JP2007071941A - 電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法及び基板支持部材 - Google Patents

電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法及び基板支持部材 Download PDF

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Abstract

【課題】基板を支持する際に基板表面に傷を生じさせることのない電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法及び基板支持部材を提供することを目的とする。
【解決手段】平面視において液晶装置500の画像表示領域10aを含む矩形領域823内に、液晶装置500の下面に線接触する頂部821aを有する逆V字形状の波型部821が形成されたステージ801により、液晶装置500を支持する。また、液晶装置500の画像表示領域10aの周辺領域を、吸引口811から空気を吸引することにより真空吸着する。
【選択図】図8

Description

本発明は、電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法及び基板支持部材に関し、特に電気光学装置用基板を他部材上に位置決めして搭載する電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法及び基板支持部材に関する。
平板状の基板を有する電気光学装置の製造装置においては、上方に水平面を有するステージ上に基板を支持するための基板支持部材が組み込まれている。基板支持部材の一例として、水平面に形成された凹部と、凹部から空気吸引装置に連通する空気排出路とを具備した基板支持部材が、特開平10−173088号公報に開示されている。この基板支持部材の凹部において、空気排出路を介して空気を吸引することにより、基板が凹部が形成された水平面に吸着される。
特開平10−173088号公報
しかしながら、基板を水平面に吸着して支持する場合においては、基板下面と水平面上との間に異物が挟まれてしまった場合、基板下面に傷が生じてしまう虞があった。例えば液晶装置のような電気光学装置用の基板において、このような傷が画像表示領域内に発生した場合、表示品位の低下及び液晶装置の製造の歩留りの悪化の原因となってしまう。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、基板を支持する際に基板表面に傷を生じさせることのない電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法及び基板支持部材を提供することを課題とする。
本発明に係る電気光学装置の製造装置は、電気光学装置用の基板の下面に接して前記基板を支持する基板支持部材と、該基板支持部材上において前記基板の側面と当接するように動かされる前記基板を位置決めする位置規定部材とを具備し、前記基板支持部材は、上面が前記基板の前記下面に面接触し、その面接触する前記上面の形状がL字形状である周辺支持部と、該周辺支持部の前記上面を延長した平面内であり、かつ前記L字形状の内角側の領域において、前記基板の前記下面に点接触又は線接触する1つ又は複数の突出部とを具備したことを特徴とする。
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学装置用の基板を、前記電気光学装置を構成する部材上に位置決めして搭載する電気光学装置の製造方法であって、上面が前記基板の下面に面接触し、その面接触する前記上面の形状がL字形状である周辺支持部と、該周辺支持部の前記上面を延長した平面内であり、かつ前記L字形状の内角側の領域において前記基板の前記下面に点接触又は線接触する1つ又は複数の突出部とを有する基板支持部材上に前記基板を載置する工程と、前記基板支持部材上に載置された前記基板の側面に、位置規定部材を当接させることにより位置決めを行う工程とを含むことを特徴とする。
本発明のこのような構成によれば、電気光学装置用の基板は、基板下面の中央領域に線接触又は点接触する基板支持部材の突出部によって支持される。このため、基板の下面と突出部の上端部との間に異物が挟まることがない。よって、基板の下面に傷を生じさせることなく電気光学装置を製造できるという効果を有する。
また、本発明は、前記周辺支持部の前記上面に、一つ又は複数の吸引口が形成されていることが好ましい。
また、本発明は、前記周辺支持部に形成された吸引口から空気を吸引することにより、前記基板支持部材上に載置された前記基板を吸引する工程を含むことが好ましい。
このような構成によれば、周辺支持部に形成された吸引口から空気を吸引することにより電気光学装置用の基板を吸引することで、安定して基板を支持することができ、基板の位置決めを精度よく行うことができるという効果を有する。
また、本発明は、前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と線接触し、前記突出部の接触線の接線と直交し、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆V字形状であることが好ましい。
また、本発明は、前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と線接触し、前記突出部の接触線の接線と直交し、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆U字形状であることが好ましい。
また、本発明は、前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と点接触し、前記突出部の接触点を含み、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆V字形状であることが好ましい。
また、本発明は、前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と点接触し、前記突出部の接触点を含み、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆U字形状であることが好ましい。
このような構成によれば、電気光学装置用の基板の下面を、線接触または点接触により支持することが可能となり、突出部と基板下面との間に異物が挟まることがないという効果を有する。
また、本発明は、電気光学装置の製造装置は、前記基板を、前記電気光学装置を構成する部材上に搭載する移載装置を有することが好ましい。
このような構成によれば、電気光学装置用の基板を、基板下面に傷をつけることなく、電気光学装置を構成する他の部材上に搭載することが可能となるという効果を有する。
また、本発明に係る基板支持部材は、基板の下面に接して前記基板を支持する基板支持部材であって、上面が前記基板の前記下面に面接触し、その面接触する前記上面の形状がL字形状である周辺支持部と、該周辺支持部の前記上面を延長した平面内であり、かつ前記L字形状の内角側の領域において、前記基板の前記下面に点接触又は線接触する1つ又は複数の突出部とを具備したことを特徴とする。
本発明のこのような構成によれば、基板は、基板下面の中央領域に線接触又は点接触する基板支持部材の突出部によって支持される。このため、基板の下面と突出部の上端部との間に異物が挟まることがない。よって、基板支持部材は、基板の下面に傷を生じさせることなく基板を支持することが可能となるという効果を有する。
また、本発明は、前記周辺支持部の前記上面に、一つ又は複数の吸引口が形成されていることが好ましい。
このような構成によれば、周辺支持部に形成された吸引口から空気を吸引することにより基板を吸引することで、安定して基板を支持することができるという効果を有する。
また、本発明は、前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と線接触し、前記突出部の接触線の接線と直交し、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆V字形状であることが好ましい。
また、本発明は、前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と線接触し、前記突出部の接触線の接線と直交し、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆U字形状であることが好ましい。
また、本発明は、前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と点接触し、前記突出部の接触点を含み、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆V字形状であることが好ましい。
また、本発明は、前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と点接触し、前記突出部の接触点を含み、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆U字形状であることが好ましい。
このような構成によれば、基板の下面を、線接触または線接触により支持することができ、突出部と基板下面との間に異物が挟まることがないという効果を有する。
以下、本発明の実施の形態について、図1から図12を参照して説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を液晶装置に適用したものである。なお、以下の説明に用いた各図においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせてある。
本実施形態の電気光学装置の全体構成について、図1、図2及び図3を参照して説明する。ここで、図1はTFTアレイ基板を、その上に構成された各構成要素と共に対向基板の側から見た液晶装置の平面図である。図2は、図1のH−H’断面図である。図3は、電気光学装置の分解斜視図である。ここでは、電気光学装置の一例として、駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を使用した電気光学装置を例にとる。
図1及び図2において、本実施形態に係る液晶装置500では、TFTアレイ基板10と対向基板20とが対向配置されている。TFTアレイ基板10と対向基板20とは、画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されており、TFTアレイ基板10と対向基板20との間には液晶層50が封入されている。また、シール材52中には、TFTアレイ基板10と対向基板20との間隔を所定値とするためのグラスファイバあるいはガラスビーズ等のギャップ材が散らばって配設されている。
シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。なお、このような額縁遮光膜53の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。また、本実施形態においては、前記の画像表示領域10aの周辺に位置する周辺領域が存在する。言い換えれば、本実施形態においては特に、TFTアレイ基板10の中心から見て、この額縁遮光膜53より以遠が周辺領域として規定されている。
周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられている。また、走査線駆動回路104は、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102が設けられたTFTアレイ基板10の一辺に隣接する2辺に沿い、かつ額縁遮光膜53に覆われるように設けられている。また、TFTアレイ基板10の残る一辺、すなわちデータ線駆動回路101及び外部回路接続端子102が設けられたTFTアレイ基板10の一辺に対向する辺に沿って設けられ、額縁遮光膜53に覆われるように設けられた複数の配線105によって、二つの走査線駆動回路104は互いに接続されている。
また、対向基板20の4つのコーナー部には、TFTアレイ基板10との電気的接続を行う上下導通端子として機能する上下導通材106が配置されている。他方、TFTアレイ基板10にはこれらの上下導通材106に対応する領域において上下導通端子が設けられている。上下導通材106と上下導通端子を介して、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な接続が行われる。
図2において、TFTアレイ基板10上には、画素スイッチング用のTFTや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極9a上に、配向膜16が形成されている。他方、対向基板20上には、対向電極21の他、格子状又はストライプ状の遮光膜23、更には最上層部分に配向膜22が形成されている。また、液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜16及び22の間で、所定の配向状態をとる。
図3に示すように、液晶装置500のTFTアレイ基板10に設けられている外部回路接続端子102にフレキシブルコネクタ501が接続されている。また、液晶装置500を構成するTFTアレイ基板10及び対向基板20の液晶層とは反対側となる面上には、それぞれ防塵用透明基板400及び401が配設されている。
本実施形態に係る電気光学装置600は、フレキシブルコネクタ501が接続された状態の液晶装置500が、実装ケース601に収容される構造により構成されている。実装ケース601は、プレート部材610と、カバー部材620とを備えており、プレート部材610とカバー部材620により液晶装置500を挟持することにより、液晶装置500を収容する。プレート部材610、カバー部材620及び液晶装置500は、その間に接着剤が充填されることにより互いに固定される。
プレート部材610は、平板を加工して形成した板金製である。プレート部材610は、プレート部材610のカバー部材620と対向する面に直交する方向から見たとき(以下、平面視と称す。)において、液晶装置500の防塵用透明基板400の外形寸法よりも大きい略矩形状に形成されている。プレート部材610の一面には、液晶装置500のTFTアレイ基板10側に配設された防塵用透明基板400の表面を接着面として、液晶装置500が接着され固定される。プレート部材610には、液晶装置500の画像表示領域10aに対向する箇所に、開口部615が形成されている。また、平面視においてプレート部材610の、液晶装置500のフレキシブルコネクタ501が接続された辺に連続する2辺と略平行となる2辺には、折り曲げ部613が曲げ形成されている。折り曲げ部613は、液晶装置500が接着される面を内側にして直角に曲げ形成される。すなわち、プレート部材610は、コの字状の断面形状を有する。また、平面視において、プレート部材610の四隅と、液晶装置500のフレキシブルコネクタ501が接続された辺とは反対側となる辺と平行となる辺中央の近傍に、貫通孔である取付孔611が形成されている。
一方、カバー部材620は、アルミニウム合金等を素材として成型されたダイカスト製である。カバー部材620は、プレート部材610と同様に、平面視において略矩形状を有し、その対向する2辺に折り曲げ部が形成されたコの字上の断面形状を有する。液晶装置500は、プレート部材610とカバー部材620のそれぞれのコの字形状の内側に収容されるものである。カバー部材620には、液晶装置500の画像表示領域10aに対向する箇所に、開口部625が形成されている。また、カバー部材620には、平面視において、プレート部材610に形成された取付孔611と対向する領域に切り欠きが形成されている。
なお、本実施形態の電気光学装置600においては、カバー部材620の開口部625から光源光が入射し、液晶装置500を透過して、プレート部材610の開口部615から出射するものである。
次に、本実施形態に係る電気光学装置600の製造装置について図4及び図5を参照して説明する。本実施形態においては、図3に示すプレート部材610の開口部615の辺縁部615a(図3の斜線ハッチングで示す部分)と、この辺縁部615aに対する液晶装置500の当接部位とがシリコン接着剤により接着される。このとき、液晶装置500の画像表示領域10aと、プレート部材610の開口部615とは、それぞれの中心と角度を一致させて接着されなければならない。本実施形態に係る電気光学装置600の製造装置であるプレートケーシング装置は、液晶装置500とプレート部材610とを位置決めして接着する装置である。
本実施形態に係る電気光学装置600の製造装置であるプレートケーシング装置300の概略構成図を図4に示す。図4は、プレートケーシング装置300を上方から見た場合(以下、平面視と称する。)における概略構成を示している。プレートケーシング装置300には、インデックステーブル301が配設されている。インデックステーブル301は、平面視略円形の回動可能な水平面を有し、この水平面はインデックス機構により中心軸を回動軸として水平面上において等間隔に間歇回動する。本実施形態においては、インデックステーブル301は45度ずつ、テーブル上方から見て反時計方向に回動する。インデックステーブル301の水平面上には、回動軸から等しい距離においてプレート部材610を支持するためのワーク保持部材301aが配設されている。図4において、間歇回動するインデックステーブル301上のワーク保持部材301aが停止する箇所である8箇所を、aからhの8つのアルファベットで示す。インデックステーブル301の周りには、ワーク保持部材301aが停止する図4に示した停止位置aからhの各箇所に対応して、プレート部材610に対して後述する各処理を行うための工程処理領域が配設されている。より詳しくは、該工程処理領域である、プレート給材工程処理領域310、シリコン接着剤塗布工程処理領域320、液晶装置搭載工程処理領域330、紫外線硬化型接着剤塗布工程処理領域340、検査工程処理領域350、紫外線照射工程処理領域360及び除材工程処理領域370が、インデックステーブル301の周囲に配設されている。インデックステーブル301の停止に対応して、各工程処理工程処理領域が処理を実施することにより、プレート部材610に液晶装置500が位置決めされて接着される。
プレート給材工程処理領域310には、プレート部材供給トレイ311と、図示しない移載装置とが設けられている。プレート部材供給トレイ311は、プレート部材供給トレイ311上に複数個のプレート部材610がマトリクス状に載置された状態において、プレート給材工程処理領域310内に供給され、図示しないトレイ保持部によって保持されるものである。また、プレート給材工程処理領域310の移載装置は、プレート部材供給トレイ311上に載置されたプレート部材610をピックアップする保持機構と、ピックアップしたプレート部材610を後述するシリコン接着剤塗布工程処理領域320及び、インデックステーブル301の停止位置aにおけるワーク保持部材301a上に供給する搬送機構とを有する。プレート給材工程処理領域310の移載装置は、例えばスカラ型又は直動型のロボットである搬送機構に、真空吸着又はメカニカルチャックからなる保持機構を備えることにより構成される。
シリコン接着剤塗布工程処理領域320には、ステージ321と、図示しないシリコン接着剤塗布装置が設けられている。シリコン接着剤塗布装置は、ステージ321上に載置されたプレート部材610の辺縁部615aに、シリコン接着剤を塗布する機構を有する。シリコン接着剤塗布工程処理領域320には、ステージ321と、シリコン接着剤塗布装置が、それぞれ2つずつ配設されている。
液晶装置搭載工程処理領域330には、液晶装置供給トレイ331と、プリアライメント装置800と、認識カメラ332と、図示しない移載装置とが設けられている。液晶装置供給トレイ331は、液晶装置供給トレイ331上に複数個の液晶装置500がマトリクス状に載置された状態において、液晶装置搭載工程処理領域330内に供給され、図示しないトレイ保持部によって保持されるものである。また、液晶装置搭載工程処理領域330の移載装置は、液晶装置供給トレイ331上に載置された液晶装置500をピックアップする保持機構と、ピックアップした液晶装置500をプリアライメント装置800上、及びインデックステーブル301の停止位置bにおけるワーク保持部材301a上に支持されたプレート部材610上に載置する搬送機構とを有する。液晶装置搭載工程処理領域330の移載装置は、例えばスカラ型又は直動型のロボットである搬送機構に、真空吸着からなる保持機構を備えることにより構成される。また、詳細は後述するが、プリアライメント装置800は、液晶装置供給トレイ331上から移載された液晶装置500について、機械的な位置決めを施す機械的アライメント機構を有する。機械的アライメントとは、例えば、水平面上に載置された液晶装置500の側面に対して、位置規定部材を当接させることにより、水平面上における液晶装置500の姿勢と位置を規定する機構である。また、詳細は後述するが、認識カメラ332は、液晶装置搭載工程処理領域330の移載装置の保持機構に保持された液晶装置500の画像を取得する撮像装置である。本実施形態においては認識カメラ332は上方を向いており、認識カメラ332の上方において保持機構に保持されている液晶装置500の底面を撮像する。また、図示しないが、液晶装置搭載工程処理領域330は、認識カメラ332により得られた液晶装置500の底面の画像に対して画像処理を施す画像処理装置を有している。
紫外線硬化型接着剤塗布工程処理領域340には、図示しない紫外線硬化型接着剤塗布装置が設けられている。紫外線硬化型接着剤塗布装置は、インデックステーブル301の停止位置c及びdの上方に配設されており、インデックステーブル301のワーク保持部材301a上に支持されたプレート部材610上に紫外線硬化型接着剤を塗布する機構を有する。
検査工程処理領域350は、図示しない撮像装置と画像処理装置が設けられている。撮像装置はインデックステーブル301の停止位置eの上方に配設されており、インデックステーブル301のワーク保持部材301a上に支持されたプレート部材610及び液晶装置500を撮像する。
紫外線照射工程処理領域360には、図示しない紫外線照射装置が設けられている。紫外線照射装置は、インデックステーブル301の停止位置f及びgの上方に配設されており、インデックステーブル301のワーク保持部材301a上に支持されたプレート部材610上に紫外線を照射する機構を有する。
除材工程処理領域370には、OK品ストッカ371とNG品ストッカ372と、図示しない移載機構が設けられている。OK品ストッカ371及びNG品ストッカ372は、その上面に液晶装置500が搭載された状態のプレート部材610が整列されて載置される構造を有する。また、除材工程処理領域370の移載装置は、インデックステーブル301の停止位置hにおけるワーク保持部材301a上に支持されたプレート部材610をピックアップする保持機構と、ピックアップした液晶装置500が搭載された状態のプレート部材610を、OK品ストッカ371もしくはNG品ストッカ372上に供給する搬送機構とを有する。除材工程処理領域370の移載装置は、例えばスカラ型又は直動型のロボットである搬送機構に、真空吸着又はメカニカルチャックからなる保持機構を備えることにより構成される。
以上に説明した構成を有する、本実施形態に係る電気光学装置600の製造装置であるプレートケーシング装置300における、液晶装置500とプレート部材610とを位置決めして接着する工程について図3、図4及び図5を参照して以下に説明する。図5は、プレートケーシング装置300において実施される、液晶装置500とプレート部材610との接着工程のフローチャートである。
まず、インデックステーブル300の停止位置aにおいて、プレート給材工程処理領域310により、プレート部材610がワーク保持部材301a上に載置される。このとき、プレート部材610は、シリコン接着剤塗布工程処理領域320によって辺縁部615a上にシリコン接着剤が塗布された状態となっている。より詳しくは、プレート部材供給トレイ311により、プレートケーシング装置300内に供給されたプレート部材610が、プレート給材工程処理領域310の移載装置によって、シリコン接着剤塗布工程処理領域320のステージ321上に載置される。ステージ321上において、プレート部材610の辺縁部615a上にシリコン接着剤が塗布される(ステップS1)。シリコン接着剤が塗布された状態のプレート部材610は、プレート給材工程処理領域310の移載装置によって、インデックステーブル301の停止位置aにおけるワーク保持部材301a上に載置される(ステップS2)。
次に、インデックステーブル301が、45度回動することにより、シリコン接着剤が塗布された状態のプレート部材610が、インデックステーブル301の停止位置bに位置する。インデックステーブル301の停止位置bにおいて、液晶装置搭載工程処理領域330により、プレート部材610上に、液晶装置500が位置決めされて搭載される(ステップS3)。このとき、液晶装置500の画像表示領域10aと、プレート部材610の開口部615との中心と角度が平面視において一致するように、プレート部材610上に液晶装置500が搭載される。より詳しくは、液晶装置供給トレイ331により、プレートケーシング装置300内に供給された液晶装置500が、液晶装置搭載工程処理領域330の移載装置によって、プリアライメント装置800上に載置される。プリアライメント装置800上において、機械的アライメント機構により、移載装置によるピックアップ位置に対する液晶装置500の姿勢と位置が、液晶装置500の外周形状を基準として規定される。液晶装置供給トレイ331上においては、液晶装置500は、例えば液晶装置500の外周形状に対してある程度のクリアランスを有する凹部内に載置されている。このため、移載装置により液晶装置供給トレイ331上から液晶装置500をピックアップした場合、保持機構による液晶装置500の保持姿勢にバラツキが生じる。プリアライメント装置800は、後述する認識カメラ332による液晶装置500の保持姿勢の画像認識に先立ち、あらかじめ認識カメラ332の画角内に液晶装置500の認識対象が収まるように、保持機構による液晶装置500の保持姿勢を規定するためのものである。プリアライメント装置800により位置決めされた液晶装置500は、移載装置により認識カメラ332上に移動される。認識カメラ332により撮像された液晶装置500の画像に対して画像処理を施すことにより、画像表示領域10aを基準とした液晶装置500の位置が算出される。画像表示領域10aを基準とした液晶装置500の位置に基づいて、移載装置によって、液晶装置500の画像表示領域10aと、プレート部材610の開口部615との中心と角度が一致するように、液晶装置500がプレート部材610上に搭載される。
次に、インデックステーブル301が、45度回動することにより、液晶装置500が搭載された状態のプレート部材610が、インデックステーブル301の停止位置cに位置する。インデックステーブル301の停止位置cにおいて、紫外線硬化型接着剤塗布工程処理領域340により、プレート部材610上に搭載された液晶装置500の隅に、紫外線硬化型接着剤が塗布される。紫外線硬化型接着剤が塗布される範囲は、図3において網状のハッチングで示した塗布領域616上である。図3においては、折り曲げ部613の陰となるため、塗布領域616は2箇所しか示されていないが、実際には開口部615を挟んだ反対側に塗布領域616があと2ヶ所存在する。紫外線硬化型接着剤は、プレート部材610上の4箇所の塗布領域616に塗布されるものである。紫外線硬化型接着剤の塗布工程は、他の工程に対して時間を必要とするため、2箇所の塗布領域616上に紫外線硬化型接着剤を塗布する工程を2回行うことにより、他の工程との処理時間のバランスをとっている。すなわち、インデックステーブル301の停止位置cにおいて、紫外線硬化型接着剤塗布工程処理領域340により、プレート部材610の2箇所の塗布領域616上に紫外線硬化型接着剤が塗布される。さらにインデックステーブル301が45度回動することにより、インデックステーブル301の停止位置dにおいて、紫外線硬化型接着剤塗布工程処理領域340により、プレート部材610の残り2箇所の塗布領域616上に紫外線硬化型接着剤が塗布される(ステップS4)。なお、紫外線硬化型接着剤の塗布は、シリコン接着剤が硬化するまでにある程度の時間を要するため、シリコン接着剤が硬化するまでの間、プレート部材610と液晶装置500との間に位置ずれが起きないようにプレート部材610と液晶装置500とを仮接着することを目的とする。
次に、インデックステーブル301が45度回動することにより、インデックステーブル301の停止位置eにおいて、検査工程処理領域350により、プレート部材610上への液晶装置500の搭載精度の良否が判定される(ステップS5)。検査工程処理領域350は、液晶装置500が搭載された状態のプレート部材610を撮像装置により撮像し、得られた画像に対して画像処理を行うことによって、液晶装置500の画像表示領域10aと、プレート部材610の開口部615との平面視における中心と角度のずれ量を測定する。液晶装置500の画像表示領域10aと、プレート部材610の開口部615との中心と角度のずれ量が所定の値を超えている場合は、不良と判定し、その情報を後の工程に受け渡す。不良と判定された液晶装置500及びプレート部材610は、リペアするために後述する工程において選別される。
次に、インデックステーブル301が45度回動することにより、インデックステーブル301の停止位置fにおいて、紫外線照射工程処理領域360によりプレート部材610上に紫外線が照射される。紫外線が照射されることにより、プレート部材610の塗布領域616上に塗布された紫外線硬化型接着剤が硬化する。紫外線硬化型接着剤の硬化は、他の工程に対して時間を必要とするため、さらにインデックステーブル301が45度回動し、インデックステーブル301の停止位置gにおいても同様に、紫外線照射工程処理領域360によりプレート部材610上に紫外線が照射される(ステップS6)。ここで、搭載精度の検査工程(ステップS5)において、不良と判断されたプレート部材610に対しては、紫外線の照射を行わない。これは、後のリペアを容易にするためのものである。良品については、紫外線硬化型接着剤が硬化することにより、液晶装置500とプレート部材610との仮接着が完了する。
次に、インデックステーブル301が45度回動することにより、インデックステーブル301の停止位置hにおいて、液晶装置500が搭載された状態のプレート部材610が、除材工程処理領域370によりワーク保持部材301a上から除材される(ステップS7)。除材される液晶装置500が搭載された状態のプレート部材610は、搭載精度の検査工程(ステップS5)における良否判定結果に基づき選別され、良品はOK品ストッカ371上に、不良品はNG品ストッカ372上にそれぞれ載置される。
以上により、本実施形態に係る電気光学装置600の製造装置であるプレートケーシング装置300における、液晶装置500とプレート部材610とを位置決めして接着する工程が完了する。
以上に説明した本実施形態に係るプレートケーシング装置300における、液晶装置搭載工程処理領域330のプリアライメント装置800について、以下により詳細に図4、図6及び図8を参照して説明する。
図6は、プリアライメント装置800による、液晶装置500の位置決め動作について説明する説明図である。図6の(a)は、プリアライメント装置800の位置決め動作前であり、ステージ801上に液晶装置500が載置されている状態を示している。図6の(b)は、プリアライメント装置800による、液晶装置500の位置決め動作時の状態を示している。プリアライメント装置800は、基板支持部材であるステージ801と、位置規定部材である第1及び第2の2つのプッシュロッド802及び803とを具備して構成されている。ステージ801は、平面視において矩形状であり、上面に液晶装置500を略水平に支持する構成を有する。また、プッシュロッド802及び803は、直線的に移動可能な進退機構により2点間において進退移動する構成を有する。プッシュロッド802及び803の進出方向の端部には、進出方向に直交する平面で構成される当接面802a及び803aがそれぞれ形成されている。当接面802a及び803aは、ステージ801の支持部上に載置された液晶装置500の、対向基板20の側面20aに当接する形状を有する。第1のプッシュロッド802は、その進出方向を、図6の紙面に向かって見た時の右方向として配設されており、進出時において当接面802aがステージ801の上方に達するように配設されている。また、第2のプッシュロッド803は、その進出方向を、図6の紙面に向かって見た時の下方向として配設されており、進出時において当接面803aがステージ801の上方に達するように配設されている。すなわち、プッシュロッド802及びプッシュロッド803が進出することにより、ステージ801上において、当接面802aと当接面803aとにより略直交する規定面が形成される。
図6の(a)に示すように、位置決め動作前において、プリアライメント装置800のプッシュロッド802及び803は、後退端に移動している。この状態において、ステージ801上に液晶装置500が載置される。液晶装置500が載置される位置は、プリアライメント装置800により液晶装置500を位置決めする位置よりも、図6の紙面に向かって見た時に左上に載置される。
その後、図6の(b)に示すように、プリアライメント装置800のプッシュロッド802及び803が、それぞれ進出端まで移動する。このとき、プッシュロッド802及び803は、液晶装置500の対向基板20の図6の紙面に向かって見た時に左及び上となる側面20aに、それぞれ当接面802a及び803aを当接させながら移動する。これにより、ステージ801上における液晶装置500の位置と角度が対向基板20の側面20aを基準として規定される。
なお、本実施形態においては、対向基板20の側面20aを基準として液晶装置500の位置と角度を規定しているが、TFTアレイ基板10の側面を基準として液晶装置500の位置と角度を規定してもよい。この場合、図7に示すように、プッシュロッド902及び903は、進出時においてTFTアレイ基板10の側面10bに当接する。
さらに、本発明に係る基板支持部材であるステージ801について、以下に図8及び図9を参照して詳細に説明する。図8は、ステージ801を上面から見た平面図である。図9は、図6(b)におけるA−A断面図である。
図8及び図9に示すように、ステージ801は、上下面を略水平とした平面視略矩形の平板により構成されており、その上面において、液晶装置500を支持する部材である。平面視において、ステージ801の上面の略中央の矩形領域823に、複数のV字状の谷部と突出部である複数の逆V字状の山部からなる波型部821が形成されている。波型部821が形成される矩形領域823は、図8に示すように、液晶装置500が載置された場合、平面視において液晶装置500の表示領域10aを含む。波型部821は、逆V字状の山部の頂部821aが、ステージ801の上面部と同一平面上となり、突出部の上端部である逆V字状の山部の稜線が、平面視において矩形領域823の一辺と平行となるように形成されている。
すなわちステージ801上に液晶装置500が載置された場合、ステージ801の上面の略中央の矩形領域823の周辺領域が、画像表示領域10aの連続する2辺の周辺領域の下面を支持する。また、ステージ801上に液晶装置500が載置された場合、ステージ801の上面の略中央の矩形領域823に形成された波型部821の逆V字状の山部の稜線が、画像表示領域10aの下面を支持する。
また、ステージ801の上面の略中央の矩形領域823の周辺領域であり、かつ液晶装置500の下面が面接触する範囲内に、複数の吸引口811が形成されている。図9に示すように、吸引口811は、ステージ801の下面に形成された空気排出口813に連通して形成されている。空気排出口813は、本実施形態のプレートケーシング装置300内部もしくは外部に配設される図示しない負圧発生器や真空ポンプ等の空気吸引装置600と接続されており、空気吸引装置600により空気を吸引口811から吸引することにより、液晶装置500がステージ上に吸引される。
上記の構成を有する、本実施形態に係る基板支持部材であるステージ801によれば、基板である液晶装置500は、平面視において画像表示領域10aの周辺領域の下面に面接触する周辺支持部であるステージ801の上面と、画像表示領域10aの下面に線接触する波型部821の逆V字状の山部の稜線とによって支持される。この液晶装置500の支持構成によれば、例えば石英やガラス片等の異物が液晶装置500の下面もしくはステージ801上に付着していた場合においても、画像表示領域10aの下面は線接触により支持されているため、画像表示領域10aとステージ801との間に異物が挟まれることはない。また、例え異物が画像表示領域10aとステージ801との間に挟まれた場合においても、位置決めのために液晶装置500をステージ上で移動させることによって、即時に異物はステージ801の波型部821のV字形状の谷部に脱落する。したがって、本実施形態に係る基板支持部材であるステージ801によれば、基板である液晶装置500の画像表示領域10aの下面に傷をつけることなく、液晶装置500を支持することが可能となる。
また、液晶装置500は、ステージ801の上面に形成された吸引口811を介して、ステージ801の上面に真空吸着される。このため、ステージ801は、液晶装置500を姿勢を安定させながら支持することが可能となる。なお、真空吸着をしなくともステージ801上において液晶装置500を安定して支持することが可能な場合は、吸引口811は設けなくともよい。また、液晶装置500を真空吸着する必要がない場合においては、画像表示領域10aの周辺領域の下面を支持する方法は、線接触による支持を用いてもよい。すなわち、ステージ801の周辺支持部は、上端部が逆V字形状の山部の稜線によって構成されてもよい。
また、基板支持部材であるステージ801は、L字形状に互いに直交する2方向に延在するステージ801の上面である周辺支持部と、そのL字形状に直交する周辺支持部の内角側の領域に配設された波型部821である突出部とによって、液晶装置500を支持する構成を有する。この構成によれば、例えば図8に示した液晶装置500とは異なる外形寸法を有する液晶装置がステージ801上に載置された場合においても、周辺支持部に形成された吸引口811は、その画像表示領域の周辺領域の下面に位置するため、液晶装置下面を吸着することが可能となる。液晶装置500と異なる外形寸法を有する液晶装置がステージ801上に載置された場合においても、L字形状に直交する周辺支持部の内角側の領域に配設された波型部821により画像表示領域の下面を支持するため、画像表示領域の下面に傷をつけることなく支持することが可能となる。すなわち、本実施形態に係る基板支持部材であるステージ801によれば、同一のステージ801上において、異なる外形寸法を有する液晶装置500について、画像表示領域10aの下面に傷をつけることなく安定して支持することが可能となる。
なお、図10に示すように、ステージ801aの上面の略中央の矩形領域823に形成される波型部831は、断面が逆U字状の山部によって形成されてもよい。波型部831の突出部の上端部が逆U字状であっても、液晶装置500の画像表示領域10aの下面は線接触により支持されるため、本実施形態と同様の効果を有することは言うまでもない。
また、本実施形態においては、波型部821の山部の稜線が平面視において矩形領域823の一辺と平行となるように形成されているが、図11に示すように、波型部の山部の稜線821aが、ステージ801bの矩形領域823bの一辺と所定の角度を有して交差するように形成されてもよい。例えば図11においては、波型部の山部の稜線821aが、矩形領域823bの対角を結ぶように形成されている。さらに、波型部の山部の稜線は、上端部において液晶装置500の下面に線接触する形状であれば、例えば平面視において曲線を描く形状であってもよい。また、ステージ801bの矩形領域823bの形状は、平面視においてL字形状に直交する周辺支持部の内角側の領域において特に制限は無く、平面視において支持すべき液晶装置500の画像表示領域10aの外周形状を囲む領域において形成されていればよく、ステージ801bの端部にまで形成されてもよい。
また、図12に示すように、ステージ801cの液晶装置500の画像表示領域10aの下面を支持する突出部832は、画像表示領域10aの下面に点接触する形状であってもよい。すなわち、ステージ801cの一つまたは複数の突出部832は、矩形領域823内において上端部が逆V字状もしくは逆U字状の断面形状を有する突起によって構成されてもよい。
なお、電気光学装置は、TFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置500以外に、パッシブマトリックス型の液晶装置、TFD(薄型ダイオード)をスイッチング素子として備えた液晶装置であっても良く、更に、液晶装置に限らず、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置(Field Emission Display、及びSurface-Conduction Electron-Emitter Display)等の各種の電気光学装置であっても良い。
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
TFTアレイ基板を、その上に構成された各構成要素と共に対向基板の側から見た液晶装置の平面図である。 図1のH−H’断面図である。 電気光学装置の分解斜視図である。 プレートケーシング装置の概略構成図である。 プレートケーシング装置において実施される、液晶装置とプレート部材との接着工程のフローチャートである。 プリアライメント装置による、液晶装置の位置決め動作について説明する説明図である。 プリアライメント装置の変形例を示す平面図である。 ステージを上面から見た平面図である。 図6(b)のA−A断面図である。 突出部である波型部の変形例を示す断面図である。 突出部である波型部の変形例を示す平面図である。 突出部の変形例を示す平面図である。
符号の説明
10a 画像表示領域、 500 液晶装置、 801 ステージ、 811 吸引口、 821 波型部、 821a 頂部、 823 矩形領域

Claims (15)

  1. 電気光学装置用の基板の下面に接して前記基板を支持する基板支持部材と、
    該基板支持部材上において前記基板の側面と当接するように動かされる前記基板を位置決めする位置規定部材とを具備し、
    前記基板支持部材は、
    上面が前記基板の前記下面に面接触し、その面接触する前記上面の形状がL字形状である周辺支持部と、
    該周辺支持部の前記上面を延長した平面内であり、かつ前記L字形状の内角側の領域において、前記基板の前記下面に点接触又は線接触する1つ又は複数の突出部とを具備したことを特徴とする電気光学装置の製造装置。
  2. 前記周辺支持部の前記上面に、一つ又は複数の吸引口が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造装置。
  3. 前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と線接触し、
    前記突出部の接触線の接線と直交し、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆V字形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造装置。
  4. 前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と線接触し、
    前記突出部の接触線の接線と直交し、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆U字形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造装置。
  5. 前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と点接触し、
    前記突出部の接触点を含み、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆V字形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造装置。
  6. 前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と点接触し、
    前記突出部の接触点を含み、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆U字形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造装置。
  7. 前記基板を、前記電気光学装置を構成する部材上に搭載する移載装置を有することを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
  8. 電気光学装置用の基板を、前記電気光学装置を構成する部材上に位置決めして搭載する電気光学装置の製造方法であって、
    上面が前記基板の下面に面接触し、その面接触する前記上面の形状がL字形状である周辺支持部と、該周辺支持部の前記上面を延長した平面内であり、かつ前記L字形状の内角側の領域において前記基板の前記下面に点接触又は線接触する1つ又は複数の突出部とを有する基板支持部材上に前記基板を載置する工程と、
    前記基板支持部材上に載置された前記基板の側面に、位置規定部材を当接させることにより位置決めを行う工程とを含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
  9. 前記周辺支持部に形成された吸引口から空気を吸引することにより、前記基板支持部材上に載置された前記基板を吸引する工程を含むことを特徴とする請求項8に記載の電気光学装置の製造方法。
  10. 基板の下面に接して前記基板を支持する基板支持部材であって、
    上面が前記基板の前記下面に面接触し、その面接触する前記上面の形状がL字形状である周辺支持部と、
    該周辺支持部の前記上面を延長した平面内であり、かつ前記L字形状の内角側の領域において、前記基板の前記下面に点接触又は線接触する1つ又は複数の突出部とを具備したことを特徴とする基板支持部材。
  11. 前記周辺支持部の前記上面に、一つ又は複数の吸引口が形成されていることを特徴とする請求項10に記載の基板支持部材。
  12. 前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と線接触し、
    前記突出部の接触線の接線と直交し、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆V字形状であることを特徴とする請求項10又は11に記載の基板支持部材。
  13. 前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と線接触し、
    前記突出部の接触線の接線と直交し、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆U字形状であることを特徴とする請求項10又は11に記載の基板支持部材。
  14. 前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と点接触し、
    前記突出部の接触点を含み、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆V字形状であることを特徴とする請求項10又は11に記載の基板支持部材。
  15. 前記突出部の上端部は、前記基板の前記下面と点接触し、
    前記突出部の接触点を含み、かつ前記周辺支持部の前記上面を延長した平面に直交する断面における前記突出部の前記上端部の断面形状は、逆U字形状であることを特徴とする請求項10又は11に記載の基板支持部材。
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