JP2007072442A - ディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材及びそれを用いた電子画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】近赤外線を十分に吸収し、近赤外線領域における透過率を抑えることができる一方、可視光線領域における透過率を高く維持することができるディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材及び電子画像表示装置を提供する。
【解決手段】近赤外線遮蔽材１０は、透明基材１１の一方の面に近赤外線吸収色素を含む近赤外線遮蔽層１２が設けられ、他方の面に減反射層１３が設けられて構成されている。近赤外線吸収色素は、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩である。
【選択図】図１

Description

本発明は、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等の電子画像表示装置の表示画面上に設けられ、近赤外線遮蔽機能と減反射機能とを兼ね備えたディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材及びそれを用いた電子画像表示装置に関するものである。

近年、電子画像表示装置（電子ディスプレイ）は、テレビジョン用やモニター用として広く普及している。中でもプラズマディスプレイは注目を浴びているが、薄型化や大型化に伴う視認性の向上、及びその発光体より漏洩するリモートコントロール機器等の周辺機器を誤動作させる近赤外線の遮蔽が求められている。

このような用途に用いられる近赤外線遮蔽材として、公知のジイモニウム塩を単独で使用する場合がある。この場合、光の波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域における光線透過率（以下、単に透過率という）を４０％以下、さらには３０％以下にまで遮蔽しようと試みると、可視光線領域における透過率、特にプラズマディスプレイの青色発光領域である波長４００〜５００ｎｍにおける透過率が低下してしまうという問題があった。

また、近赤外線吸収色素を組み合わせて使用する方法も知られている。例えば、波長９００〜１０００ｎｍの近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素としてジイモニウム塩を用い、同時に波長８００〜９００ｎｍの近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素としてフタロシアニン系金属錯体やジチオール系金属錯体を用いる方法である（例えば、特許文献１を参照）。さらに、近赤外線吸収色素として、スルホン（スルホニル）イミドをアニオン成分とするジイモニウムの塩が知られている（例えば、特許文献２を参照）。この特許文献２には、係る近赤外線吸収色素を用いて近赤外線遮断フィルター等が得られると記載されている。
特開平１１‐３０５０３３号公報（第２頁及び第３頁） 国際公開公報ＷＯ２００４／０４８４８０号公報（第２頁及び第３頁）

ところが、特許文献１に記載の赤外線吸収フィルターは、赤外線吸収色素として例えば日本化薬（株）製ＫａｙａｓｏｒｂＩＲＧ‐０２２等が用いられているが、このような赤外線吸収色素は単独では近赤外線領域の短波長側を十分に遮蔽することができず、近赤外線吸収色素を組み合わせて使用しなければならない。このため、可視光線領域における透過率が依然として低下するという問題があった。一方、特許文献２に記載の赤外線吸収色素は、特許文献１に記載の赤外線吸収色素に比べて可視光線の吸収性は抑制されている。しかしながら、このような赤外線吸収色素を含有する層を透明基材上に設けただけでは、近赤外線の吸収と可視光線の吸収抑制とのバランスをとることが十分にはできなかった。つまり、近赤外線を十分に吸収し、近赤外線領域における透過率を抑え、かつ可視光線領域における透過率を高く維持することができなかった。

そこで、本発明の目的とするところは、近赤外線を十分に吸収し、近赤外線領域における透過率を抑えることができる一方、可視光線領域における透過率を高く維持することができるディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材及びそれを用いた電子画像表示装置を提供することにある。

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意検討した結果、透明基材の一方の面に特定構造の近赤外線吸収色素を用いた近赤外線遮蔽層を設け、さらに他方の面に減反射層を設けることによって、近赤外線を効率よく遮蔽し、可視光線領域における透過率、特に波長４００〜５００ｎｍにおける透過率が高くなることを見出した。しかも、可視光線領域における光線透過率のスペクトルをよりフラットな形状に近づけることができ、さらに視感度中心域である波長５００〜６００ｎｍにおける透過率がより高められたディスプレイ表面の使用に優れた近赤外線遮蔽材となることを見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明における第１の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材は、透明基材の一方の面に近赤外線吸収色素を含有してなる近赤外線遮蔽層が設けられ、他方の面に減反射層が設けられているディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材であって、前記近赤外線吸収色素が下記の一般式（１）で表されるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩であることを特徴とするものである。

（式中、Ｒは同一又は異なる基で、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、フェニル基及びフェニルアルキレン基からなる群より選ばれる基を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ同一又は異なる基で、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を示す）
第２の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材は、第１の発明において、前記ジイモニウム塩は、ブルーシフト効果を発現する化合物であることを特徴とするものである。

第３の発明の電子画像表示装置は、第１又は第２の発明に係るディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせてなるものである。

本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
第１の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材においては、透明基材の一方の面に近赤外線吸収色素を含有してなる近赤外線遮蔽層が設けられ、他方の面に減反射層が設けられている。しかも、近赤外線吸収色素が前記の一般式（１）で表されるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩である。近赤外線吸収色素として特定のジイモニウム塩を用いることから、近赤外線吸収機能を十分に発揮でき、かつ可視光線の吸収を抑えることができる。加えて、透明基材の他方の面には減反射層が設けられていることから、減反射機能を発揮できるとともに、前記近赤外線遮蔽層と相俟って近赤外線吸収機能と可視光線透過機能とが相乗的に高められる。従って、近赤外線を十分に吸収し、近赤外線領域における透過率を抑えることができる一方、可視光線領域における透過率を高く維持することができる。

第２の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材では、前記ジイモニウム塩は、ブルーシフト効果を発現する化合物であることから、近赤外線吸収色素であるジイモニウム塩による光の吸収波長が例えば２０ｎｍほど短波長側（可視光線側）へシフトされる。このため、第１の発明の効果に加えて、近赤外線領域における透過率を十分に抑えることができる。

第３の発明の電子画像表示装置は、第１又は第２の発明のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせて構成されている。従って、電子画像表示装置の表示画面について第１又は第２の発明の効果を発揮させることができ、特にプラズマディスプレイにおいて、リモートコントロール機器等の周辺機器の誤動作を防ぎ、さらにディスプレイ前面の反射を低く抑えることで、鮮明な画像を得ることができる。

以下、本発明の最良の形態と思われる実施形態について詳細に説明する。
図１（ａ）に示すように、本実施形態におけるディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材（以下、単に近赤外線遮蔽材ともいう）１０は、透明基材１１の一方の面に近赤外線吸収色素を含有してなる近赤外線遮蔽層１２が設けられ、他方の面に減反射層１３が設けられて構成されている。

まず透明基材１１について説明すると、透明基材１１は透明性を有しておれば特に限定されないが、反射を抑えるため、屈折率（ｎ）が１．５５〜１．７０の範囲内のものが好ましい。係る透明樹脂基材としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ｎ＝１．６５）、ポリカーボネート（ＰＣ、ｎ＝１．５９）、ポリアリレート（ＰＡＲ、ｎ＝１．６０）、及びポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ、ｎ＝１．６５）等が好ましい。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性、入手の容易性及びコストの点で好ましい。

また、透明基材１１の厚さは、好ましくは２５〜４００μｍ、さらに好ましくは５０〜２００μｍである。この厚さが２５μｍ未満又は４００μｍを越える場合には、近赤外線遮蔽材の製造時及び使用時における取扱い性が低下してしまうので好ましくない。さらに、透明基材１１には、近赤外線遮蔽層１２に含まれる近赤外線吸収色素が紫外線によって劣化しないように保護するために、紫外線吸収剤を含むことが望ましい。紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤でよく、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物等が好ましく、これらのうちベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が特に好ましい。

紫外線吸収剤の含有量としては、波長３８０ｎｍ以下の紫外線の光線透過率が５％以下になるように添加するのがよく、３％以下になるように添加するのがより好ましく、１％以下になるように添加するのが特に好ましい。波長３８０ｎｍ以下の光線透過率が５％を越える場合、近赤外線吸収色素に対して十分な紫外線遮蔽効果が望めないため好ましくない。

次に、透明基材１１の一方の面に設けられる近赤外線遮蔽層１２について説明する。
近赤外線遮蔽層１２に含まれる近赤外線吸収色素は、下記の一般式（１）で表されるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩である。

（式中、Ｒは同一又は異なる基で、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、フェニル基及びフェニルアルキレン基からなる群より選ばれる基を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ同一又は異なる基で、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を示す）
ここで、一般式（１）に示したジイモニウム塩とは、一般式（１）で第３級アミンがカチオン化されたイモニウム構造を分子内に２つ有するカチオン成分と、スルホンイミドのアニオン成分とがイオン結合された化合物をいう。

一般式（１）において、アニオン成分におけるＲ^１及びＲ^２は、それぞれ同一でも異なっていてもよいフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基であれば、置換されているフッ素原子の数や炭素数には特に限定されない。これらのうち、Ｒ^１及びＲ^２は、下記の一般式（２）で表される炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基がさらに好ましい。

（式中、ｎ及びｎ´は、１〜８の整数を表す）
係るアニオン成分の好ましい具体例としては、例えばパーフルオロアルカンスルホニル基が同一のビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミド、パーフルオロアルカンスルホニル基が異なるペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド、ノナフルオロメタンスルホンヘプタフルオロプロパンスルホンイミド等が挙げられるが、これらの中でも、パーフルオロアルカンスルホニル基が同一で、かつｎとｎ´が、１又は２であるビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド又はビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミドが、近赤外線吸収能力の点でさらに好ましい。

また、一般式（１）中のアニオン成分におけるＲ^１及びＲ^２の好ましい別の例としては、一般式（３）で表され、Ｒ^１及びＲ^２が一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基が挙げられる。このアニオン成分は、近赤外線吸収色素の耐熱性をより向上させる点で好ましい。

（式中、ｍは、２〜１２の整数を表す）
ここで、ｍは２〜８が好ましく、ｍが３である１，３‐ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミドが特に好ましい。

さらに、一般式（１）中のＲは、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、フェニル基及びフェニルアルキレン基からなる群より選ばれる置換基であって、これらは同一であっても異なっていてもよい。これらのうち、炭素数１〜８の直鎖又は側鎖を有するアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基等が好ましく、炭素数２〜６の直鎖アルキル基及びハロゲン化アルキル基（特にフルオロアルキル基）が特に好ましい。炭素数２〜６の直鎖アルキル基及びハロゲン化アルキル基として具体的には、エチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、パーフルオロエチル基、パークロロエチル基、プロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリクロロプロピル基、パーフルオロプロピル基、パークロロプロピル基、ブチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、４，４，４−トリクロロブチル基、パーフルオロブチル基、パーククロロブチル基、アミル基、５，５，５−トリフルオロアミル基、５，５，５−トリクロロアミル基、パーフルオロアミル基、パークロロアミル基、ヘプチル基、６，６，６−トリフルオロヘプチル基、６，６，６−トリクロロヘプチル基、パーフルオロヘプチル基、パークロロヘプチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソアミル基等が挙げられる。

また、一般式（１）中のＲの好ましい別例として、下記の一般式（４）で表されるフェニルアルキレン基が好ましく、そのアルキレン基の炭素数は１〜８であることが特に好ましい。このようなＲの場合、近赤外線吸収色素の耐熱性が向上する。

（式中、Ａは、炭素数１〜１８の直鎖又は側鎖を有するアルキレン基を表し、環Ｂは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す）
さらに、一般式（４）のフェニルアルキレン基におけるフェニル基は、置換基を有していなくてもよく、或いはアルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基及びハロゲンからなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有していてもよい。これらのうち、置換基を有していないフェニル基が好ましく、具体的にはベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピレン基、フェニル−α−メチルプロピレン基、フェニル−β−メチルプロピレン基、フェニルブチレン基、フェニルペンチレン基、フェニルオクチレン基等が挙げられ、ベンジル基及びフェネチル基が最も好ましい。

また、ジイモニウム塩としては、ブルーシフト効果を発現する化合物であることが、ジイモニウム塩による光の吸収波長を短波長側（可視光線側）へシフトさせることができ、近赤外線領域における透過率を十分に抑えることができる点で好ましい。ここで、ブルーシフト効果とは、近赤外線吸収色素が前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩であるため、光の吸収スペクトルが従来のジイモニウム塩の吸収スペクトルに比べて短波長側にシフトする効果を意味する。

このようなブルーシフト効果を有するジイモニウム塩としては、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（４−フッ化）ベンジルアミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（４−フッ化）ベンジルアミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（４，４，４−トリフルオロブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（４，４，４−トリクロロブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（パーフルオロブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（４，４，４−トリフルオロブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（４，４，４−トリクロロブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（パーフルオロブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム等が挙げられる。これらのジイモニウム塩は、単独又は２種類以上を適宜混合して用いることができる。

上記ジイモニウム塩は、単独で用いることができるが、本発明の効果を損なわない限り、その他の近赤外線吸収色素と適宜組合せて用いることもできる。その他の近赤外線吸収色素としては、特に限定されないが、例えばポリメチン系、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチオール金属錯塩系、ナフトキノン系、アントロキノン系、トリフェニルメタン系、アミニウム系、ジイモニウム系等の色素が挙げられる。このような色素として市販されている例を挙げると、ＮＫ−５０３７、ＮＫ−５０６０、ＮＫ−５７０６、ＮＫ−８９５３、ＮＫ−８６８９、ＮＫ−８７５８、ＮＫ−９０１４、ＮＫ−９０２６（以上、（株）林原生物化学研究所製）、イーエクスカラーＩＲ１、イーエクスカラーＩＲ３、イーエクスカラーＨＡ−１、イーエクスカラー８１０Ｋ（＝ＩＲ−１０Ａ）、イーエクスカラー８１２Ｋ（＝ＩＲ−１２）、イーエクスカラー８１４Ｋ（＝ＩＲ−１４）、イーエクスカラー９０５Ｂ、イーエクスカラー９０７Ｂ、イーエクスカラー９１０Ｂ（以上、（株）日本触媒製）、ＰＲＯＪＥＴ８００ＮＰ、ＰＲＯＪＥＴ８３０ＮＰ、ＰＲＯＪＥＴ９００ＮＰ、ＰＲＯＪＥＴ９２５ＮＰ（以上、アビシア（株）製）、ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９（以上、三井化学（株）製）、ＣＩＲ−１０８０、ＣＩＲ−１０８１（以上、日本カーリット（株）製）、ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲＧ−０２２、ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲＧ−０２３、ＫＡＹＡＳＯＲＢＩＲＧ−０４０（以上、日本化薬（株）製）等である。

前記透明基材１１上に近赤外線遮蔽層１２を形成する方法は特に限定されるものではなく、均一に形成できる方法が好ましい。例えば、近赤外線吸収色素を含む溶液をウェットコーティング法により形成する方法が挙げられる。近赤外線遮蔽層１２を形成する際には、前記の近赤外線吸収色素を、溶解又は分散させた有機バインダーを用いて行うことができる。有機バインダーとしては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のポリスチレン系化合物；スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体；ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等のポリ（メタ）アクリル酸アルキル；ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル；ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリウレタン、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、単独又は２種類以上混合して使用することができる。

上記近赤外線遮蔽層１２には、有機バインダー以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分は特に限定されるものではなく、例えば重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、表面改質剤、光安定剤等の添加剤等が挙げられ、ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の溶媒を添加することができる。

また、近赤外線遮蔽層１２の厚さは、２〜２０μｍ程度が好ましい。近赤外線遮蔽層１２の厚さが２μｍ未満の場合には、近赤外線遮蔽機能を十分に発現させることが難しくなるため好ましくない。一方、厚さが２０μｍを越える場合には、近赤外線遮蔽材１０について耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。

近赤外線遮蔽層１２について光の波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域における透過率は、４０％以下が好ましく、３０％以下がさらに好ましい。この透過率が４０％を越えると、近赤外線遮蔽機能を十分に付与することができず、リモートコントール機器等の周辺機器に誤作動を及ぼしかねない等の点から好ましくない。

近赤外線遮蔽層１２には、ディスプレイの発光色の色純度及びコントラストを向上させるために、色調を補正する色素を含有させることが好ましい。このような色調補正の色素としては、可視光線領域に所望の吸収波長を有する一般の染料でよく、例えばスクアリリウム系、アゾメチン系、シアニン系、キサンテン系、アゾ系、テトラアザポルフィリン系、ピロメテン系等の一般に市販もされている色素を挙げることができる。

図１（ｂ）に示すように、前記透明基材１１の他方の面には、ハードコート層１４を形成することが好ましい。ハードコート層１４を形成することにより、近赤外線遮蔽材１０をディスプレイ表面に適用した場合、十分な表面強度を付与することができ、耐久性を向上させることができる。ハードコート層１４の厚さは、１〜２０μｍであることが好ましい。この厚さが１μｍ未満の場合には、近赤外線遮蔽材１０に十分な硬度を持たせることが難しくなるため好ましくない。一方、厚さが２０μｍを越える場合には、近赤外線遮蔽材１０について耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。

ハードコート層１４を形成する材料は特に限定されず、例えば単官能（メタ）アクリレート（ここで、本明細書では（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの双方を含む総称を意味する。）、多官能（メタ）アクリレート及びテトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物等の硬化物が挙げられる。これらのうち生産性及び硬度を両立させる観点より、紫外線硬化性の多官能アクリレートを含む組成物の重合硬化物であることが特に好ましい。このような紫外線硬化性の多官能アクリレートを含む組成物としては特に限定されるものではなく、例えば公知の紫外線硬化性の多官能アクリレートを２種類以上混合したもの、紫外線硬化性ハードコート材として市販されているもの、或いはこれら以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分をさらに添加したものを用いることができる。

紫外線硬化性の多官能アクリレートとしては特に限定されず、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコールのアクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジアクリレート及びポリウレタンアクリレート等が挙げられる。

紫外線硬化性の多官能アクリレートを含む組成物に含まれるその他の成分としては、例えば無機又は有機の微粒子状充填剤、無機又は有機の微粒子状顔料及びそれ以外の無機又は有機微粒子、導電性を有する無機金属微粒子又は有機化合物、その他の重合体、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等が挙げられる。また、ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる場合には、任意の量の溶媒を添加することができる。

また、ハードコート層１４の形成方法は特に限定されず、有機材料を用いた場合には、ロールコート法、ダイコート法等、一般的なウェットコート法を採用することができる。ウェットコート後には必要に応じて加熱や紫外線、電子線等の活性エネルギー線照射により硬化反応を行うことができる。

次に、減反射層１３は、単層構成又は多層構成とすることができる。単層構成の場合には、ハードコート層１４上に該ハードコート層１４よりも低い屈折率の層（低屈折率層）を１層形成する。また多層構成の場合には、ハードコート層１４の上に屈折率の異なる層を多層積層形成する。多層構成とすることにより、反射率をより効果的に下げることができる。具体的には、例えば図１（ｂ）に示すように、減反射層１３は、ハードコート層１４側から見て順に高屈折率層１５及び低屈折率層１６からなる２層で構成される。また、減反射層１３は、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からなる３層で構成される。さらに、減反射層１３は、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からなる４層等で構成される。減反射効果の観点からは３層以上の構成が好ましく、生産性及び生産コストの観点からは単層構成又は２層構成が好ましい。

減反射層１３の形成方法は特に限定されず、例えばドライコーティング法、ウェットコーティング法等の方法が採用される。これらの方法のうち、生産性及び生産コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は公知の方法でよく、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法等が代表的な方法である。これらの中では、ロールコート法等、連続的に減反射層を形成できる方法が生産性及び生産コストの点より好ましい。減反射層１３の機能を発現させるために、低屈折率層１６の屈折率としては、形成される層がその直下の層よりも低屈折率であることを要件とし、その屈折率は１．２０〜１．４５の範囲にあることが好ましい。屈折率が１．４５を越える場合にはウェットコーティング法では十分な減反射効果を得ることが難しく、１．２０未満の場合は十分に硬い層を形成することが困難となる傾向にある。

さらに、２層構成とする場合には、高屈折率層１５は直上に形成される低屈折率層１６より屈折率を高くすることが必要であるため、その屈折率は１．６０〜１．９０の範囲内であることが好ましい。屈折率が１．６０未満では十分な減反射効果を得ることが難しく、またウェットコーティング法で１．９０を越える層を形成するのは困難となる傾向にある。加えて、中屈折率層を設けた多層構成とする場合には、積層する高屈折率層より屈折率が低く、低屈折率層より屈折率が高くなるという要件を満たす限り、その屈折率は特に限定されない。

減反射層１３の厚さは、透明基材１１の種類、形状、減反射層１３の構造によって異なるが、一層当たり可視光線の波長と同じ厚さ又はそれ以下の厚さが好ましい。例えば、可視光線に減反射効果を現す場合には、高屈折率層１５の光学膜厚ｎ_Ｈ・ｄは５００≦４ｎ_Ｈ・ｄ（ｎｍ）≦７５０、及び低屈折率層１６の光学膜厚ｎ_Ｌ・ｄは、４００≦４ｎ_Ｌ・ｄ（ｎｍ）≦６５０を満たすように設計される。但し、ｎ_Ｈ及びｎ_Ｌはそれぞれ高屈折率層１５及び低屈折率層１６の屈折率、ｄは層の厚さを表す。

高屈折率層１５を構成する材料としては特に限定されるものではなく、無機材料又は有機材料を用いることができる。無機材料としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫等の微粒子が挙げられる。特に、導電性の面より酸化錫、酸化インジウム錫等の導電性微粒子を用いることが好ましい。その場合には表面抵抗率を下げることができ、帯電防止能をさらに付与することができる。また、屈折率の点より酸化チタン、酸化セリウム又は酸化亜鉛が好ましい。前記有機材料としては、例えば屈折率が１．６０〜１．８０である重合性単量体を含む組成物を重合硬化したもの等を用いることができる。

無機材料の微粒子を含む高屈折率層１５は、ウェットコーティング法により形成してもよい。その場合には、屈折率が１．６０〜１．８０であるような重合性単量体のみならず、それ以外の重合性単量体及びそれらの重合体を含む組成物をウェットコーティング時のバインダーとして用いることができる。無機材料の微粒子の平均粒子径は層の厚さを大きく越えないことが好ましく、特に０．１μｍ以下であることが好ましい。微粒子の平均粒子径が大きくなると、散乱が生じる等、高屈折率層１５の光学機能が低下するため好ましくない。また、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば有機置換された珪素化合物、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシドを含む有機酸塩等が挙げられる。

低屈折率層１６を構成する材料としては、中空酸化珪素、コロイダル酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム等の無機物や、含フッ素有機化合物の単体又は混合物を用いることができる。また、フッ素を含まない有機化合物（以下、非フッ素系有機化合物と略記する）の単体若しくは混合物又は重合体をバインダー樹脂として用いることができる。

含フッ素有機化合物は特に限定されるものではないが、例えば含フッ素単官能（メタ）アクリレート、含フッ素多官能（メタ）アクリレート、含フッ素イタコン酸エステル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素化合物等の単量体及びそれらの重合体等が挙げられる。これらの中では、反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリレートが好ましく、特に含フッ素多官能（メタ）アクリレートが硬度及び屈折率の点から最も好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬化させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を形成することができる。

含フッ素単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば１−（メタ）アクリロイロキシ−１−パーフルオロアルキルメタン、１−（メタ）アクリロイロキシ−２−パーフルオロアルキルエタン等が挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜８の直鎖状、分枝状又は環状構造を有するものが挙げられる。

含フッ素多官能（メタ）アクリレートとしては、含フッ素２官能（メタ）アクリレート、含フッ素３官能（メタ）アクリレート及び含フッ素４官能（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。含フッ素２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−３−パーフルオロアルキルブタン、２−ヒドロキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート、α，ω−ジ（メタ）アクリロイルオキシメチルパーフルオロアルカン等が好ましい。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜１１の直鎖状、分枝状又は環状構造を有するものが、パーフルオロアルカン基は直鎖状のものが好ましい。これらの含フッ素２官能（メタ）アクリレートは、使用に際して単独又は混合物として用いることができる。

含フッ素３官能（メタ）アクリレートの例としては、例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート等が挙げられる。パーフルオロアルキル基は、炭素数１〜１１の直鎖状、分枝状又は環状のものが好ましい。

また、含フッ素４官能（メタ）アクリレートの例としては、α，β，ψ，ω−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−αＨ，αＨ，βＨ，γＨ，γＨ，χＨ，χＨ，ψＨ，ωＨ，ωＨ−パーフルオロアルカン等が好ましい。パーフルオロアルカン基は、炭素数１〜１４の直鎖状のものが好ましい。含フッ素４官能（メタ）アクリレートは、単独又は混合物として用いることができる。含フッ素珪素化合物の具体的な例としては、（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキル）トリメトキシシラン等が好ましい。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜１０の直鎖状、分枝状又は環状のものが好ましい。

上記含フッ素有機化合物の重合体又はその他の含フッ素有機化合物の重合体としては、含フッ素有機化合物の単独重合体、共重合体、又は非フッ素系有機化合物との共重合体等の直鎖状重合体、鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環状重合体、櫛型重合体等が挙げられる。前記非フッ素系有機化合物としては、従来公知のものを用いることができ、例えば単官能又は多官能（メタ）アクリレート、テトラエトキシシラン等の珪素化合物等が挙げられる。

低屈折率層１６を構成する材料としては、有機又は無機微粒子として従来公知のものを用いることができる。例えば、中空酸化珪素微粒子、コロイダル酸化珪素（コロイダルシリカ）微粒子、有機重合体微粒子等が挙げられる。これら微粒子の平均粒子径は、低屈折率層１６の厚さを大きく越えないことが好ましく、０．１μｍ以下であることが特に好ましい。平均粒子径が大きくなると、光の散乱が生じる等、低屈折率層１６の光学性能が低下するため好ましくない。さらに、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば有機置換された珪素化合物や、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシドを含む有機酸塩等が挙げられる。特に、表面を（メタ）アクリロイル基等の反応性基で修飾することにより、硬度の高い膜を形成することができる。

また、減反射層１３には上記化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分は特に限定されるものではなく、例えば無機又は有機顔料、その他の重合体、重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤等が挙げられる。また、ウェットコーティング法によって成膜後乾燥させる場合には、任意の量の溶媒を添加することができる。

減反射層１３はウェットコーティング法により成膜した後、必要に応じて紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って減反射層１３を形成することができる。このような活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。

図１（ｃ）に示すように、透明基材１１の近赤外線遮蔽層１２が形成される面及び減反射層１３が形成される面には、光の干渉むらを低減させ得る第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８がそれぞれ設けられていることが好ましい。透明基材１１上にそれぞれ第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８を設けることにより、透明基材１１とその直上に設けられる層との間の干渉光に起因する干渉むらを抑えることができる。

前記第１の干渉層１７を設ける場合には、透明基材１１上に第１の干渉層１７、その上に近赤外線遮蔽層１２となる順に積層することが好ましい。近赤外線遮蔽層１２の屈折率は１．４５〜１．６５で、膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。また、透明基材１１と近赤外線遮蔽層１２の屈折率の関係は、｛（透明基材１１の屈折率）×（近赤外線遮蔽層１２の屈折率）｝^１／２±０．０３の範囲内、好ましくは、｛（透明基材１１の屈折率）×（近赤外線遮蔽層１２の屈折率）｝^１／２±０．０２の範囲内である。第１の干渉層１７は、光学膜厚が１２５〜１６５ｎｍであって、さらに各層の屈折率が透明基材１１の屈折率＞第１の干渉層１７の屈折率＞近赤外線遮蔽層１２の屈折率又は近赤外線遮蔽層１２の屈折率＞第１の干渉層１７の屈折率＞透明基材１１の屈折率の関係にあることが好ましい。ここで、光学膜厚とは、層の屈折率（ｎ）と層の厚さ（ｄ）の積で（ｎ×ｄ）を意味する。

この場合、波長５００〜６５０ｎｍにおける反射率の振幅差の最大値が１％以下、即ち、近赤外線遮蔽材１０表面の反射スペクトルを測定した際の波長５００〜６５０ｎｍにおける近赤外線遮蔽層１２と透明基材１１間の干渉光に起因する振幅の最大値が、１％以下の差になることが好ましい。振幅差の最大値は、さらに好ましくは０．５％以下である。振幅差の最大値が１％を越えると干渉むらが目立つため、好ましくない。第１の干渉層１７の屈折率及び光学膜厚が上記の範囲外である場合には、光の干渉むらの低減効果が低減するため好ましくない。また、近赤外線遮蔽層１２の屈折率が上記の範囲外である場合にも、同様の理由で好ましくない。

第１の干渉層１７は屈折率及び光学膜厚が上記範囲内であればよく、第１の干渉層１７を形成する材料は特に限定されない。第１の干渉層１７を形成する材料としては、例えば有機物又は無機物の単独又は混合物を用いることができ、有機物としては例えばアクリレート等の反応性単量体や重合体が、無機物としては例えば珪素化合物や金属、金属酸化物等が挙げられる。

また、第１の干渉層１７の形成方法についても特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法等のドライコート法や、ディップコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等のウェットコート法が挙げられる。これらの方法のうち、特に厚さを正確に制御できる方法が好ましい。

第１の干渉層１７には本発明の効果を損なわない限り、他の機能を付与することができる。このような機能として例えば、透明基材１１と近赤外線遮蔽層１２との密着性の向上等が挙げられる。また、樹脂材料から透明基材１１を作製する際、同時に表面に第１の干渉層１７を形成させることができる。例えば、透明基材１１がポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、その上に積層する近赤外線遮蔽層１２との密着性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルムの製造時にインラインでポリエチレンテレフタレートフィルム表面にポリエステル系の樹脂等からなる接着剤を塗布して易接着層を形成する。この易接着層の屈折率及び膜厚を第１の干渉層１７の条件に合わせることにより易接着層が第１の干渉層１７を兼ねることができる。

前記第２の干渉層１８を設ける場合には、透明基材１１側から、第２の干渉層１８、ハードコート層１４、減反射層１３の順に積層される。この場合、近赤外線遮蔽層１２側及び減反射層１３側に設けられるハードコート層１４の干渉むらを低減させることができるため、優れた視認性を得ることができ、かつ不要な近赤外線を遮蔽することができるとともに、光の反射を低減できる減反射機能を発揮することができる。

上記ハードコート層１４の干渉むらを低減させるためには、ハードコート層１４は屈折率が１．４５〜１．６５で、光学膜厚が１〜２０μｍであることが好ましい。ハードコート層１４の屈折率が１．４５未満の場合には、入手が容易でなく、高価な低屈折率となる材料を添加しなければならなくなるため、コストが上昇する等の問題が生じてしまい、好ましくない。一方、屈折率が１．６５を越える場合には、透明基材１１との屈折率差が小さくなって減反射効果が弱くなるため好ましくない。

また、第２の干渉層１８は、屈折率が好ましくは｛（透明基材１１の屈折率）×（ハードコート層１４の屈折率）｝^１／２±０．０３の範囲内、より好ましくは、｛（透明基材１１の屈折率）×（ハードコート層１４の屈折率）｝^１／２±０．０２の範囲内で、光学膜厚が１２５〜１６５ｎｍである。さらに、各層の屈折率が透明基材１１の屈折率＞第２の干渉層１８の屈折率＞ハードコート層１４の屈折率の関係を満たすことが好ましい。第２の干渉層１８の屈折率及び光学膜厚が、上記の範囲外である場合には、光の干渉むらの低減効果が低くなるため好ましくない。

第２の干渉層１８は屈折率及び光学膜厚が上記範囲内であればよく、第２の干渉層１８を形成する材料は特に限定されない。その材料としては例えば有機物又は無機物を用いることができ、有機物としてはアクリレート等の反応性単量体やその重合体が、無機物としては珪素化合物や金属、金属酸化物等が挙げられる。これらの有機物又は無機物は、単独又は混合物として用いることができる。また、第２の干渉層１８の形成方法においても特に限定されず、従来公知の方法が採用される。例えば蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法等のドライコート法や、ディップコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等のウェットコート法が挙げられる。これらの方法のうち、特に厚さを正確に制御できる方法が好ましい。

第２の干渉層１８には本発明の効果を損なわない限り、他の機能、例えば透明基材１１とハードコート層１４との密着性の向上機能等を付与することができる。また、樹脂材料から透明基材１１を作製する際、同時にその表面に第２の干渉層１８を形成させることができる。例えば、透明基材１１がポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、その上に積層する層との密着性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルムの製造時にインラインでポリエチレンテレフタレートフィルム表面にポリエステル系の樹脂等からなる接着剤を塗布して易接着層を形成する。この易接着層の屈折率及び膜厚を第２の干渉層１８の条件に合わせることにより、易接着層が第２の干渉層１８を兼ねることができる。

近赤外線遮蔽材１０の近赤外線遮蔽層１２が形成されている面には、接着層を設けることができる。係る接着層に用いられる材料は特に限定されるものではないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤等を用いることができる。また、この接着層には特定波長域の光の遮断、コントラスト向上、色調補正等の機能を一種類以上付与することができる。例えば、近赤外線遮蔽材１０の透過光が黄色味を帯びている等、好ましくない場合には色素等を添加して色調補正することができる。

また、近赤外線遮蔽材１０は、近赤外線遮蔽効果及び減反射効果を必要とする用途に用いることができる。特に、電子画像表示装置の表面に使用することができる。電子画像表示装置としては、例えば、ブラウン管、プラズマディスプレイ、液晶表示装置等が挙げられるが、この中でも表示装置から不要な近赤外線が放出されるプラズマディスプレイに好適に使用することができる。近赤外線遮蔽材１０を表示画面上に配置する場合には、近赤外線遮蔽材１０を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせることにより行われる。この場合、接着層等の層を介して行うこともできる。

さて、本実施形態の作用について説明すると、近赤外線遮蔽材１０は、透明基材１１の一方の面に近赤外線吸収色素を含有してなる近赤外線遮蔽層１２を有し、他方の面に減反射層１３を有している。近赤外線吸収色素は前記一般式（１）で表されるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩であり、その吸収スペクトルが従来のジイモニウム塩の吸収スペクトルに比べて２０ｎｍ程度短波長側にシフトするというブルーシフト効果が発現される。すなわち、ジイモニウム塩の基本骨格と置換基、及びアニオン成分としてのスルホンイミドによって、電子の環境が変化して光の吸収域がシフトするものと推測される。このため、近赤外線の吸収が十分で、可視光線の吸収を抑えることができる。

さらに、透明基材１１の他方の面に設けられている減反射層１３により、近赤外線遮蔽層１２とともに近赤外線の吸収作用と可視光線の透過作用とが相乗的に高められる。さらに、可視光線領域における透過率スペクトルをよりフラットな形状に近づけることができる。

以上の実施形態によって発揮される効果について、以下にまとめて記載する。
・ 本実施形態のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材１０においては、透明基材１１の一方の面に近赤外線吸収色素を含有してなる近赤外線遮蔽層１２が設けられ、他方の面に減反射層１３が設けられている。しかも、近赤外線吸収色素が前記の一般式（１）で表されるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩である。近赤外線遮蔽層１２を構成する近赤外線吸収色素として特定のジイモニウム塩を用いることから、近赤外線吸収機能を十分に発揮でき、かつ可視光線の吸収を抑えることができる。すなわち、近赤外線吸収色素の吸収スペクトルが、従来のジイモニウム塩（日本化薬（株）製ＫａｙａｓｏｒｂＩＲＧ−０２２等）の吸収スペクトルと比較して２０ｎｍ程度短波長側にシフトしていることによるブルーシフト効果を発揮することができる。

加えて、透明基材１１の他方の面には減反射層１３が設けられていることから、前記近赤外線遮蔽層１２と相俟って近赤外線吸収機能と可視光線透過機能とが相乗的に高められる。従って、近赤外線を十分に吸収し、近赤外線領域における透過率を抑えることができる一方、波長４００〜５００ｎｍの可視光線領域における透過率を高く維持することができる。さらに、可視光線領域における透過率スペクトルをよりフラットな形状に近づけることができ、色目をより穏やかなものとすることができる。加えて、特に波長５００〜６００ｎｍの視感度中心域における透過率を高めることができ、より鮮明な画像を得ることができる。

・ 一般式（１）のジイモニウム塩のうち、ブルーシフト効果を発現する化合物を用いることにより、ジイモニウム塩による光の吸収波長が例えば２０ｎｍほど短波長側へシフトされ、近赤外線領域における透過率を一層抑制することができる。

・ また、透明基材１１は紫外線吸収剤を含有し、少なくとも３８０ｎｍ以下の紫外線を光線透過率が５％以下になるようにカットされることにより、近赤外線遮蔽層１２に含まれる近赤外線吸収色素を紫外線から効果的に保護することができ、近赤外線遮蔽材１０の耐久性を向上させることができる。

・ 電子画像表示装置は、前記の近赤外線遮蔽材１０を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせて構成されている。従って、電子画像表示装置の表示画面について近赤外線領域における透過率を抑えることができる一方、可視光線領域における透過率を高く維持することができる。さらに、反射率を低く抑えることができ、視認性を向上させることができる。特に、プラズマディスプレイにおいて、リモートコントロール等の周辺機器の誤動作を防ぎ、さらにディスプレイ前面の反射を低く抑えることで、鮮明な画像を得ることができる。

以下、製造例、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明する。なお、光線透過率は、分光光度計（「ＵＶ−１６００ＰＣ」、（株）島津製作所製）を用いて測定した。また、分光反射率（最小反射率）は、ディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材１０の近赤外線遮蔽層１２をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを、分光光度計（「Ｕ−ｂｅｓｔ ５６０」、日本分光（株）製）を用いて、波長４００〜８００ｎｍにおける５°、−５°正反射スペクトルを測定することにより得た。
〔製造例１−１、近赤外線遮蔽層用塗液（ＮＩＲＡ−１）の調製〕
近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるジイモニウム塩〔ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（４，４，４−トリフルオロブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、日本カーリット（株）製の製品名：「ＣＩＲ−１０８５Ｆ」〕５．０質量部、バインダー樹脂としてアクリル系樹脂（三菱レイヨン（株）製の製品名：「ダイヤナールＢＲ−８０」）１００質量部、溶剤としてメチルエチルケトン４５０質量部及びトルエン４５０質量部を混合攪拌して溶解し、近赤外線遮断層用塗液（ＮＩＲＡ−１）を調製した。
〔製造例１−２、近赤外線遮蔽層用塗液（ＮＩＲＡ−２）の調製〕
近赤外線吸収色素として、ジイモニウム塩〔ビス｛ビス（過塩素酸）｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、日本カーリット（株）製の製品名：「ＣＩＲ−１０８０」〕７．５質量部を用いた以外は、製造例１−１と同様にして、近赤外線遮蔽層用塗液（ＮＩＲＡ−２）を調製した。
〔製造例１−３、近赤外線遮蔽層用塗液（ＮＩＲＡ−３）の調製〕
近赤外線吸収色素として、ジイモニウム塩〔ビス｛ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）｝−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、日本化薬（株）製の製品名：「ＩＲＧ−０２２」〕７．５質量部を用いた以外は、製造例１−１と同様にして、近赤外線遮蔽層用塗液（ＮＩＲＡ−３）を調製した。
〔製造例１−４、近赤外線遮蔽層用塗液（ＮＩＲＡ−４）の調製〕
近赤外線吸収色素として、ジイモニウム塩（日本化薬（株）製の製品名：「ＩＲＧ−０２２」）３．０質量部、含フッ素フタロシアニン系化合物（（株）日本触媒製の製品名：「Ｅｘｃｏｌｏｒ ８１０Ｋ」）２．０質量部を用いた以外は、製造例１−１と同様にして、近赤外線遮蔽層用塗液（ＮＩＲＡ−４）を調製した。
〔製造例２−１、ハードコート層用塗液（ＨＣ−１）の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０質量部、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン３０質量部、光重合開始剤（チバガイギー（株）製の商品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）４質量部、イソプロパノール１００質量部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ−１）を調製した。
〔製造例２−２、ハードコート層用塗液（ＨＣ−２）の調製〕
アンチモンドープ酸化錫の３０質量％メチルエチルケトン分散液（石原産業（株）の商品名：「ＳＮＳ−１０Ｍ」）１７質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）の商品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）５質量部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ−２）を調製した。
〔製造例３、高屈折率層用塗液（Ｈ−１）の調製〕
平均粒径０．０７μｍのＩＴＯ微粒子８５質量部、テトラメチロールメタントリアクリレート１５質量部、光重合開始剤（日本化薬（株）製の商品名：「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ」）５質量部、ブチルアルコール９００質量部を混合し、高屈折率層用塗液（Ｈ−１）を調製した。
〔製造例４−１、低屈折率層用塗液（Ｌ−１）の調製〕
１，１０−ジアクリロイルオキシ−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロデカン７０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部、シリカゲル微粒子分散液（日産化学（株）製の商品名：「ＸＢＡ−ＳＴ」）６０質量部、光重合開始剤（日本化薬（株）製の商品名：「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ」）５質量部を混合して低屈折率層用塗液（Ｌ−１）を調製した。
〔製造例４−２、低屈折率層用塗液（Ｌ−２）の調製〕
含フッ素反応性ポリマー［パーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビスフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）１０４質量部と、ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノイル）パーオキサイドの８質量％パーフルオロヘキサン溶液１１質量部との重合反応により得られ、数平均分子量７２，０００、重量平均分子量１１８，０００であるヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテルポリマー５質量部と、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）４３質量部、ピリジン１質量部、α−フルオロアクリル酸フルオライド１質量部との反応により得られる固形分１３質量％、α−フルオロアクリロイル基の導入率４０モル％である含フッ素反応性ポリマー］５０質量部（固形分）、変性中空シリカ微粒子［ＩＰＡ分散中空シリカゾル（触媒化成（株）の商品名：「ＥＬＣＯＭ ＮＹ−１００１ＳＩＶ」、平均粒径６０ｎｍ）２０００質量部、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学（株）の商品名：「ＫＢＭ５１０３」）７０質量部、蒸留水８０質量部より得られる平均粒子径０．０６μｍの変性中空シリカ微粒子］５０質量部（固形分）、光重合開始剤（チバ・スペシャルティケミカルズ（株）の商品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７」）２質量部、及びイソプロピルアルコール２０００質量部を混合して、低屈折率層用塗液（Ｌ−２）を調製した。
〔製造例５−１、干渉層用塗液（ＩＦ−１）の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部、テトラメチロールメタントリアクリレート１０質量部、平均粒子径０．０５μｍの酸化錫微粒子７０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティケミカル製の製品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７」）２質量部を２−ブタノール１０００質量部に溶解乃至分散して干渉層用塗液（ＩＦ−１）を調製した。
〔製造例５−２、干渉層用塗液（ＩＦ−２）の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３０質量部、テトラメチロールメタントリアクリレート２０質量部、平均粒子径０．０５μｍの酸化錫微粒子５０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティケミカル製の製品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７」）２質量部を２−ブタノール１０００質量部に溶解乃至分散して干渉層用塗液（ＩＦ−２）を調製した。
（実施例１）
厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人デュポンフィルム（株）製の商品名：「ＨＢ３」）上に、近赤外線遮蔽層用塗液ＮＩＲＡ−１を、乾燥膜厚１０μｍ程度になるようにバーコーターを用いて塗布した。その後、１００℃で１０分間乾燥することにより、ＰＥＴフィルムの一方の面に近赤外線遮蔽層１２を作製した。

続いて、ＰＥＴフィルムの他方の面に、ハードコート層用塗液ＨＣ−１を、乾燥膜厚５μｍ程度になるようにバーコーターを用いて塗布後、４００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線を照射して硬化させた。次いで、ハードコート層１４上に高屈折率用塗液Ｈ−１及び低屈折率層塗液Ｌ−１を、光学膜厚がそれぞれ１１０〜１２５ｎｍになるようにスピンコーターを用いて塗布、乾燥後、窒素雰囲気下に４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、近赤外線遮蔽材１０を作製した。
（実施例２）
厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製の商品名：「ＨＢ３」）上に、第１の干渉層１７として干渉層用塗液ＩＦ−１を、光学膜厚が１１０〜１２５ｎｍとなるように、スピンコーターを用いて塗布した。乾燥後、窒素雰囲気下４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、第１の干渉層１７を作製した。作製した第１の干渉層１７上に、近赤外線遮蔽層用塗液ＮＩＲＡ−１を、乾燥膜厚１０μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布後、１００℃で１０分間乾燥することにより、近赤外線遮蔽材１０を作製した。

続いて、ＰＥＴフィルムの他方の面に、第２の干渉層１８として干渉層用塗液ＩＦ−２を、第１の干渉層１７と同様にして作製した。作製した第２の干渉層１８上に、ハードコート層用塗液ＨＣ−１を、乾燥膜厚が５μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布後、４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させた。次いで、ハードコート層１４上に高屈折率用塗液Ｈ−１及び低屈折率層塗液Ｌ−１を、光学膜厚が１１０〜１２５ｎｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布、乾燥後、窒素雰囲気下４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、近赤外線遮蔽材１０を作製した。

作製された近赤外線遮蔽材１０について、モニター１０人により目視評価したところ、第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８が設けられていることにより干渉むらが目立たず、実施例１よりも優れた視認性を有していることが分かった。
（実施例３）
厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製の商品名：「ＨＢ３」）上に、第２の干渉層１８として干渉層用塗液ＩＦ−２を、光学膜厚が１１０〜１２５ｎｍとなるように、スピンコーターを用いて塗布した。乾燥後、窒素雰囲気下４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、第２の干渉層１８を作製した。作製した第２の干渉層１８上に、ハードコート層用塗液ＨＣ−２を乾燥膜厚が１μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布後、２００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させた。次いで、ハードコート層１４上に低屈折率層塗液Ｌ−２を光学膜厚が１１０〜１２５ｎｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布、乾燥後、窒素雰囲気下４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、減反射層１３を作製した。

続いて、ＰＥＴフィルムの他方の面に、第１の干渉層１７として干渉層用塗液ＩＦ−１を、第２の干渉層と同様にして作製した。作製した第１の干渉層１７上に、近赤外線遮蔽層用塗液ＮＩＲＡ−１を、乾燥膜厚１０μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布後、１２０℃で５分間乾燥することにより、近赤外線遮蔽材１０を作製した。

作製された近赤外線遮蔽材１０について、実施例２と同様にモニター１０人による目視評価を行ったところ、実施例１よりも優れた視認性を有していることが分かった。
（実施例４）
厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製の商品名：「ＨＢ３」）上に、第２の干渉層１８として干渉層用塗液ＩＦ−２を、光学膜厚が１１０〜１２５ｎｍとなるように、スピンコーターを用いて塗布した。乾燥後、窒素雰囲気下４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、第２の干渉層１８を作製した。作製した第２の干渉層１８上に、ハードコート層用塗液ＨＣ−１を乾燥膜厚が２μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布後、２００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させた。次いで、ハードコート層１４上に、高屈折率層用塗液Ｈ−１及び低屈折率層塗液Ｌ−２を光学膜厚が１１０〜１２５ｎｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布、乾燥後、窒素雰囲気下４００ｍＪ／ｃｍ^２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、減反射層１３を作製した。

続いて、ＰＥＴフィルムの他方の面に、第１の干渉層１７として干渉層用塗液ＩＦ−１を、第２の干渉層と同様にして作製した。作製した第１の干渉層１７上に、近赤外線遮蔽層用塗液ＮＩＲＡ−１を、乾燥膜厚１０μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布後、１２０℃で５分間乾燥することにより、近赤外線遮蔽材１０を作製した。

作製された減反射性近赤外線遮蔽材１０について、実施例２と同様にモニター１０人による目視評価を行ったところ、実施例１よりも優れた視認性を有していることが分かった。
（比較例１）
厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製の商品名：「ＨＢ３」）上に、近赤外線遮蔽層用塗液ＮＩＲＡ−１を、乾燥膜厚１０μｍとなるようにバーコーターを用いて塗布後、１００℃で１０分間乾燥することにより、近赤外線遮蔽材を作製した。
（比較例２）
実施例１において、近赤外線遮蔽層用塗液をＮＩＲＡ−１に代えてＮＩＲＡ−２を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線遮蔽材１０を作製した。
（比較例３）
実施例１において、近赤外線遮蔽層用塗液をＮＩＲＡ−１に代えてＮＩＲＡ−３を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線遮蔽材１０を作製した。
（比較例４）
実施例１において、近赤外線遮蔽層用塗液をＮＩＲＡ−１に代えてＮＩＲＡ−４を用いた以外は実施例１と同様にして、近赤外線遮蔽材１０を作製した。

実施例１〜４及び比較例１〜４における近赤外線遮蔽材の透過率及び最小反射率を測定した。それらの結果を表１に示した。さらに、実施例１及び比較例２について、光の波長（ｎｍ）と透過率（％）との関係を示すスペクトルを測定し、それぞれ図２及び図３に示した。

表１の結果から、実施例１の近赤外線遮蔽材１０は、ＰＥＴフィルムの他方の面に減反射層１３を設けたことから、減反射層１３を設けていない比較例１に比べて波長５００〜６００ｎｍの視感度中心領域における透過率を４．０〜４．８％高めることができた。また、実施例２ではＰＥＴフィルム上に第１の干渉層１７を設けたため、干渉むらを抑えることができるとともに、波長５００〜６００ｎｍにおける透過率を実施例１に比べて若干（０．３〜０．５％）高めることができた。さらに、波長４５０ｎｍにおける透過率の低下を抑えることができ、可視光線領域における光線透過率のスペクトル形状をよりフラットに近づけられることが分かった。これにより、より穏やかな色目を得ることができ、視認性がより向上することが確認された。この効果は、実施例３〜４においても同様であった。

一方、比較例２〜４では、従来のジイモニウム塩又は従来のジイモニウム塩とその他の近赤外線吸収色素を併用したことから、波長５００〜６００ｎｍにおける透過率が実施例１に比べて約４〜１０％低下する結果となった。さらには、プラズマディスプレイの青色発光域である波長４５０ｎｍ付近における透過率が、１５〜２０％も低下した。

また、図２に示すように、実施例１では近赤外線遮蔽機能及び減反射機能により、近赤外線領域（光の波長８００〜１０００ｎｍ）における光の透過を抑えることができるとともに、可視光線領域（光の波長４００〜６００ｎｍ）における透過率を高く維持することができた。加えて、ブルーシフト効果により、光の波長４００ｎｍでも十分な透過率を得ることができ、かつ光の波長４００〜５００ｎｍでスペクトルを従来よりフラットにすることができた。なお、実施例２については図示していないが、実施例１とほぼ同様の効果が得られた。

一方、図３に示す比較例２では、従来のジイモニウム塩を使用したため、可視光線領域（光の波長４００〜６００ｎｍ）における透過率が低く、特に光の波長４００ｎｍでの透過率が低く、光の波長４００〜５００ｎｍでのスペクトルを十分にフラットなものにすることができなかった。
（実施例５）
実施例１で作製した近赤外線遮蔽材１０における近赤外線遮蔽層１２の表面に、アクリル系粘着シート（リンテック（株）製の製品名：「ノンキャリア」）を、ハンドローラーを用いてそれぞれ均一に貼り合わせた。次いで、近赤外線遮蔽材１０を粘着シートを介してプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせた。
（実施例６）
実施例５において、実施例２の近赤外線遮蔽材１０を用いた以外は実施例５と同様にして、近赤外線遮蔽材１０をプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせた。
（実施例７）
実施例５において、実施例３の近赤外線遮蔽材１０を用いた以外は実施例５と同様にして、近赤外線遮蔽材１０をプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせた。
（実施例８）
実施例５において、実施例４の近赤外線遮蔽材１０を用いた以外は実施例５と同様にして、近赤外線遮蔽材１０をプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせた。
（比較例５）
実施例５において、比較例１の近赤外線遮蔽材を用いた以外は実施例５と同様にして、近赤外線遮蔽材をプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせた。
（比較例６）
実施例５において、比較例２の近赤外線遮蔽材を用いた以外は実施例５と同様にして、近赤外線遮蔽材をプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせた。
（比較例７）
実施例５において、比較例３の近赤外線遮蔽材を用いた以外は実施例５と同様にして、近赤外線遮蔽材をプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせた。
（比較例８）
実施例５において、比較例４の近赤外線遮蔽材を用いた以外は実施例５と同様にして、近赤外線遮蔽材をプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせた。

そして、実施例５〜８及び比較例５〜８における画像の鮮明度及び視認性を、モニター１０人により目視評価し、それらの結果を表２に示した。評価は次のような基準に基づいて、３段階で行った。即ち、画像の鮮明度においては、赤、緑、青が極めて鮮やかに映る場合を◎、赤、緑、青が鮮やかに映る場合を○、赤、緑、青が鮮やかに映らない場合を×とした。また、視認性においては、映り込みがなく干渉むらがほとんど目立たない場合を◎、干渉むらはやや目立つが映り込みがない場合を○、映り込みがあり干渉むらが目立つ場合を×とした。

表２の結果から、比較例５〜７では、実施例５〜８に比べて、波長４５０ｎｍ付近における透過率が低くなっていることから、青色が不鮮明に映って鮮やかな画像を得ることができず、ディスプレイ表面での使用について満足できるものではなかった。また、比較例８では、同様に実施例５〜８に比べて、可視光線領域、特に視感度中心域における透過率が低いことから、より鮮明な画像を得ることはできなかった。

これに対して、実施例５〜８では、前記一般式（１）に示す近赤外線吸収色素によるブルーシフト効果と減反射層１３による減反射効果とを併せ奏することにより、波長４５０ｎｍにおける透過率の低下を抑えることができ、可視光線領域における透過率スペクトルをよりフラットな形状に近づけることができた。かつ、可視光線領域、特に視感度中心域における透過率の低下を抑えることにより、一層鮮明な画像を得ることが可能となることが確認された。同時に、反射率を低く抑えることができたため、映り込みが少なく、優れた視認性を有していることも確認された。さらには、実施例６〜８のように、第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８を設けることにより、それらの干渉層を設けていない実施例５に比べて、画像の鮮明度及び視認性がより向上することが分かった。

なお、本実施形態は、次のように変更して実施することも可能である。
・ 前記近赤外線吸収色素として、前記一般式（１）で表されるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩を複数用い、光の吸収波長が所望波長となるように調整することもできる。

・ 近赤外線遮蔽層１２や減反射層１３に紫外線吸収剤を配合し、近赤外線吸収色素を紫外線から保護するように構成することもできる。
・ 透明基材１１と近赤外線遮蔽層１２との間にハードコート層１４を設けることも可能である。

さらに、前記実施形態より把握される技術的思想について以下に記載する。
・ 前記透明基材が紫外線吸収剤を含有し、少なくとも３８０ｎｍ以下の紫外線を光線透過率が５％以下になるようにカットすることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材。このように構成した場合、透明基材が紫外線吸収剤を含有し、少なくとも３８０ｎｍ以下の紫外線を光線透過率が５％以下になるようにカットされる。このため、第１又は第２の発明の効果に加えて、近赤外線遮蔽層に含まれる近赤外線吸収色素を紫外線から効果的に保護することができ、ディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材の耐久性を向上させることができる。

・ 前記透明基材と近赤外線遮蔽層との間には、少なくとも光の干渉層を設けることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材。このように構成した場合、請求項１又は請求項２に係る発明の効果に加え、干渉光に起因する干渉むらを抑制することができる。

・ 前記透明基材と減反射層との間には、少なくともハードコート層を設けることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材。このように構成した場合、請求項１又は請求項２に係る発明の効果に加え、近赤外線遮蔽材の表面硬度を高めることができる。

・ 前記透明基材と近赤外線遮蔽層との間には光の干渉層を設けるとともに、透明基材と減反射層との間には、ハードコート層及び光の干渉層を設けることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材。このように構成した場合、請求項１又は請求項２に係る発明の効果に加え、干渉光に起因する干渉むらを抑制することができ、かつ近赤外線遮蔽材の表面硬度を高めることができる。

・ 前記ジイモニウム塩は、一般式（１）中のＲがフルオロアルキル基であり、Ｒ^１及びＲ^２がそれぞれフルオロアルキル基であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材。このように構成した場合、請求項１又は請求項２に係る発明の効果を有効に発揮させることができる。

（ａ）〜（ｃ）は、実施形態におけるディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材の例を示す断面図。 実施例１について、光の波長と透過率との関係を表すスペクトルを示す図。 比較例２について、光の波長と透過率との関係を表すスペクトルを示す図。

符号の説明

１０…ディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材、１１…透明基材、１２…近赤外線遮蔽層、１３…減反射層。

Claims (3)

1. 透明基材の一方の面に近赤外線吸収色素を含有してなる近赤外線遮蔽層が設けられ、他方の面に減反射層が設けられているディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材であって、前記近赤外線吸収色素が下記の一般式（１）で表されるスルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩であることを特徴とするディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材。
   

   

   （式中、Ｒは同一又は異なる基で、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、フェニル基及びフェニルアルキレン基からなる群より選ばれる基を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ同一又は異なる基で、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を示す）
2. 前記ジイモニウム塩は、ブルーシフト効果を発現する化合物であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材。
3. 請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用減反射性近赤外線遮蔽材を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせてなる電子画像表示装置。

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