JP2007027226A - 反射光学系、照明光学装置及び露光装置 - Google Patents
反射光学系、照明光学装置及び露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007027226A JP2007027226A JP2005203876A JP2005203876A JP2007027226A JP 2007027226 A JP2007027226 A JP 2007027226A JP 2005203876 A JP2005203876 A JP 2005203876A JP 2005203876 A JP2005203876 A JP 2005203876A JP 2007027226 A JP2007027226 A JP 2007027226A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- multilayer mirror
- optical system
- mirror
- ultraviolet light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005203876A JP2007027226A (ja) | 2005-07-13 | 2005-07-13 | 反射光学系、照明光学装置及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005203876A JP2007027226A (ja) | 2005-07-13 | 2005-07-13 | 反射光学系、照明光学装置及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007027226A true JP2007027226A (ja) | 2007-02-01 |
| JP2007027226A5 JP2007027226A5 (enExample) | 2008-10-30 |
Family
ID=37787645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005203876A Pending JP2007027226A (ja) | 2005-07-13 | 2005-07-13 | 反射光学系、照明光学装置及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007027226A (enExample) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010032753A1 (ja) * | 2008-09-18 | 2010-03-25 | 株式会社ニコン | 開口絞り、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法 |
| JP2013506979A (ja) * | 2009-09-30 | 2013-02-28 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット |
| JP2014530509A (ja) * | 2011-10-11 | 2014-11-17 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | コレクター |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09330878A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-12-22 | Canon Inc | X線縮小露光装置およびこれを利用したデバイス製造方法 |
| JP2002323599A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡の製造方法及び露光装置 |
| JP2004510344A (ja) * | 2000-09-29 | 2004-04-02 | カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス | 特にマイクロリソグラフィ用の照明光学系 |
| WO2004100236A1 (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-18 | Nikon Corporation | 照明光学系、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、照明装置の製造方法、投影露光装置の調整方法、及び投影露光装置の製造方法 |
| JP2005086031A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Canon Inc | 露光装置 |
| JP2005519459A (ja) * | 2002-03-01 | 2005-06-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 射出瞳の環状照明のための入れ子式集光器を備える照明光学系 |
-
2005
- 2005-07-13 JP JP2005203876A patent/JP2007027226A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09330878A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-12-22 | Canon Inc | X線縮小露光装置およびこれを利用したデバイス製造方法 |
| JP2004510344A (ja) * | 2000-09-29 | 2004-04-02 | カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス | 特にマイクロリソグラフィ用の照明光学系 |
| JP2002323599A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡の製造方法及び露光装置 |
| JP2005519459A (ja) * | 2002-03-01 | 2005-06-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 射出瞳の環状照明のための入れ子式集光器を備える照明光学系 |
| WO2004100236A1 (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-18 | Nikon Corporation | 照明光学系、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、照明装置の製造方法、投影露光装置の調整方法、及び投影露光装置の製造方法 |
| JP2005086031A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Canon Inc | 露光装置 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010032753A1 (ja) * | 2008-09-18 | 2010-03-25 | 株式会社ニコン | 開口絞り、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法 |
| JP5533656B2 (ja) * | 2008-09-18 | 2014-06-25 | 株式会社ニコン | 結像光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法 |
| TWI486716B (zh) * | 2008-09-18 | 2015-06-01 | 尼康股份有限公司 | A aperture shutter, an optical system, an exposure apparatus, and an electronic device |
| JP2013506979A (ja) * | 2009-09-30 | 2013-02-28 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット |
| US9235137B2 (en) | 2009-09-30 | 2016-01-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination optical unit for microlithography |
| JP2014530509A (ja) * | 2011-10-11 | 2014-11-17 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | コレクター |
| US9645503B2 (en) | 2011-10-11 | 2017-05-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Collector |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5036311B2 (ja) | ミラーm3の前にレンズを伴う複数のミラーを含む投影対物レンズ | |
| JP5475756B2 (ja) | スペクトル純度フィルタを形成する方法 | |
| JP6420864B2 (ja) | スペクトル純度フィルタ、放射システム、及びコレクタ | |
| JPH05281469A (ja) | 異なる屈折率の材質からなる適合された複数の要素を用いた広帯域光学縮小系 | |
| JP4134544B2 (ja) | 結像光学系および露光装置 | |
| JP5311757B2 (ja) | 反射光学素子、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JP2008288299A (ja) | 多層膜反射鏡、照明装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
| JP2007027797A (ja) | リソグラフィ装置のレベルセンサ | |
| TW200426526A (en) | Cataoptric projection optical system, exposure apparatus and device fabrication method | |
| JP2004252363A (ja) | 反射型投影光学系 | |
| KR20190051041A (ko) | 마이크로리소그라피용 투영 노광 방법 및 투영 노광 장치 | |
| TW200908083A (en) | Exposure apparatus and semiconductor device fabrication method | |
| JP2005311187A (ja) | 照明光学系、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
| US7511888B2 (en) | Projection optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, and device manufactured by using the same | |
| JP4431497B2 (ja) | 光学撮像系、とくにカタディオプトリック縮小対物レンズ | |
| JP6510979B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | |
| JP2017076150A (ja) | 光学素子、投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 | |
| US20090135510A1 (en) | Reflective projection optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, projection method, and exposure method | |
| JP2007027226A (ja) | 反射光学系、照明光学装置及び露光装置 | |
| US9229205B2 (en) | Projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device | |
| US8031404B2 (en) | Fly's eye integrator, illuminator, lithographic apparatus and method | |
| JP2005340553A (ja) | 露光用マスク | |
| TWI236542B (en) | Projection optical system | |
| JP6053737B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置、および物品の製造方法 | |
| JP2008304711A (ja) | 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080604 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080911 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101104 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101116 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110315 |