JP2007081148A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】空気溜りによる半導体素子と基板との接着不良から生じる電気特性の劣化及び熱歪みによるクラック発生の防止構造を提供する。
【解決手段】基板1の表面の搭載部3に接着剤6を介して半導体素子2が接着される半導体装置において、半導体素子2の縁部に対向する基板1の表面位置に、基板1の表面に対する凹み開始角度が鈍角に形成された凹部8を設ける。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板の表面に設けられた搭載部に接着剤を介して半導体素子が接着される半導体装置に関し、特に、半導体素子の縁部に対向する基板の表面位置に接着剤が流入される凹部が設けられた半導体装置に関する。
基板の表面に設けられた搭載部に接着剤を介して半導体素子が接着される半導体装置が知られている。例えば、下記特許文献1には、基板上の搭載部の周囲に接着剤が流入される段状の凹部を形成し、基板と半導体素子との接着の際に、余った接着剤を凹部に流入させることで、接着剤が半導体素子の表面に這い上がるのを防止する半導体装置が開示されている。
特開平7−45641号公報
しかしながら、上記した半導体装置には次のような解決すべき課題があった。即ち、凹部が段状に形成されていることから、接着剤の粘性によっては、接着剤がその凹部の壁面に沿って流れ込まず、凹部の角部に隙間が生じ、空気溜りが発生する問題があった。また、半導体装置の製造後、基板と半導体素子との熱膨張係数差によって生じる熱応力が凹部の壁面に集中して加わることから、熱歪みによるクラックが発生する問題があった。
本発明は、以上の点を解決するために、次の構成を採用する。
〈構成1〉
基板の表面の搭載部に接着剤を介して半導体素子が接着される半導体装置において、前記半導体素子の縁部に対向する前記基板の表面位置に設けられた凹部であって、前記表面に対する前記凹部の凹み開始角度が鈍角に形成されることを特徴とする。
〈構成2〉
構成1の半導体装置において、前記半導体素子の縁部が前記搭載部よりも突出し、前記凹部は、円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする。
〈構成3〉
構成2の半導体装置において、前記凹部は、楕円の短軸の両端を結ぶ円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする。
〈構成4〉
構成2の半導体装置において、前記凹部は、楕円の長軸の両端を結ぶ円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする。
〈構成5〉
構成2の半導体装置において、前記凹部は、半円の円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする。
〈構成6〉
構成1乃至5のいずれか1つの半導体装置において、前記凹部の上縁部は、円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする。
本発明の半導体装置では、半導体素子の縁部に対向する基板の表面位置に基板の表面に対する凹み開始角度が鈍角に形成されている凹部を設けたことから、接着剤が粘性に依存することなく、凹部にその傾斜に沿って流れ込み、半導体素子を基板に空気溜りを発生させずに接着できると共に、製造後においては、半導体素子と基板との熱膨張係数差によって凹部の壁に加わる熱応力を分散させることができる。従って、空気溜りによる接着不良から生じる電気特性の劣化を防止し、かつ熱歪みによるクラックの発生を低減できる信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
以下、本発明の一実施形態を図を用いて詳細に説明する。
図1は、本発明の一例として、BGA(Ball Grid Array)タイプの半導体装置の構造を示す断面図である。図1に示すように、本実施例の半導体装置は基板1を有しており、この基板1の表面には、所定の実装位置に半導体素子2を搭載するための金メッキ等が施された搭載部3および基板1の例えば、ハンダボールからなる外部端子4と導通している電極5が形成されている。
基板1上に形成されている搭載部3の接着面には、絶縁性、或いは導電性の接着剤6が塗布されており、この接着剤6を介して半導体素子2が搭載部3に固定されている。本実施例では、この半導体素子2は、図1に示すように、搭載部3よりもその縁部が突出するように形成されている。また、この半導体素子2はボンディングワイヤー7によって電極5と電気的に接続されている。さらに、半導体素子2およびボンディングワイヤー7は、例えば、エポキシ樹脂等の封止樹脂9にて封止されている。
また、半導体素子2の縁部に対向する基板1の表面位置には、半導体素子2と基板1との接着の際に余った接着剤6が流入されるための凹部8が設けられている。
この凹部8は、基板1の表面に対する凹み開始角度が鈍角α(=少なくとも90度)に形成されるように、その内壁をミーリングによる研削加工で形成されている。本実施例では、この凹部8は楕円の長軸の両端を結ぶ円弧に沿った断面形状に形成されている。尚、この凹部8の上縁部も円弧に沿った断面形状に形成することで、余った接着剤をより効果的に流入させることができる。特に、開始角度を90度を超える角度とすればする程、この効果を向上させることができる。
ところで、従来の半導体装置では、上記した凹部8が段状に形成されていたことから、接着剤の粘性によっては、接着剤がその凹部の壁面に沿って流れ込まず、凹部の角部に隙間が生じ、空気溜り(ボイド)が発生していた。しかしながら、上記したように構成された本発明の半導体装置では、凹部8が傾斜面を含む形状を有している。従って、半導体素子2と基板1とを接着させる際、接着剤が緩やかな円弧状の凹部8の内壁傾斜に沿って、図2に示す点線位置まで徐々に流れ込み、従って、ボイドの発生を防止できる。
また、従来の半導体装置では、製造後において、基板1と半導体素子2との熱膨張係数差によって生じる熱応力が凹部の直交側壁に集中して加わることから、熱歪みによるクラックが発生する虞れがあった。しかしながら、上記したように構成された本発明の半導体装置では、半導体素子2と基板1との間で熱膨張差が生じても凹部8の緩やかな傾面に沿って熱応力が分散するので、熱歪みによるクラックの発生を低減できる。
さらに、半導体素子2の縁部に対向する位置に凹部8を設けたことから、凹部8を形成しない場合に比べて、半導体素子2の縁部下方と基板1との距離が長くなるので、半導体素子2の側面に接着剤6が付着するのをより効果的に防止できる。
〈実施例の効果〉
本実施例の半導体装置では、楕円の長軸の両端を結ぶ円弧に沿った断面形状の凹部8を半導体素子2の縁部に対向する基板1の表面位置に設けたことから、接着時、接着剤6が、円弧状の傾斜に沿って凹部8に流れ込むので、半導体素子2と基板1とを空気溜りなく接着できると共に、製造後においては、半導体素子2と基板1との間に熱膨張差によって凹部8に応力が生じてもこの応力を円弧状の斜面により分散させることができる。従って、空気溜りによる接着不良から生じる電気特性の劣化を防止し、かつ熱歪みによるクラックの発生を低減した、信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
上記実施例では、基板1上に形成されている搭載部3の接着面に対して、絶縁性、或いは導電性の接着剤6が塗布されていたが、これに限られることはなく、半導体素子2に対して接着剤6を塗布する構成としてもよい。例えば、基板1上にて半導体素子2の配置領域近傍に形成された配線と半導体素子2とをより確実に電気的に絶縁させる場合には、絶縁性の接着剤6が用いられる。一方、半導体素子2の放熱性を高めたい場合には、導電性の接着剤6が用いられる。
本発明の実施例としてBGAタイプの半導体装置を例に説明を行ったが、これに限られることはなく、基板1上に接着剤6を介して半導体素子2を設ける構成の半導体装置であれば、本発明を適用することができる。
上記実施例では、基板1上に半導体素子2を搭載するための搭載部3を設ける構成であったが、これに限られることはなく、搭載部3を設けず、基板1表面に接着剤6を介して半導体素子2を接着させる構成としてもよい。
上記実施例では、凹部8は、楕円の長軸の両端を結ぶ円弧に沿った断面形状に形成されていたが、これに限られることはなく、楕円の短軸の両端を結ぶ円弧に沿った断面形状、半円の円弧に沿った断面形状等のように底が円弧状に形成されるものであればどのようなものでもよい。
さらに、上記実施例の凹部8の上縁部を円弧に沿った断面形状に形成させることで、余った接着剤6をより効果的に流入されることができる。
本発明の半導体装置の構造を示す断面図 本発明の半導体装置の構造を示す部分断面図
符号の説明
1 基板
2 半導体素子
3 搭載部
4 外部端子
5 電極
6 接着剤
7 ボンディングワイヤー
8 凹部
9 封止樹脂

Claims (6)

  1. 基板の表面の搭載部に接着剤を介して半導体素子が接着される半導体装置において、
    前記半導体素子の縁部に対向する前記基板の表面位置に設けられた凹部であって、前記表面に対する前記凹部の凹み開始角度が鈍角に形成されることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記半導体素子の縁部が前記搭載部よりも突出し、
    前記凹部は、円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記凹部は、楕円の短軸の両端を結ぶ円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  4. 前記凹部は、楕円の長軸の両端を結ぶ円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  5. 前記凹部は、半円の円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  6. 前記凹部の上縁部は、円弧に沿った断面形状を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1つに記載の半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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