JP2007066975A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 面方位が(111)面、および(111)面からのずれが±2度以下の面のいずれかの面を主方位面とするニッケル単結晶基板5上に、p型単結晶六方晶窒化ホウ素層6、n型単結晶六方晶窒化ホウ素層8、ニッケル薄膜9の順に形成された構造を有することを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
2 ニッケル基板最表面から1原子層下の面のニッケル原子
3 表面原子層の六方晶BNの窒素原子
4 表面原子層の六方晶BNのホウ素原子
5 ニッケル(111)単結晶基板
6 BeまたはMgをドーピングしたp型単結晶六方晶BN層
7 pn接合
8 Siをドーピングしたn型単結晶六方晶BN層
9 ニッケル薄膜
Claims (5)
- 面方位が(111)面、および(111)面からのずれが±2度以下の面の内のいずれかの面を主方位面とするニッケル単結晶基板上に、p型単結晶六方晶窒化ホウ素層、n型単結晶六方晶窒化ホウ素層、ニッケル薄膜の順に形成された構造を有することを特徴とする半導体発光素子。
- 請求項1に記載の半導体発光素子であって、前記ニッケル単結晶基板の厚みが、500μm以上であることを特徴とする半導体発光素子。
- 請求項1または2に記載の半導体発光素子であって、前記p型単結晶六方晶窒化ホウ素層のp型ドーパント原料が、シクロペンタジエニルマグネシウムであり、n型単結晶六方晶BN層のn型ドーパント原料が、シランであることを特徴とする半導体発光素子。
- 請求項1乃至3に記載の半導体発光素子であって、前記p型単結晶六方晶窒化ホウ素単結晶層および前記n型単結晶六方晶窒化ホウ素層の面方位が各々(0001)面であり、かつ前記p型単結晶六方晶窒化ホウ素単結晶層および前記n型単結晶六方晶窒化ホウ素層の厚さが各々0.5μm以上であることを特徴とする半導体発光素子。
- 請求項1乃至4に記載の半導体発光素子であって、前記半導体発光素子が、発光ダイオードであることを特徴とする半導体発光素子。
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JP2005247751A JP2007066975A (ja) | 2005-08-29 | 2005-08-29 | 半導体発光素子 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014075527A (ja) * | 2012-10-05 | 2014-04-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体素子構造およびその作製法 |
JP2017210391A (ja) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | 国立大学法人東北大学 | 窒化物半導体自立基板作製方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08217595A (ja) * | 1995-02-13 | 1996-08-27 | Toshiba Corp | 薄膜形成方法 |
-
2005
- 2005-08-29 JP JP2005247751A patent/JP2007066975A/ja active Pending
Patent Citations (1)
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