JP2007031235A - 単結晶製造装置 - Google Patents
単結晶製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007031235A JP2007031235A JP2005219603A JP2005219603A JP2007031235A JP 2007031235 A JP2007031235 A JP 2007031235A JP 2005219603 A JP2005219603 A JP 2005219603A JP 2005219603 A JP2005219603 A JP 2005219603A JP 2007031235 A JP2007031235 A JP 2007031235A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation shield
- single crystal
- melt
- crystal
- manufacturing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【解決手段】本単結晶製造装置は、チョクラルスキー法を用いた単結晶製造装置において、炉内に流すガスの整流および結晶の温度勾配を制御するために、融液直上に輻射シールドを設け、この輻射シールドと融液表面間に形成される空間の最小面積Aと、輻射シールドと石英ルツボ内表面間に形成される空間の最小面積Bとの比B/Aを1.4以上にする。
【選択図】 図2
Description
B/Aが1.0でヒータを備えた実施例2は、単結晶化率が92%とさらに高効率であった。
B/Aが1.4でヒータを備えた実施例3は、単結晶化率が98%と最も高効率であった。
B/Aが0.9でヒータを備えた比較例1は、ヒータ−を備えていても単結晶化率が40%と低効率であった。
B/Aが0.9でヒータを備えていない比較例2は、単結晶化率が0%であった。
B/Aが1.0でヒータを備えていない比較例3は、単結晶化率が60%と低効率であった。
B/Aが1.3でヒータを備えていない比較例4は、単結晶化率が74%と比較的低効率であった。
2 炉本体
3 ホットゾーン
4 石英ガラスルツボ
5 ルツボ回転用モータ
6 ルツボ回転軸
7 黒鉛ルツボ
8 ルツボ昇降装置
9 ヒータ
10 保温体
11 輻射シールド
11a 取付部
11b 円筒部
11c フランジ部
12 ワイヤ
13 ワイヤ巻取機構
14 円筒部
15 ガス供給弁
16 給気口
17 制御装置
18 ガス流路系
19 不活性ガス排出口
20 入力手段
S1 空間
S2 空間
S3 空間
A 最小面積
B 最小面積
M シリコン融液
Ig シリコン単結晶インゴット
s シード
Claims (3)
- チョクラルスキー法により単結晶を引上げる単結晶製造装置において、炉内に流すガスの整流および結晶の温度勾配を制御するために、融液直上に輻射シールドを設け、この輻射シールドと前記融液表面間に形成される空間の最小面積Aと、前記輻射シールドと石英ルツボ内表面間に形成される空間の最小面積Bとの比B/Aを1.4以上にしたことを特徴とする単結晶製造装置。
- チョクラルスキー法により単結晶を引上げる単結晶製造装置において、炉内に流すガスの整流および結晶の温度勾配を制御するために、融液直上に輻射シールドを設け、この輻射シールドと融液表面間に形成される空間の最小面積Aと、輻射シールドと石英ルツボ内表面間に形成される空間の最小面積Bとの比B/Aを1.0以上にしかつ、前記輻射シールドの前記石英ルツボに近い外表面に加熱手段を設け、この加熱手段により前記輻射シールド外表面の温度を1200℃以上、1500℃以下に加熱することを特徴とする単結晶製造装置。
- 前記最小面積Aが、前記輻射シールドと前記融液表面間に形成され、結晶軸から等距離にある中空円筒状の円周面の面積であり、前記最小面積Bが、前記輻射シールドと前記石英ルツボ内表面間に形成される、平面リング形状面の面積であることを特徴とする請求項1または2に記載の単結晶製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005219603A JP2007031235A (ja) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 単結晶製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005219603A JP2007031235A (ja) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 単結晶製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007031235A true JP2007031235A (ja) | 2007-02-08 |
Family
ID=37790929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005219603A Pending JP2007031235A (ja) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 単結晶製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007031235A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009173503A (ja) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Covalent Materials Corp | 単結晶引上装置及び単結晶の製造方法 |
WO2010010628A1 (ja) * | 2008-07-25 | 2010-01-28 | Sumco Techxiv株式会社 | 単結晶の製造方法、整流筒、および、単結晶引き上げ装置 |
CN102108544A (zh) * | 2010-10-08 | 2011-06-29 | 常州天合光能有限公司 | 一种控制长晶界面的多晶炉热场结构 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0543381A (ja) * | 1991-03-27 | 1993-02-23 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 溶融層法用単結晶成長装置及び該装置を用いた単結晶中の酸素濃度制御方法 |
JPH07187881A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | 単結晶製造装置 |
JP2002047093A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-12 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリコン単結晶引上装置 |
-
2005
- 2005-07-28 JP JP2005219603A patent/JP2007031235A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0543381A (ja) * | 1991-03-27 | 1993-02-23 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 溶融層法用単結晶成長装置及び該装置を用いた単結晶中の酸素濃度制御方法 |
JPH07187881A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | 単結晶製造装置 |
JP2002047093A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-12 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリコン単結晶引上装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009173503A (ja) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Covalent Materials Corp | 単結晶引上装置及び単結晶の製造方法 |
WO2010010628A1 (ja) * | 2008-07-25 | 2010-01-28 | Sumco Techxiv株式会社 | 単結晶の製造方法、整流筒、および、単結晶引き上げ装置 |
JP5378215B2 (ja) * | 2008-07-25 | 2013-12-25 | Sumco Techxiv株式会社 | 単結晶の製造方法 |
US8961686B2 (en) | 2008-07-25 | 2015-02-24 | Sumco Techxiv Corporation | Method of manufacturing monocrystal, flow straightening cylinder, and monocrystal pulling-up device |
CN102108544A (zh) * | 2010-10-08 | 2011-06-29 | 常州天合光能有限公司 | 一种控制长晶界面的多晶炉热场结构 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5921498B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
CN109196144B (zh) | 单晶硅的制造方法及装置 | |
JP5413354B2 (ja) | シリコン単結晶引き上げ装置及びシリコン単結晶の製造方法 | |
WO2001063027A1 (fr) | Procede de preparation d'un monocristal de silicium et monocristal de silicium obtenu | |
JPH1192272A (ja) | 単結晶製造装置および単結晶の製造方法 | |
CN108779577B (zh) | 单晶硅的制造方法 | |
US10494734B2 (en) | Method for producing silicon single crystals | |
JP4097729B2 (ja) | 半導体単結晶製造装置 | |
JP4184725B2 (ja) | 単結晶半導体の製造方法、単結晶半導体の製造装置 | |
WO2007013148A1 (ja) | シリコン単結晶引上装置及びその方法 | |
JP2007031235A (ja) | 単結晶製造装置 | |
JP2010018446A (ja) | 単結晶の製造方法及び単結晶引上装置 | |
JP6547839B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JPH10167892A (ja) | シリコン単結晶の引き上げ方法 | |
JP5392040B2 (ja) | 単結晶製造装置及び単結晶製造方法 | |
JP3849639B2 (ja) | シリコン半導体単結晶の製造装置及び製造方法 | |
JP2007254165A (ja) | 単結晶引上装置 | |
JP2007308335A (ja) | 単結晶引上げ方法 | |
JP2002321997A (ja) | シリコン単結晶の製造装置及びそれを用いたシリコン単結晶の製造方法 | |
US8691013B2 (en) | Feed tool for shielding a portion of a crystal puller | |
JP2005145724A (ja) | シリコン単結晶の製造方法及びシリコン単結晶 | |
JP4702266B2 (ja) | 単結晶の引上げ方法 | |
JPH06122587A (ja) | シリコン単結晶製造装置および製造方法 | |
JP4341379B2 (ja) | 単結晶の製造方法 | |
TWI836994B (zh) | 含有摻雜物的矽錠片 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20070711 |
|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20080306 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20100302 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100706 |