JP2007051057A - 酸化セリウム粉末および酸化セリウム分散液 - Google Patents

酸化セリウム粉末および酸化セリウム分散液 Download PDF

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Abstract

【課題】酸化セリウムの粉末、該粉末の製造方法および該粉末を含有する分散液を提供する。
【解決手段】
− 酸化セリウム粉末は25〜150m2/gのBET表面積を有し、
− 一次粒子は5〜50nmの平均直径を有し、
− 一次粒子の表面付近の層は約5nmの深さを有し、
− 表面付近の層中でカーボネート濃度は表面から内部へ向かって低下し、
− カーボネート基に由来する炭素含有率は表面上では5〜50面積パーセントであり、かつ表面付近の層中では約5nmの深さで0〜30面積パーセントであり、
− 酸化セリウムの含有率は粉末に対して少なくとも99.5質量%であり、かつ
− 炭素の含有率は粉末に対して0.01〜0.3質量%である。
【効果】分散液は付加的な添加剤がなくても十分に安定しており、中性ないし弱アルカリ性の範囲で化学的機械研磨のために使用することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は酸化セリウムをベースとする粉末、該粉末の製造および使用に関する。本発明はさらに、該粉末を含有する分散液に関する。
酸化セリウムは触媒の実質的な成分である。さらに酸化セリウムはガラスおよび電子部品を研磨するために重要な材料である。特に化学的機械研磨の分野では、酸化セリウム粉末ならびに酸化セリウムの分散液の特性を改善する多数の論文が定期刊行物および特許文献中に存在する。
通常、酸化セリウムは水酸化セリウムまたは炭酸セリウムをか焼することによって製造される。か焼された酸化物は次いで粉砕され、分級される。
さらに、湿式化学的なルートおよび気相法が公知である。酸化セリウムは、たとえばUS5389352に記載されているような熱水合成法により製造することができる。その際、セリウム(III)塩を温度および圧力の影響下で酸化することによって、微細な粒子の形で晶出する酸化セリウムとする。
特に興味深いのは、噴霧熱分解法のような気相法であり、この場合、通常はエーロゾルの形の酸化セリウム前駆物質を火炎中で酸化する。このような方法はEP−A1142830に記載されている。
Pratsinis等は、J.Mater.Res.、第17巻、第1356〜1362頁(2002)に、酢酸、イソ−オクタンおよび2−ブタノールからなる溶剤混合物中の酢酸セリウム溶液を、酸素/メタンの火炎中で酸素により酸化することにより、火炎噴霧熱分解によって高い結晶度の酸化セリウム粉末を製造することを記載している。比較的粗大な粒子を有していない酸化セリウム粉末を製造するために、溶剤混合物は必須である。
WO2004/005184A1では、溶液から液滴を発生させ、該液滴を火炎中で酸化する、金属酸化物の製造方法が請求されている。該溶液は少なくとも1の原料および、全溶液に対して、少なくとも60%のカルボン酸を溶剤として含有している。
WO01/36332A1からは、粗粒状および微粒子状の割合からなる酸化セリウムの製造方法が公知である。この方法は酸化セリウム前駆物質のエーロゾルを700〜1100Kの高温帯域中で燃焼させることを開示している。
DE−A−10251029には、平均直径30〜200nmを有する結晶性の、凝集していない粒子からなる粗大な割合と、平均アグリゲート直径5〜50nmおよびBET表面積15〜200m2/gを有する微結晶性の、成長した一次粒子からなるアグリゲートの形の微細な割合とを有する、熱分解法により製造された酸化セリウム粉末が開示されている。
EP−A−1506940には、70〜150m2/gの比表面積、5〜20nmの平均一次粒子直径および20〜100nmの投影された平均アグリゲート直径を有する一次粒子のアグリゲートの形の多結晶性酸化セリウム粉末および該酸化セリウム粉末を含有する分散液が開示されている。
さらに、化学的機械研磨のための、酸化セリウムを含有する多数の分散液が記載されている。
EP−A−1203801には、熱分解法により製造され、酸化セリウムがドープされた二酸化ケイ素を含有する水性分散液が開示されており、その際、酸化セリウムはセリウム塩溶液またはセリウム塩懸濁液からなるエーロゾルにより導入され、かつ該分散液の平均粒径は100nmよりも小さい。
EP−A−133080には、粒子が、熱分解法により製造され、ドープされた低次構造化 (low-structured)二酸化ケイ素からなるコアと、酸化セリウムのシェルとを有し、かつ平均二次粒子径が0.2μmを超えない粒子を含有する、水性分散液が開示されている。
DE−B−10342826には、1μmより大きな粒子を有していない、熱分解法により製造された酸化セリウムの分散液が開示されている。
US6827752では、ポリアクリレートにより安定化されている酸化セリウム分散液が請求されている。
US6443811では、カチオン性表面活性剤を含有する、中性ないし弱塩基性の環境中の酸化セリウム分散液が請求されている。
US6420269では、8〜12の範囲のpH値を有する酸化セリウム分散液が請求されており、これは分散剤、有利には水溶性の有機ポリマー、水溶性のアニオン性もしくは非イオン性の表面活性剤または水溶性のアミンを含有する。
従来技術による酸化セリウム分散液の場合の欠点は、中性ないし弱アルカリ性の範囲での十分な安定性は、添加剤の存在下で達成することができるにすぎないことである。
US5389352 EP−A1142830 WO2004/005184A1 WO01/36332A1 DE−A−10251029 EP−A−1506940 EP−A−1203801 EP−A−133080 DE−B−10342826 US6827752 US6443811 US6420269 Pratsinis等、J.Mater.Res.、第17巻、第1356〜1362頁(2002)
従って本発明の課題は、付加的な添加剤がなくても十分に安定しており、中性ないし弱アルカリ性の範囲で化学的機械研磨のために使用することができる、酸化セリウムベースの分散液を提供することであった。
本発明のもう1つの課題は、分散液のための基礎としての酸化セリウムベースの粉末を提供することであった。もう1つの課題は、該粉末を製造する方法を提供することであった。
上記課題は本発明により、酸化セリウムおよび該酸化セリウムの表面上および表面付近の層中にカーボネート基を有する結晶性一次粒子からなる、カーボネート基を有する酸化セリウム粉末であって、
− 該粉末は25〜150m2/gのBET表面積を有し、
− 一次粒子は5〜50nmの平均直径を有し、
− 一次粒子の表面付近の層は約5nmの深さを有し、
− 表面付近の層中でカーボネート濃度は、カーボネート濃度が最も高い表面から始まって内部へ向かって低下し、
− カーボネート基に由来する炭素含有率は表面上では5〜50面積パーセントであり、かつ表面付近の層中では約5nmの深さで0〜30面積パーセントであり、
− 酸化セリウムの含有率は、CeO2として計算し、かつ粉末に対して、少なくとも99.5質量%であり、かつ
− 炭素の含有率は、有機および無機の炭素を含めて、粉末に対して、0.01〜0.3質量%である
カーボネート基を有する酸化セリウム粉末により解決される。
本発明による粉末中のカーボネート基は、表面においても約5nmの深さにおいても検出することができる。この場合、カーボネート基は化学的に結合しており、かつたとえば構造a〜cにおけるように配置されていてよい。
Figure 2007051057
カーボネート基はたとえばXPS/ESCA分析により検出することができる。表面付近の層中のカーボネート基を検出するために、表面の一部をアルゴンイオン衝撃により除去し、生じる新たな表面を同様にXPS/ESCA(XPS=X線光電子分光法;ESCA=化学分析のための電子分光法)により分析することができる。
本発明による粉末では一次粒子が相互に分離して存在していてもよいし、あるいはまた程度の差はあるものの、強く凝集して存在していてもよい。有利には一次粒子はほぼ凝集して存在している。
本発明による粉末は有利には<5ppmのナトリウムおよび<20ppmの塩素の割合を有していてよい。前記の元素は通常、化学的機械研磨の際に僅少量でのみ許容可能である。
さらに研磨の適用のためには30〜100m2/gの本発明による粉末のBET表面積は有利であり、かつ40〜80m2/gは特に有利であり得る。
本発明のもう一つの対象は、カーボネート基を有する酸化セリウム粉末の製造方法であり、この方法では、
− エーロゾルを反応室中、600℃〜1500℃、有利には900℃〜1200℃の反応温度で、酸素を含有するガスと反応させ、該反応混合物を冷却し、かつ引き続き粉末をフィルターにより気体状物質から分離し、その際、
− 有機溶剤または溶剤混合物およびその中に溶解している酸化可能な有機セリウム−III−化合物を含有する少なくとも1の溶液を少なくとも1の噴霧ガスにより噴霧することによりエーロゾルが得られ、
− エーロゾルの体積基準の平均液滴直径D30が、30〜100μmであり、かつ反応室中での平均滞留時間が0.1秒〜5秒であり、
かつその際、
− 反応室を離れた後に反応混合物を水滴の噴霧導入により冷却し、
− 水滴が100μmより小さい、体積基準の平均液滴直径を有し、かつ
− 水滴を発生させるために、式I
H2O=[cpfl・(Ts−T0)+dhv+cpg・(Te−Ts)/3600・Q
(I)
(上記式中、
− Q=KWで記載される、全ての原料の全燃焼エンタルピー、
− mH20=kg/hで記載される、最終温度Teに到達するために必要な量のH2O、
− T0=水の入口温度、
− Ts=1バールでの水の沸騰温度、
− Te=最終温度、
− dhv=水の蒸発エンタルピー、
− cpf1=50℃での水の熱容量、
− cpg=150℃での水蒸気の熱容量、その際、
− T0=5〜50℃、Ts=100℃、Te=200〜400℃、dhv=2256.7kJ/kg、cpfl=4.181kJ/kg・Kおよびcpg=1.98kJ/kg・Kである)により記載される量の水を添加する。
酸素を含有する気体は通常、空気であるか、または酸素が富化された空気である。
噴霧ガスとして本発明による方法では空気、酸素が富化された空気のような反応性の気体および/または窒素のような不活性ガスを使用することができる。通常、空気を噴霧ガスとして使用する。セリウム−III−溶液/噴霧ガス量の送入量の比は有利には0.1〜25kg/Nm3、および特に有利には0.5〜5kg/Nm3であってよい。噴霧のために特に1もしくは複数の2流体ノズルまたは多流体ノズルが適切である。噴霧圧力は通常、1〜100バールである。
本発明による方法の有利な実施態様では、反応混合物にさらに燃料ガスを供給する。燃焼ガスとして特に水素、メタン、エタン、プロパン、ブタン、希ガスが適切である。供給される燃焼ガスの量は第1に、供給される、セリウム−III−化合物を含有する溶液の量、その組成および燃焼値に応じて調整する。燃焼ガス/溶液の比率は通常0.1〜2Nm3/kgである。
さらに、反応室へ二次空気を導入する場合には有利であり得る。通常、二次空気の量は、一次空気に対する二次空気の比率が0.1〜10であるように量定する。
有利には本発明による方法は、酸素を含有する気体の導入量の酸素割合が、セリウム−III−化合物および燃焼ガスの完全な反応のために必要とされるよりも高いように実施することができる。ラムダが≧1.5である場合に特に有利であり、その際、ラムダはそのつどモル/hで記載される、酸素割合(空気+場合により噴霧ガス)の合計/(セリウム−III−化合物+燃焼ガス)の合計から算出される。とりわけ有利であるのは2<ラムダ<5であり得る。
有機セリウム−III−化合物として特にセリウム−アルコラートおよび/またはセリウム−カルボキシラートを使用することができる。アルコラートとして、有利にはエチラート、n−プロピラート、イソ−プロピラート、n−ブチラートおよび/またはt−ブチラートを使用することができる。カルボキシラートとして酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ヘキサン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、オクタン酸、2−エチル−ヘキサン酸、吉草酸、カプリン酸および/またはラウリン酸をベースとする化合物を使用することができる。特に有利には2−エチルヘキサノエートおよび/またはラウレートを使用することができる。
有機溶剤として、もしくは有機溶剤混合物の成分として有利にはアルコール、たとえばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ−プロパノール、n−ブタノールまたはt−ブタノール、ジオール、たとえばエタンジオール、ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、ジアルキルエーテル、たとえばジエチルエーテル、t−ブチル−メチルエーテルまたはテトラヒドロフラン、C1〜C12−カルボン酸、たとえば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ヘキサン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、オクタン酸、2−エチル−ヘキサン酸、吉草酸、カプリン酸、ラウリン酸であってよい。さらに酢酸エチルエステル、ベンゼン、トルエン、ナフサおよび/またはベンジンを使用することができる。有利には、C2〜C12−カルボン酸、特に2−エチルヘキサン酸および/またはラウリン酸を含有する溶液を使用することができる。
本発明のもう1つの対象は、本発明による方法により得られる、カーボネート基を有する酸化セリウム粉末である。
本発明のもう1つの対象は、本発明によるカーボネート基を有する酸化セリウム粉末を含有する分散液である。
分散液の液相は水、1もしくは複数の有機溶剤または水性/有機性の組み合わせであってよく、その際、これらの相は有利には混和性である。分散液はさらにpH値調整剤、表面活性添加剤および/または保存剤を含有していてよい。しかし表面活性添加剤を含有する分散液は有利ではない。その代わりに、カーボネート基を有する酸化セリウム粉末、水および場合によりpH値調整剤のみからなる分散液が有利である。
カーボネート基を有する酸化セリウム粉末の含有率は有利には0.5〜60質量%であってよい。本発明による粉末を20〜50質量%、特に35〜45質量%含有する水性分散液は特に有利である。さらに、40質量%までの粉末の濃度および23℃の温度で、1〜1000s-1の剪断範囲において、<30mPasおよび特に有利には<20mPasの粘度を有する本発明による水性分散液が有利であり得る。
本発明による水性分散液のpH値は有利には3〜8の範囲である。分散液の貯蔵は通常、酸の添加により3〜4のpH値を調整する。このために特に適切であるのは硝酸である。分散液の安定性はこのpH範囲で特に高い。
水性分散液を研磨剤として使用する場合、たとえばアンモニアまたは苛性カリ溶液により7〜8のpH値を調整することができる。この範囲で分散液は、表面活性添加剤が存在していなくても、優れた安定性を示す。
研磨工程にとって特に、動的光散乱により測定されたその平均粒径d50が120nmより小さい、特に150nmより小さい分散液が適切である。
さらにこの目的のために、動的光散乱により測定されたその平均粒径d90が200nmより小さい、特に150nmより小さい分散液が適切である。
本発明による分散液のζ電位は特に少なくとも20mVであり、特に30mVより大であってよい。
本発明による分散液は当業者に公知の分散装置を用いて製造することができる。これはたとえば回転子−固定子−装置、粒子が相互に衝突することによって粉砕される高エネルギーミル、遊星型混練機、攪拌ボールミル、揺動装置として運転されるボールミル、揺動プレート、超音波装置または前記の装置の組み合わせであってよい。
比表面積はDIN66131により測定される。
表面特性を面積の大きい(1cm2)XPS/ESCA分析(XPS=X線光電子分光法;ESCA=化学分析のための電子分光法)により測定する。評価はDIN専門家報告書第39号、国立物理学研究所(National Physics Laboratory)のDMA(A)97、Teddington、UKによる一般的な推奨、および作業委員会の開発に伴う規格(entwicklungsbegleitenden Normung des Arbeitsausschuss)、「表面およびマイクロ領域の分析」、NMP816(DIN)に関するこれまでの知識に基づいている。さらに、技術文献からのそのつど存在する比較スペクトルが考慮される。値はそのつど記載される電子レベルの関連する感度要因を考慮して、バックグラウンド除去により算出される。記載は面積パーセントで行う。精度は見積もりに対して±5%である。
ζ電位は3〜12のpH範囲で動電学的な音波の振幅(electrokinetic sound amplitude:ESA)により測定される。このために、酸化セリウム1%を含有する懸濁液を製造する。分散は超音波バー(400W)を用いて行う。懸濁液は電磁攪拌機で攪拌し、かつチューブポンプを介してMatec社のESA−8000装置のPPL−80センサーによりポンプ輸送する。出発pH値から5mのNaOHを使用してpH12への電位差滴定を開始する。pH4への逆滴定は5mのHNO3を用いて行う。評価は装置ソフトウェア、バージョンpcava5.94により行う。
Figure 2007051057
上記式中、
ζはゼータ電位を表し、
φは体積分率を表し、
Δρは粒子と液体との間の比重の差を表し、
cは懸濁液中の音速を表し、
ηは液体の粘度を表し、
εは懸濁液の誘電率を表し、
|G(α)|は慣性の補正を表す。
分散液は超音波処理により水中で超音波フィンガー(Bandelin社、UW2200/DH13G)、段階8、100%、5分)により製造する。平均的なアグリゲートの直径はHoriba社の粒径分析装置LB−500により測定される。
例1:
エチルヘキサン酸セリウム(III)50質量%および2−エチルヘキサン酸50質量%からなる溶液(溶液の燃焼値は29KJ/kg)250kg/hおよび噴霧空気50Nm3/hから2流体ノズル(Schlick社)によりエーロゾルを発生させ、該エーロゾルを反応室中に噴霧する。ここで水素(40Nm3/h)および一次空気(1800Nm3/h)からなる爆鳴気が燃焼し、その中でエーロゾルが反応する。付加的に二次空気(3200Nm3/h)を反応室中に導入する。火炎中での滞留時間は約20msである。火炎より0.5m下方の温度は1100℃である。
引き続き、20℃の入口温度を有する水900kg/hと、噴霧空気200Nm3/hからなるエーロゾルを2流体ノズルにより反応室により噴霧導入する。固体の生成物をフィルターにより気体状の物質から分離する。反応混合物は、この時点で280℃の温度を有する。反応混合物の滞留時間は反応室で1sである。
例2〜4を例1と同様に実施し、その際、使用量およびその他の方法パラメータは第1表に記載されている。得られる粉末の分析データは第2表に記載されている。
XPS/ESCA分析の結果は、極めて純粋な表面が存在していることを示している。Ce、CおよびO以外に、他の元素は検出されない。カーボネート−Cは289eVの結合エネルギーを示す。
第2表にはさらに、例1〜4の粉末の1パーセント分散液のd50値およびd90値が記載されている。
HNO3によりpH値を3.9に調整した、例3からの粉末の水中5パーセント分散液の粒径分布は、82nmのd50値および103nmのd90値である。
本発明による分散液により、SiO2表面を研磨することができ、かつ60000N/msのpv値において、>500nm/分、有利には1200nm/分まで、特に1000nm/分の除去速度を達成することができる。
図1および図2は、KOHによりそのpH値を7.6に調整した、例3からの粉末を用いた0.5パーセント分散液の研磨結果を示している。
図1はN/msで記載される、プレス圧力と速度とからの積に依存する除去速度をnm/分で示している。
さらに、SiO2およびSi34の研磨の際に測定される運動流(Motorstrom)は、本発明による分散液を使用する場合に相互に逸脱することが確認された。これはいわゆるSTI(Shallow Trench Isolation)において有利に使用することができる。STIの目的は、できる限り選択的にSiO2を研磨し、かつ窒化物層に達したときに研磨工程を停止することである。このために、窒化物を保護することによってこの選択性を高める添加剤を分散液に添加することが公知である。意外なことにこの添加剤は本発明による分散液では不要である。
図2はsで記載されている時間に依存するSiO2およびSi34に関する運動流を示している。
Figure 2007051057
*)セリウム−III−溶液; **)火炎の500mm下方、 ***)水
Figure 2007051057
*)全ての実施例において:Na<5ppm;Cl<20ppm;**)pH=4、
***)IEP=等電点; ****)合成法/スパッタ法;スパッタリング:アルゴンイオン、5keV、約10分の衝撃により表面を除去した後。
本発明による酸化セリウム粉末を含有する0.5パーセント分散液の研磨結果を示す図。 本発明による酸化セリウム粉末を含有する0.5パーセント分散液の研磨結果を示す図。

Claims (17)

  1. 酸化セリウムおよび該酸化セリウムの表面上および表面付近の層中にカーボネート基を有する結晶性一次粒子からなる、カーボネート基を有する酸化セリウム粉末であって、
    − 該粉末は25〜150m2/gのBET表面積を有し、
    − 一次粒子は5〜50nmの平均直径を有し、
    − 一次粒子の表面付近の層は約5nmの深さを有し、
    − 表面付近の層中でカーボネート濃度は、カーボネート濃度が最も高い表面から始まって内部へ向かって低下し、
    − カーボネート基に由来する炭素含有率は表面上では5〜50面積パーセントであり、かつ表面付近の層中では約5nmの深さで0〜30面積パーセントであり、
    − 酸化セリウムの含有率は、CeO2として計算し、かつ粉末に対して、少なくとも99.5質量%であり、かつ
    − 炭素の含有率は、有機および無機炭素を含めて、粉末に対して、0.01〜0.3質量%である、
    カーボネート基を有する酸化セリウム粉末。
  2. 一次粒子が凝集していることを特徴とする、請求項1記載のカーボネート基を有する酸化セリウム粉末。
  3. ナトリウムの割合が<5ppmであり、かつ塩素の割合が<20ppmであることを特徴とする、請求項1または2記載のカーボネート基を有する酸化セリウム粉末。
  4. BET表面積が30〜100m2/gであることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載のカーボネート基を有する酸化セリウム粉末。
  5. − エーロゾルを反応室中、600℃〜1500℃、有利には900℃〜1200℃の反応温度で、酸素を含有するガスと反応させ、該反応混合物を冷却し、かつ引き続き粉末をフィルターにより気体状物質から分離し、その際、
    − 有機溶剤または溶剤混合物およびその中に溶解している酸化可能な有機セリウム−III−化合物を含有する少なくとも1の溶液を少なくとも1の噴霧ガスを用いて噴霧することによりエーロゾルが得られ、
    − エーロゾルの体積基準の平均液滴直径D30が30〜100μmであり、かつ反応室中での平均滞留時間が0.1秒〜5秒である
    カーボネート基を有する酸化セリウム粉末の製造方法において、
    − 反応室を離れた後に反応混合物を水滴の噴霧導入により冷却し、
    − 水滴が100μmより小さい、体積基準の平均液滴直径を有し、かつ
    − 水滴を発生させるために、式I
    H2O=[cpfl・(Ts−T0)+dhv+cpg・(Te−Ts)]/3600・Q
    (I)
    (上記式中、
    − Qは、KWで記載される、全ての原料の全燃焼エンタルピーであり、
    − mH20は、kg/hで記載される、最終温度Teに到達するために必要な量のH2Oであり、
    − T0は、水の入口温度であり、
    − Tsは、1バールでの水の沸騰温度であり、
    − Teは、最終温度であり、
    − dhvは、水の蒸発エンタルピーであり、
    − cpf1は、50℃での水の熱容量であり、
    − cpgは、150℃での水蒸気の熱容量であり、その際、
    − T0=5〜50℃、Ts=100℃、Te=200〜400℃、dhv=2256.7kJ/kg、cpfl=4.181kJ/kg・Kおよびcpg=1.98kJ/kg・Kである)により記載される量の水を添加することを特徴とする、カーボネート基を有する酸化セリウム粉末の製造方法。
  6. 反応混合物にさらに燃焼ガスを供給することを特徴とする、請求項5記載の方法。
  7. そのつどモル/hで記載される、酸素割合(空気+場合により噴霧ガス)の合計/(セリウム−III−化合物+燃焼ガス)の合計から算出されるラムダが≧1.5であることを特徴とする、請求項5または6記載の方法。
  8. 請求項5から7までのいずれか1項記載の方法により得られる、カーボネート基を有する酸化セリウム粉末。
  9. 請求項1から4までのいずれか1項または請求項8に記載のカーボネート基を有する酸化セリウム粉末を含有する分散液。
  10. 分散液の成分が、カーボネート基を有する酸化セリウム粉末、水および場合によりpH値調整剤であることを特徴とする、請求項9記載の分散液。
  11. 酸化セリウム粉末の含有率が0.5〜60質量%であることを特徴とする、請求項9または10記載の分散液。
  12. pH値が3〜8であることを特徴とする、請求項9から11までのいずれか1項記載の分散液。
  13. 動的光散乱により測定される平均粒径d50が120nmより小さいことを特徴とする、請求項9から12までのいずれか1項記載の分散液。
  14. 動的光散乱により測定される平均粒径d90が200nmより小さいことを特徴とする、請求項9から13までのいずれか1項記載の分散液。
  15. ζ電位が少なくとも20mVであることを特徴とする、請求項9から14までのいずれか1項記載の分散液。
  16. 化学的機械研磨のための請求項1から4までのいずれか1項または請求項8記載のカーボネート基を有する酸化セリウム粉末あるいは請求項9から15までのいずれか1項記載の分散液の使用。
  17. 触媒として、紫外線吸収剤として、トナー成分として、および燃料電池の成分としての、請求項1から4までのいずれか1項または請求項8記載のカーボネート基を有する酸化セリウム粉末の使用。
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