JP2007035937A - 半導体製造装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 本発明は、十分な照明光を得ることにより、半導体チップの形状を測定することができる新規な半導体製造装置を提供する。
【解決手段】 半導体チップ1を搭載するウェハシート2と、前記ウェハシートの半導体チップ非搭載面より吸着する吸着ノズル4と、光源を有しその光を前記ウェハシートに照射する照明装置6と、この照明装置6の透過光を撮像するために前記半導体チップの搭載側に設置された撮像装置8と、この撮像装置から取りこんだ画像を認識し前記半導体チップの位置を計測する画像処理装置とを有する半導体製造装置において、前記吸着ノズルの内部に照明導光板3を備え、前記照明装置は前記吸着ノズルの支持部材5に配置され、前記照明導光板に照射されて発光し、前記撮像装置に対して前記半導体チップを投影するように構成してあることを特徴とする半導体製造装置。
【選択図】図1

Description

本発明は半導体製造装置に関するものであり、特にダイボンド工程における半導体製造装置に関するものである。
従来、半導体チップを金属フレームに搭載するダイボンド装置において、半導体チップを透明又は半透明のウェハシート上に搭載し、ウェーハシートの反対側から半導体チップを個々に分離する分離ステージ上の半導体チップの照明を行い、半導体チップをシルエットの状態で撮像し、半導体チップの位置と形状を認識する方法が提案されている(特許文献1参照)。
しかし、この従来技術では、光源からの光は支持部材に向けて照射されるが、照射された光の一部は上方へ向かうものや、水平又は下方に向かうものがある。光源の近くでは上方へ向かう光量が比較的多いが、光源から離れるに従い光量は減少する。
このような課題を解決するために、吸着ノズルに対して側面照明装置と内部反射材を付加する方法と、吸着ノズルのウェーハ設置面に対して発光体を付加する方法を提案している(特許文献2参照)。
特開平11−345865号公報 特開2002− 76031公報
しかし、従来技術では、突き上げ針の通過クリアランスを十分な照明光を得ることができないため、半導体チップの形状を計測することができなかった。さらに、吸着ノズルが大きくなる上、大きさや形状の異なる半導体チップを同一のダイボンダ装置にて運用する場合には、それぞれの形状に適した吸着ノズルを、照明装置と一対で用意しなければならなかった。また、従来の半導体製造装置において画像処理すると、図3に示すように、例えば半田面のような凹凸がマーキングのように黒くなるため、マーキングが誤検出される問題があった。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、十分な照明光を得ることにより、半導体チップの形状を測定することができる新規な半導体製造装置を提供する。
上記課題を解決するために、本発明に係る半導体製造装置は、半導体チップを搭載する透明若しくは半透明のウェハシートと、前記ウェハシートの半導体チップ非搭載面より吸着する透明な吸着ノズルと、光源を有しその光を前記ウェハシートに照射する照明装置と、この照明装置の透過光を撮像するために前記半導体チップの搭載側に設置された撮像装置と、この撮像装置から取りこんだ画像を認識し前記半導体チップの位置を計測する画像処理装置とを有する半導体製造装置において、前記吸着ノズルの内部に照明導光板を備え、前記照明装置は前記吸着ノズルの支持部材に配置され、前記照明導光板に照射されて発光し、前記撮像装置に対して前記半導体チップを投影するように構成してあることを特徴とする。
前記半導体チップにマーキングを施し、このマーキングの検出を目印とする同軸落射照明装置を前記撮像装置と前記ウェハシートとの間に設けてあることを特徴とする。
前記半導体チップにマーキングを施し、このマーキングの検出を目印とする半球形導光照明装置を前記同軸落射照明装置と前記ウェハシートとの間に設けてあることを特徴とする。
前記照明装置は発光ダイオードを有することを特徴とする。
本発明によれば、透明な吸着ノズルの内部に、ウェーハから半導体チップを剥離するための突き上げ針に対して照明導光板を取り付け、吸着ノズルの支持部品において同心円状に配置された照明装置を備え、上記照明導光板に対して照明光を照射することで、突き上げ針の通過クリアランスを含む吸着ノズル全体を、照明導光板により発光させ、半導体チップの投影画像を画像処理装置に与えることを可能にしている。さらに、半導体チップの形状に対しては、吸着ノズルのみを交換するのみで対応可能となる。
本発明によれば、半導体チップにマーキングを施し、このマーキングの検出を目印とする同軸落射照明装置及び半球形導光照明装置を組み合わせることによって、例えば半田面のような凹凸を含む面に捺印されたマーキングを確実に検出することが可能である。
発明を実施するための最良の形態の断面図を図1に示す。図1図示の半導体製造装置は、ウェハシート2を備え、このウェハシート2に半導体チップ1を搭載するように構成してある。また、本実施形態に係る半導体製造装置は、円筒状に構成した吸着ノズル4を備え、この吸着ノズル4はウェハシート2の半導体チップ非搭載面より吸着するように構成してある。また、本実施形態に係る半導体製造装置は、照明装置6を備え、この照明装置6は光源を有し、光源から発する光をウェハシート2に照射するように構成してある。本実施形態に係る半導体製造装置は、撮像装置8を備え、この撮像装置8は、照明装置6の透過光を撮像するために半導体チップ1の搭載側に設置されている。また、本実施形態に係る半導体製造装置は、画像処理装置を備え、この画像処理装置は、撮像装置8から取りこんだ画像を認識し、半導体チップ1の位置を計測するように構成してある。
本実施形態に係る半導体製造装置は、吸着ノズル4の内部に昇降ロッド7を挿入し、昇降ロッド7の上端部にて突き上げ針7Aを保持してある。また、吸着ノズル4の内部上部に照明導光板3を備えてあり、照明導光板3に突き上げ針7Aが貫通する孔を形成し、昇降ロッド7の昇降動作によって、突き上げ針7Aが照明導光板3の貫通孔内を移動できるように構成してある。また、突き上げ針7Aに突き上げられた半導体チップ1をピックアップして、半導体チップ1をウェハシート2から取り出すピックアップ装置(図示しない)を設けてある。このピックアップ装置は、取り出した半導体チップ1をリードフレームのボンディング作業位置へと搬送し、リードフレームにボンディングするように構成してある。
この照明導光板3は、吸着ノズル4を支持する支持部材5に配置された照明装置6が照射することにより発光し、撮像装置8に対して半導体チップ1を投影するように構成してある。照明装置6は円筒状に構成してある支持部材5の上面に発光ダイオードを等間隔に配置し、各々の発光ダイオードが照明導光板3に均等に照射するように構成してある。
本実施例においては、撮像装置8とウェハシート2との間に、同軸落射照明装置9を設け、同軸落射照明装置9とウェハシート2との間に、半球形導光照明装置10を設けてある。同軸落射照明装置9及び半球形導光照明装置10とを設けたことにより、半導体チップ1にマーキングを施し、このマーキングの検出を目印とするように構成してある。
以上のように構成されている半導体製造装置は以下のように作用する。先ず、ウェハシート2に半導体チップ1を搭載する。突き上げ針7Aが照明導光板3の貫通孔内を移動し、半導体チップ1を突き上げる。円筒状に構成してある支持部材5の上面に発光ダイオードを等間隔に配置して構成した照明装置6は、光をウェハシート2に照射する。具体的には、照明装置6が、吸着ノズル4の内部上部に備えた照明導光板3に照射することにより、照明導光板3が発光する。照明導光板3で光は屈折し、屈折した光は効率良く半導体チップ1を照射する。本実施形態においては、照明導光板3から光を発すると同様の作用をするため、光源からの光を確実にウェハシート2の表面に照射することができる。このように、発する光をウェハシート2の表面に照射することにより、半導体チップ1を投影し、この投影した半導体チップ1を撮像装置8が撮像する。
本実施形態では、撮像装置8とウェハシート2との間に、同軸落射照明装置9を設け、同軸落射照明装置9とウェハシート2との間に、半球形導光照明装置10を設けてある。そのため、発する光をウェハシート2の表面に照射することにより、半導体チップ1を投影し、この投影した半導体チップ1を撮像装置8が撮像する際、検査対象に対して全方向から均一な照明光が入射されるようになり、図2に示すように、例えば半田面のような凹凸の影響をあまり受けずに、マーキングを確実に検出することができる。
本発明によれば、透明な吸着ノズルの内部に、ウェーハから半導体チップを剥離するための突き上げ針に対して照明導光板を取り付け、吸着ノズルの支持部品において同心円状に配置された照明装置を備え、上記照明導光板に対して照明光を照射することで、突き上げ針の通過クリアランスを含む吸着ノズル全体を、照明導光板により発光させ、半導体チップの投影画像を画像処理装置に与えることを可能にしている。さらに、半導体チップの形状に対しては、吸着ノズルのみを交換するのみで対応可能であり、産業上利用可能である。
本発明によれば、半導体チップにマーキングを施し、このマーキングの検出を目印とする同軸落射照明装置及び半球形導光照明装置を組み合わせることによって、例えば半田面のような凹凸を含む面に捺印されたマーキングを確実に検出することが可能であり、産業上利用可能である。
本発明に係る半導体製造装置の一実施形態を示した断面図である。 本発明に係る半導体製造装置における画像処理した際の半導体チップの表示画面を示す図である。 従来の半導体製造装置における画像処理した際の半導体チップの表示画面を示す図である。
符号の説明
1 半導体チップ
2 ウェハシート
3 照明導光板
4 吸着ノズル
5 支持部材
6 照明装置
7 昇降ロッド
7A 突き上げ針
8 撮像装置
9 落射照明装置
10 半球形導光照明装置

Claims (4)

  1. 半導体チップを搭載する透明若しくは半透明のウェハシートと、前記ウェハシートの半導体チップ非搭載面より吸着する透明な吸着ノズルと、光源を有しその光を前記ウェハシートに照射する照明装置と、この照明装置の透過光を撮像するために前記半導体チップの搭載側に設置された撮像装置と、この撮像装置から取りこんだ画像を認識し前記半導体チップの位置を計測する画像処理装置とを有する半導体製造装置において、
    前記吸着ノズルの内部に照明導光板を備え、前記照明装置は前記吸着ノズルの支持部材に配置され、前記照明導光板に照射されて発光し、前記撮像装置に対して前記半導体チップを投影するように構成してあることを特徴とする半導体製造装置。
  2. 前記半導体チップにマーキングを施し、このマーキングの検出を目印とする同軸落射照明装置を前記撮像装置と前記ウェハシートとの間に設けてあることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置。
  3. 前記半導体チップにマーキングを施し、このマーキングの検出を目印とする半球形導光照明装置を前記同軸落射照明装置と前記ウェハシートとの間に設けてあることを特徴とする請求項2記載の半導体製造装置。
  4. 前記照明装置は発光ダイオードを有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体製造装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013187370A (ja) * 2012-03-08 2013-09-19 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd ダイボンダ
JP2014197697A (ja) * 2014-06-04 2014-10-16 上野精機株式会社 突上げ装置の突上げステージ
WO2015037081A1 (ja) * 2013-09-11 2015-03-19 富士機械製造株式会社 ピックアップ装置
CN111627833A (zh) * 2020-03-31 2020-09-04 山东职业学院 一种半导体芯片生产制备系统

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6245134A (ja) * 1985-08-23 1987-02-27 Hitachi Ltd 照明装置
JPH05160204A (ja) * 1991-12-06 1993-06-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像認識用照明装置
JPH11345865A (ja) * 1998-06-01 1999-12-14 Sony Corp 半導体製造装置
JP2002076031A (ja) * 2000-08-25 2002-03-15 Shibaura Mechatronics Corp 半導体製造装置
JP2002289628A (ja) * 2001-03-23 2002-10-04 Seiko Epson Corp 画像認識方法及び画像認識装置並びに半導体装置の製造方法及び製造装置
JP2004037132A (ja) * 2002-07-01 2004-02-05 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 平板吸着照明治具および平板吸着照明方法
JP2004253600A (ja) * 2003-02-20 2004-09-09 Nec Kansai Ltd チップ吸着装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6245134A (ja) * 1985-08-23 1987-02-27 Hitachi Ltd 照明装置
JPH05160204A (ja) * 1991-12-06 1993-06-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像認識用照明装置
JPH11345865A (ja) * 1998-06-01 1999-12-14 Sony Corp 半導体製造装置
JP2002076031A (ja) * 2000-08-25 2002-03-15 Shibaura Mechatronics Corp 半導体製造装置
JP2002289628A (ja) * 2001-03-23 2002-10-04 Seiko Epson Corp 画像認識方法及び画像認識装置並びに半導体装置の製造方法及び製造装置
JP2004037132A (ja) * 2002-07-01 2004-02-05 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 平板吸着照明治具および平板吸着照明方法
JP2004253600A (ja) * 2003-02-20 2004-09-09 Nec Kansai Ltd チップ吸着装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013187370A (ja) * 2012-03-08 2013-09-19 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd ダイボンダ
WO2015037081A1 (ja) * 2013-09-11 2015-03-19 富士機械製造株式会社 ピックアップ装置
JP6033965B2 (ja) * 2013-09-11 2016-11-30 富士機械製造株式会社 ピックアップ装置
JP2014197697A (ja) * 2014-06-04 2014-10-16 上野精機株式会社 突上げ装置の突上げステージ
CN111627833A (zh) * 2020-03-31 2020-09-04 山东职业学院 一种半导体芯片生产制备系统
CN111627833B (zh) * 2020-03-31 2022-06-10 山东职业学院 一种半导体芯片生产制备系统

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