JP2005086031A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】反射ミラー投影系の波面収差を計測する手段を露光装置内に設けると共に、反射ミラー位置計測手段と、ミラー駆動手段を設け、ミラー波面収差計測値とミラー位置計測情報を用いて補正テーブル演算手段により補正駆動量を算出し、ミラー位置及びミラー面形状(波面収差)の補正駆動を行うことで、ミラーの面内並進シフト方向の微小変位及び回転軸倒れ及び面形状の補正を行う。
【選択図】 図1
Description
ここで、07K.X軸駆動ピエゾ7KとY軸駆動ピエゾ7Lは、XY駆動コマ7MMに対してXY方向に配置し、XY与圧手段7KKによりXY方向に与圧力を与えられながらXY駆動し、Z軸駆動ピエゾ7Mが駆動テーブル7MMMをZ方向に駆動する。このように、ミラー支持アクチュエーター7JをXYZ方向に微動させることにより、ミラー面の面内並進シフト方向の補正及び微小変位及び回転軸倒れの補正を可能にする。
上記実施形態では、波面計測受光センサー24をウエハステージ8の基板搭載部の可動部に設けていたが、図7及び図8に示すようにウエハステージ8の定盤に切り欠きあるいは孔を空けて空隙部を形成し、波面収差受光センサー34をその空隙部に設けることも可能である。
上記実施形態では、波面計測受光センサー24をウエハステージ8の基板搭載部の可動部に設けていたが、図11及び図12に示すようにウエハステージ8の可動部上に計測光の折り曲げミラー36を搭載して、ウエハステージ8の固定部及び床同等位置に波面計測受光センサー&XYZ駆動手段37が設けられ、床から波面計測受光センサー支持台38により固定されている。
上記実施形態では、波面計測受光センサー24をウエハステージ8の基板搭載部の可動部に設けていたが、図14及び図15に示すようにウエハステージ8の粗動部(XY駆動部)に波面計測受光センサー39を搭載することも可能である。ここで、波面計測受光センサー39は波面計測受光センサー駆動手段40によりXYZ軸方向に移動可能に支持されている。
上記実施形態では、波面計測受光センサー24をウエハステージ8の基板搭載部の可動部に設けていたが、図17に示すようにレチクルステージ6のレチクルチャックスライダー6Bに波面計測受光センサー42を搭載し、8.ウエハステージ8の定盤固定部側に波面計測光源光供給光ファイバー41Aにより供給され41.波面計測光源出射口41から計測光が出射され投影系ミラー7A〜7Eを通り波面計測受光センサー42に入射し計測する。このように、上述した実施形態と逆方向で波面収差を計測することも可能である。 [他の実施形態5]
上記実施形態では、波面計測受光センサー24をウエハステージ8の基板搭載部の可動部に設けていたが、図18に示すようにレチクルステージ6の定盤固定部に切り欠きあるいは孔を形成し、そこに波面計測受光センサー43を設け、波面計測受光センサー43を波面計測受光センサー駆動手段44に搭載することによりXYZ軸方向に駆動可能に支持する。計測時は、計測位置まで波面計測受光センサー43を移動させ、計測ポイントごとに移動計測する。
2 光源発光部
2A 光源
2Aa 光源ミラー
2Ab Xe(液化、噴霧、ガス)
2Ae ノズル
3 真空チャンバー
4 真空ポンプ
5 露光光導入部
5A〜5D、照明系ミラー
5E ミラー鏡筒
5F ミラー支持体
6 レチクルステージ
6A 原版
7 縮小投影ミラー光学系
7A〜7D 投影系ミラー
7F〜7H 切り欠き
7J ミラー支持アクチュエーター
7K X軸駆動ピエゾ
7L Y軸駆動ピエゾ
7M Z軸駆動ピエゾ
7KK XY与圧手段
7LL XY駆動コマ支持
7MM XY駆動コマ
7MMM 駆動テーブル
7N ミラー計測レーザー干渉計光軸XA
7P ミラー計測レーザー干渉計光軸XB+ωY
7Q ミラー計測レーザー干渉計光軸XC
7R ミラー計測レーザー干渉計光軸YA
7S ミラー計測レーザー干渉計光軸YB+ωY
7T ミラー計測レーザー干渉計光軸YC
7U ミラー計測レーザー干渉計光軸ZA
7V ミラー計測レーザー干渉計光軸ZB
7W ミラー計測レーザー干渉計光軸ZC
8 ウエハステージ
8A ウエハ
9 レチクルステージ支持体
10 露光装置本体
11 ウエハステージ支持体
12 レチクルストッカー
13 レチクルチェンジャー
14 レチクルアライメントユニット
15 レチクルアライメントスコープ
16 ウエハストッカー
17 ウエハ搬送ロボット
18 ウエハメカプリアライメント温調機
19 ウエハ送り込みハンド
20〜22 ゲートバルブ
23 波面計測光源出射口
24 波面計測受光センサー
30 波面計測値演算回路
31 ミラー補正駆動テーブル演算回路
32 ミラー補正駆動手段
33 ミラー計測手段
34 波面計測受光センサー
35 波面計測受光センサー駆動手段
36 折り曲げミラー
37 波面計測受光センサー&XYZ駆動手段
38 波面計測受光センサー支持台
39 波面計測受光センサー
40 波面計測受光センサー駆動手段
41 波面計測光源出射口
41A 波面計測光源光供給光ファイバー
42 波面計測受光センサー
43 波面計測受光センサー
44 波面計測受光センサー駆動手段
Claims (11)
- 原版と基板とを相対的に移動させることにより原版に描かれたパターンを基板に投影して露光する露光装置であって、
光源から発光される光を計測位置に導く光学部材と、
前記光学部材の位置及び/又は形状を変更する変更手段と、
前記光学部材により導光された光を受けて該光学部材の波面収差を計測する波面収差計測手段と、
前記光学部材の波面収差の計測結果から、前記光学部材の波面収差を補正するための補正量を算出し、該算出された補正量に基づいて前記変更手段を制御する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。 - 前記光学部材の位置を計測する光学部材位置計測手段を更に備え、
前記制御手段は前記計測された波面収差と該光学部材の位置情報とから該光学部材の位置及び/又は形状を変更することにより該光学部材の波面収差を補正することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記波面収差計測手段は、前記基板を移動可能に保持するステージ上に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記波面収差計測手段は、前記原版を移動可能に保持するステージ上に設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記光源は、前記原版を移動可能に保持するステージに設けられ、
前記波面収差計測手段は、前記基板を移動可能に保持するステージに設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 前記光源は、前記基板を移動可能に保持するステージに設けられ、
前記波面収差計測手段は、前記原版を移動可能に保持するステージに設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージが移動する際の基準となる基台に移動可能に設けられていることを特徴とする請求項3乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記波面収差計測手段を、互いに直交する3軸方向及び該各軸まわりの回転方向のいずれかの方向に移動可能に保持する駆動手段を更に備えることを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージ上に前記導光された光の光軸を変更する部材を設け、
前記波面収差計測手段は、前記ステージが移動する際の基準となる基台が設置される部位に設けられた支持部材により前記変更された光軸上に位置するように移動可能に支持されていることを特徴とする請求項3乃至8のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージを粗い精度で移動させる部材に移動可能に支持されていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記光学部材は複数のミラー部材からなり、各々のミラー部材は互いに協働して光源から発光された光を前記計測位置まで導くことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置。
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Cited By (7)
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---|---|---|---|---|
JP2007027226A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Nikon Corp | 反射光学系、照明光学装置及び露光装置 |
JP2008543070A (ja) * | 2005-06-02 | 2008-11-27 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 光学結像装置 |
JP2009295801A (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 |
JP2010107880A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Mitsubishi Electric Corp | 光学調整装置 |
CN104977710A (zh) * | 2014-04-09 | 2015-10-14 | 上海微电子装备有限公司 | 一种光学系统像质补偿装置 |
JP2016145985A (ja) * | 2008-07-01 | 2016-08-12 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 結像誤差の決定を行う光学結像装置 |
CN113310902A (zh) * | 2021-05-26 | 2021-08-27 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种光腔衰荡自适应光学主动横模匹配方法 |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008543070A (ja) * | 2005-06-02 | 2008-11-27 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 光学結像装置 |
JP2007027226A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Nikon Corp | 反射光学系、照明光学装置及び露光装置 |
JP2009295801A (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 |
JP2016145985A (ja) * | 2008-07-01 | 2016-08-12 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 結像誤差の決定を行う光学結像装置 |
JP2010107880A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Mitsubishi Electric Corp | 光学調整装置 |
CN104977710A (zh) * | 2014-04-09 | 2015-10-14 | 上海微电子装备有限公司 | 一种光学系统像质补偿装置 |
CN113310902A (zh) * | 2021-05-26 | 2021-08-27 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种光腔衰荡自适应光学主动横模匹配方法 |
CN113310902B (zh) * | 2021-05-26 | 2023-10-03 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种光腔衰荡自适应光学主动横模匹配方法 |
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