸漬時間は、酸性水溶液の濃度にもよるが、上記範囲の濃度であれば1分〜60分が好ましく、より好ましくは1分〜30分、さらに好ましくは1分〜15分である。浸漬時間が1分未満の場合には、酸による十分なエッチングを行なうことができず、次工程において絶縁被膜の金属磁性粒子への密着性が不十分となる。60分を超える場合には、反応系にゲーサイト等の非磁性成分が析出し、磁気特性が低下するため好ましくない。
次に、金属磁性粒子10の粒子表面に絶縁被膜20を形成する(ステップS4)。具体的には、前述の酸性水溶液のろ過後、取り出された金属磁性粒子10の固形分に含まれる水分を有機溶剤に置換した後、金属磁性粒子10を有機溶剤に分散させて懸濁液とする。そして、この懸濁液中に金属アルコキシドおよびリン酸水溶液を加え、混合・攪拌する。このとき、金属アルコキシドは金属磁性粒子10の表面に存在する水と反応して加水分解し、金属磁性粒子10の表面に金属酸化物または金属含有酸化物が生成する。その後、金属磁性粒子10の表面を乾燥して有機溶剤を除去する。これにより、金属磁性粒子10の粒子表面にリン酸金属塩および/またはリン酸金属と金属化合物よりなる絶縁被膜20が形成される。
酸による凹凸形成処理後は、金属磁性粒子10の表面が活性化されているため、水または水溶液中に存在する酸素によって酸化され、金属磁性粒子10の表面に再び酸化被膜が形成されてしまい、その後の絶縁被膜形成工程において、金属磁性粒子表面と絶縁被膜との密着性が低下するとともに、得られる軟磁性材料の磁気特性が低下する。このため、酸性水をできる限り早く有機溶剤に置換することが好ましい。
金属磁性粒子10の表面を乾燥する際には、金属磁性粒子10を30℃以上120℃以下の温度に保持することが好ましい。金属磁性粒子を30℃以上の温度に保持することにより、有機溶剤を効率よく蒸発させることができる。特に、絶縁被膜20で被覆された金属磁性粒子10は、室温に保たれたドラフト中で3時間〜24時間乾燥させた後、60℃〜120℃の温度範囲で乾燥させるか、もしくは減圧雰囲気において30℃〜80℃の温度範囲で乾燥させることが好ましい。また、乾燥は、空気中およびN2ガスなどの不活性ガス雰囲気下のいずれでも行なうことができるが、金属磁性粒子の酸化防止の観点から、N2ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行なうことが好ましい。
なお、本実施の形態に用いられる有機溶剤は、一般的に用いられる有機溶剤であればよく、水溶性の有機溶剤が好ましい。具体的には、エチルアルコール、プロピルアルコールまたはブチルアルコールなどのアルコール系溶剤、アセトンまたはメチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブまたはブチルセロソルブなどのグリコールエーテル系溶剤、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどのオキシエチレン、オキシプロピレン付加重合体、エチレングリコール、プロピレングリコールまたは1,2,6−ヘキサントリオール等のアルキレングリコール、グリセリン、2−ピロリドン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素系溶剤など、が好ましい。特に、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤が好ましい。
本実施の形態に用いられるリン酸は、五酸化二リンが水和してできる酸が好ましい。具体的には、メタリン酸、ピロリン酸、オルトリン酸、三リン酸、四リン酸などである。特にオルトリン酸が好ましい。
本実施の形態に用いる金属アルコキシドは、Al、Si、Ti、およびZrよりなる群から選ばれる原子を含有するアルコキシドであることが好ましい。アルコキシドとしては、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、イソプロポキシド、オキシイソプロポキシド、ブトキシドなどを用いることができる。またアルコキシドとして、テトラエトキシシランまたはテトラメトキシシランを部分的に加水分解・縮合することにより得られるエチルシリケートまたはメチルシリケートを用いることができる。処理の均一性及び処理効果を考慮すれば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルシリケート、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトライソプロポキシドなどが特に好ましい。
金属磁性粒子とリン酸溶液および金属アルコキシド溶液とを混合するための機器としては、たとえば高速アジテート型ミキサーが使用され、具体的にはヘンシェルミキサー、スピードミキサー、ボールカッター、パワーミキサー、ハイブリッドミキサー、コーンブレンダーなどが使用される。
金属磁性粒子とリン酸溶液及び金属アルコキシド溶液との混合・攪拌は、室温以上であって用いる有機溶剤の沸点以下の温度で行なうことが好ましい。また、金属磁性粒子の酸化防止の観点から、N2ガスなどの不活性ガス雰囲気下で反応を行なうことが好ましい。
次に、たとえばシリコ−ン樹脂よりなる保護被膜を形成する(ステップS5)。具体的には、絶縁被膜20で被覆された金属磁性粒子10に、有機溶媒に溶かしたシリコーン樹脂を混合あるいは噴霧する。その後、乾燥させ溶媒を除去する。なお、この保護被膜の形成は省略されてもよい。
以上の工程により、本実施の形態の軟磁性材料が完成する。さらに、以下の製造工程を経ることによって本実施の形態の圧粉磁心が製造される。
次に、複合磁性粒子30と、バインダである有機物40とを混合する(ステップS6)。なお、混合方法に特に制限はなく、たとえばV型混合機を用いた乾式混合でもよいし、ミキサー型混合機を用いた湿式混合でもよい。これにより、複数の複合磁性粒子30の各々が有機物40で互いに接合された形態となる。なお、このバインダの混合は省略されてもよい。
有機物40としては、熱可塑性ポリイミド、熱可塑性ポリアミド、熱可塑性ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミドまたはポリエーテルエーテルケトンなどの熱可塑性樹脂や、高分子量ポリエチレン、全芳香族ポリエステルまたは全芳香族ポリイミドなどの非熱可塑性樹脂や、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸カルシウム、パルミチン酸リチウム、パルミチン酸カルシウム、オレイン酸リチウムおよびオレイン酸カルシウムなどの高級脂肪酸系を用いることができる。また、これらを互いに混合して用いることもできる。
次に、得られた軟磁性材料の粉末を金型に入れ、たとえば390(MPa)から1500(MPa)までの圧力で加圧成形する(ステップS7)。これにより、複合磁性粒子30の粉末が圧縮された圧粉成形体が得られる。なお、加圧成形する雰囲気は、不活性ガス雰囲気または減圧雰囲気とすることが好ましい。この場合、大気中の酸素によって混合粉末が酸化されるのを抑制することができる。
次に、加圧成形によって得られた圧粉成形体を200℃以上900℃以下の温度で熱処理する(ステップS8)。加圧成形を経た圧粉成形体の内部には歪や転位が多数発生しているので、熱処理によりこのような歪や転位を取り除くことができる。以上に説明した工程により、図1に示す圧粉磁心が完成する。
本実施の形態における軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心によれば、金属磁性粒子10を酸性溶液に浸漬することによって、図4に示すように、金属磁性粒子10の表面に粒子径の100分の1程度のオーダーの微細な凹凸31が多数形成される。このため、多数の凹凸31によって複合磁性粒子30同士の接合を強化することができ、成形体強度を向上することができる。また、絶縁被膜形成工程前に金属磁性粒子10表面を酸によりエッチングすることにより、金属磁性粒子10表面の酸化物被膜を除去することができるため、この後に行なう絶縁被膜形成工程によって形成される絶縁被膜20と金属磁性粒子10表面との密着性を向上することができる。さらに、酸性溶液処理後に行なう絶縁被膜形成工程を有機溶剤中で行なうことにより、金属磁性粒子10表面が再び酸化被膜によって被覆されることを防止できるため、得られる軟磁性材料の磁気特性の低下を抑止することができる。
本実施例では、実施例1、実施例2、比較例3、および比較例4の各々の軟磁性材料を作製し、それぞれの軟磁性材料を加圧成形して得られた圧粉磁心の成形体強度を評価した。
始めに、金属磁性粒子として水アトマイズ粉およびガスアトマイズ粉を準備した。ガスアトマイズ粉の金属磁性粒子は、ふるい法による平均粒径が106μmであり、Feの純度が99.8%以上であり、BET法による比表面積が1.2×10-2m2/gであった。水アトマイズ粉の金属磁性粒子は、ふるい法による平均粒径が101μmであり、Feの純度が99.8%以上であり、BET法による比表面積が1.8×10-2m2/gであった。なお、水アトマイズ粉はボールミルを用いて球状化処理を行なったものである。実施例1および比較例3についてはガスアトマイズ粉を使用し、実施例2および比較例4については水アトマイズ粉を使用した。次に、金属磁性粒子を水素気流中において600℃の温度で熱処理した。なお、BET法では、吸着占有面積の判った不活性気体(クリプトン)を粒子の表面に液体窒素の温度で吸着させ、その吸着量から粒子の比表面積が測定される。
続いて、実施例1および2については、金属磁性粒子10kgを7.6×10-3mol/lの硫酸水溶液中に3分間浸漬し、金属磁性粒子表面に凹凸を形成した。そして、ろ過・水洗し、金属磁性粒子粉末の含水固形分を得た。比較例3および4については、上記の硫酸処理を行なわなかった。上記の硫酸処理の処理条件を表1に示す。
次に、実施例1および2については、上記金属磁性粒子粉末の含水固形分をアセトンを用いて溶剤置換した後、アセトン10L(リットル)に懸濁させた懸濁液を作製した。比較例3および4についても、金属磁性粒子をアセトン10Lに懸濁させて懸濁液を作製した。次に、アルミニウムイソプロポキシド0.97gを分散させたアセトン溶液をこの懸濁液に加えた後、テトラエトキシシラン0.33gをこの懸濁液に加えた。さらに、リン酸水溶液(リン酸含有量85質量%)2.18gをこの懸濁液に滴下した。その後、N2気流下、反応温度45℃において、20分間攪拌・混合を行った。その後、得られた混合溶液を45℃において減圧乾燥を行ない、軟磁性材料を得た。
得られた軟磁性材料の特性を表2に示す。絶縁被膜を構成している表面処理物のAl換算量は表1に示すとおりであった。なお、絶縁被膜を構成している表面処理物のAl換算量は、「蛍光X線分析装置3063M型」(理学電機工業株式会社製)を使用し、JIS K0119の「けい光X線分析通則」に従って測定した。
軟磁性材料の耐熱性は、下記の方法により求めた。まず、試料粉末0.5gを測り取り、KBr錠剤成形器(株式会社島津製作所)を用いて、13.72MPaの圧力で加圧成形を行ない、円柱状の被測定試料を作製した。次いで、被測定試料を温度25℃、相対温度60%の環境下に12時間以上暴露した後、この被測定試料をステンレス電極の間にセットし、電気抵抗測定装置(model 4329A 横河北辰電気株式会社製)で15Vの電圧を印加して抵抗値R(mΩ)を測定した。
次いで、被測定(円柱状)試料の上面の面積A(cm2)と厚みt0(cm)を測定し、下記式1にそれぞれの測定値を挿入して、体積固有抵抗値(mΩ・cm)を求めた。
体積固有抵抗値(mΩ・cm)=R×(A/t0) ・・・(1)
上記被測定用試料を電気炉に入れ、電気炉の温度を種々変化させて各温度において1時間加熱処理を行ない、各温度における加熱前後での体積固有抵抗値を測定し、下記式2に加熱前後の体積固有抵抗値を挿入して、体積固有抵抗値の変化率を求め、片対数グラフを用いて横軸に加熱温度を、縦軸に体積固有抵抗値の変化率をプロットし、体積固有抵抗値の変化率がちょうど10%となるときの温度を軟磁性材料の耐熱温度とした。
上記被測定用試料を電気炉に入れ、電気炉の温度を種々変化させて各温度において1時間加熱処理を行ない、各温度における加熱前後での体積固有抵抗値を測定し、下記式2に加熱前後の体積固有抵抗値を挿入して、体積固有抵抗値の変化率を求め、片対数グラフを用いて横軸に加熱温度を、縦軸に体積固有抵抗値の変化率をプロットし、体積固有抵抗値の変化率がちょうど10%となるときの温度を軟磁性材料の耐熱温度とした。
加熱前後の体積固有抵抗値の変化率(%)={体積固有抵抗値(加熱前)−体積固有抵抗値(加熱後)}/体積固有抵抗値(加熱前)×100 ・・・(2)
続いて、軟磁性材料を1270MPaの面圧で加圧成形し、7.60g/cm3の密度のリング状(外径34mm、内径20mm、厚み5mm)の成形体を作製した。その後、窒素気流雰囲気にて500℃〜700℃の温度で1時間、成形体を熱処理した。
こうして得られた圧粉磁心について、BHカーブトレーサを用いてヒステリシス損Wh、渦電流損We、および鉄損Wを測定した。これらの測定の際には、励起磁束密度を10kG(=1T(テスラ))とし、測定周波数を50Hz〜1kHzとした。ここで、ヒステリシス損および渦電流損の分離については、鉄損の周波数曲線を次の3つの式で最小2乗法によりフィッティングし、ヒステリシス損係数および渦電流損係数を算出することで行なった。この結果を表3に示す。
(鉄損)=(ヒステリシス損係数)×(周波数)+(渦電流損係数)×(周波数)2
(ヒステリシス損)=(ヒステリシス損係数)×(周波数)
(渦電流損)=(渦電流損係数)×(周波数)2
(ヒステリシス損)=(ヒステリシス損係数)×(周波数)
(渦電流損)=(渦電流損係数)×(周波数)2
なお、表3中における最適処理温度は、各温度で熱処理した試料における鉄損が最小となる温度とした。表2を参照して、実施例1の比表面積値は比較例3の比表面積値よりも大きくなっており、実施例2の比表面積値は比較例4の比表面積値よりも大きくなっている。これは、金属磁性粒子が硫酸水溶液によってエッチングされて金属磁性粒子の表面に多数の凹凸が形成されたことに起因するものである。また、実施例1および2の抗折強度σ3bは、比較例3および4の抗折強度σ3bよりも大きく向上している。この結果から、本発明によれば、高強度の成形体が得られることが分かる。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本発明の軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心は、たとえば、モーターコア、電磁弁、リアクトルもしくは電磁部品一般に利用される。
10 金属磁性粒子、20 絶縁被膜、30 複合磁性粒子、31 凹凸、40 有機物。
Claims (3)
- 金属磁性粒子と、前記金属磁性粒子を被覆する絶縁被膜とを有する複数の複合磁性粒子を備えた軟磁性材料の製造方法であって、
前記金属磁性粒子を酸性溶液に浸漬することで前記金属磁性粒子の表面に凹凸を形成する凹凸形成工程と、
前記凹凸形成工程後、前記金属磁性粒子の表面に前記絶縁被膜を形成する絶縁被膜形成工程とを備え、
前記絶縁被膜形成工程は、前記金属磁性粒子を有機溶剤に分散させる工程と、金属アルコキシドおよびリン酸水溶液を前記有機溶剤に加える工程と、前記金属磁性粒子の表面を乾燥して前記有機溶剤を除去する工程とを含む、軟磁性材料の製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法を用いて製造された軟磁性材料。
- 請求項2に記載の軟磁性材料を用いて製造された圧粉磁心。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005283064A JP2007092120A (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005283064A JP2007092120A (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007092120A true JP2007092120A (ja) | 2007-04-12 |
Family
ID=37978170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005283064A Withdrawn JP2007092120A (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007092120A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009032860A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Kobe Steel Ltd | 圧粉磁心および圧粉磁心用の鉄基粉末 |
JP2009287044A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 金属微粒子及び金属微粒子の製造方法 |
JP2010001561A (ja) * | 2008-05-23 | 2010-01-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 |
WO2010061525A1 (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-03 | 住友電気工業株式会社 | 軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 |
TWI632565B (zh) * | 2015-09-01 | 2018-08-11 | 村田製作所股份有限公司 | 磁心及其製造方法、以及電子元件 |
CN109103010A (zh) * | 2018-08-02 | 2018-12-28 | 浙江东睦科达磁电有限公司 | 一种提高磁粉芯绝缘层致密度的材料及其方法 |
KR20190001522A (ko) | 2017-06-26 | 2019-01-04 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 자성 재료, 전자 부품 및 자성 재료의 제조 방법 |
WO2020179534A1 (ja) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | 株式会社村田製作所 | 磁心コアとその製造方法、及びコイル部品 |
JP2020155674A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | 日本特殊陶業株式会社 | 圧粉磁心 |
JP2020155673A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | 日本特殊陶業株式会社 | 圧粉磁心 |
CN112582126A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | Tdk株式会社 | 软磁性金属粉末、压粉磁芯和磁性零件 |
JP2021057577A (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | Tdk株式会社 | 軟磁性金属粉末、圧粉磁心および磁性部品 |
JP2021086990A (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | 株式会社タムラ製作所 | リアクトル |
-
2005
- 2005-09-28 JP JP2005283064A patent/JP2007092120A/ja not_active Withdrawn
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009032860A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Kobe Steel Ltd | 圧粉磁心および圧粉磁心用の鉄基粉末 |
JP2010001561A (ja) * | 2008-05-23 | 2010-01-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 |
JP4513131B2 (ja) * | 2008-05-23 | 2010-07-28 | 住友電気工業株式会社 | 軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 |
US8568644B2 (en) | 2008-05-23 | 2013-10-29 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing soft magnetic material and method for producing dust core |
JP2009287044A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 金属微粒子及び金属微粒子の製造方法 |
WO2010061525A1 (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-03 | 住友電気工業株式会社 | 軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 |
TWI632565B (zh) * | 2015-09-01 | 2018-08-11 | 村田製作所股份有限公司 | 磁心及其製造方法、以及電子元件 |
US10128041B2 (en) | 2015-09-01 | 2018-11-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Magnetic core and method for producing the same |
US11869692B2 (en) | 2017-06-26 | 2024-01-09 | Taiyo Yuden Co., Ltd | Magnetic material, electronic component, and method for manufacturing magnetic material |
KR20190001522A (ko) | 2017-06-26 | 2019-01-04 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 자성 재료, 전자 부품 및 자성 재료의 제조 방법 |
CN109103010A (zh) * | 2018-08-02 | 2018-12-28 | 浙江东睦科达磁电有限公司 | 一种提高磁粉芯绝缘层致密度的材料及其方法 |
WO2020179534A1 (ja) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | 株式会社村田製作所 | 磁心コアとその製造方法、及びコイル部品 |
JPWO2020179534A1 (ja) * | 2019-03-07 | 2021-10-21 | 株式会社村田製作所 | 磁心コアとその製造方法、及びコイル部品 |
JP7104905B2 (ja) | 2019-03-07 | 2022-07-22 | 株式会社村田製作所 | 磁心コアとその製造方法、及びコイル部品 |
JP2020155673A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | 日本特殊陶業株式会社 | 圧粉磁心 |
JP7222771B2 (ja) | 2019-03-22 | 2023-02-15 | 日本特殊陶業株式会社 | 圧粉磁心 |
JP7229825B2 (ja) | 2019-03-22 | 2023-02-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 圧粉磁心 |
JP2020155674A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | 日本特殊陶業株式会社 | 圧粉磁心 |
CN112582126A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | Tdk株式会社 | 软磁性金属粉末、压粉磁芯和磁性零件 |
JP2021057577A (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | Tdk株式会社 | 軟磁性金属粉末、圧粉磁心および磁性部品 |
US11705259B2 (en) | 2019-09-30 | 2023-07-18 | Tdk Corporation | Soft magnetic metal powder, dust core, and magnetic component |
JP2021086990A (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | 株式会社タムラ製作所 | リアクトル |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007092120A (ja) | 軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心 | |
JP4650073B2 (ja) | 軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料および圧粉磁心 | |
JP4646768B2 (ja) | 軟磁性材料、圧粉磁心、および軟磁性材料の製造方法 | |
JP4707054B2 (ja) | 軟磁性材料、軟磁性材料の製造方法、圧粉磁心および圧粉磁心の製造方法 | |
EP1840907B1 (en) | Soft magnetic material and dust core | |
US7887647B2 (en) | Soft magnetic material and dust core produced therefrom | |
JP4278147B2 (ja) | 磁心用粉末、圧粉磁心およびそれらの製造方法 | |
JP6471260B2 (ja) | 軟磁性材料、軟磁性材料を用いた圧粉磁心、圧粉磁心を用いたリアクトル | |
JP4710485B2 (ja) | 軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 | |
CN110246675B (zh) | 一种高饱和磁通密度、低损耗软磁复合材料及其制备方法 | |
JP4024705B2 (ja) | 圧粉磁心およびその製造方法 | |
JP2007088156A (ja) | 軟磁性材料、圧粉磁心、軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 | |
US20150050178A1 (en) | Soft Magnetic Composite Materials | |
JP2010001561A (ja) | 軟磁性材料の製造方法、および圧粉磁心の製造方法 | |
JP2008063650A (ja) | 圧粉磁心および圧粉磁心用の鉄基粉末 | |
US20200258667A1 (en) | Silica-based insulator-coated soft magnetic powder and method for producing same | |
JP5439888B2 (ja) | 複合磁性材料およびその製造方法 | |
JP6578266B2 (ja) | 軟磁性材料、軟磁性材料を用いた圧粉磁心、及び圧粉磁心の製造方法 | |
JP2021025127A (ja) | 圧粉磁心および圧粉磁心の製造方法 | |
US9431159B2 (en) | Iron cobalt ternary alloy nanoparticles with silica shells and metal silicate interface | |
JP2010219161A (ja) | 圧粉磁心及びその製造方法 | |
JP2007048902A (ja) | 圧粉磁心およびその製造方法 | |
JP4790224B2 (ja) | 軟磁性材料及びその製造法、該軟磁性材料を含む圧粉磁心 | |
JP2021002555A (ja) | 圧粉磁心及び圧粉磁心の製造方法 | |
JP6713018B2 (ja) | 軟磁性材料、圧粉磁心、及び圧粉磁心の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081202 |