JP2007018986A - 荷電ビーム装置及びそのビーム軸の軸合わせ方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】
2つのビーム軸を有する荷電ビーム装置において、2つのビーム軸を交差させる軸合わせを効率化する。
【解決手段】
重力方向の第1ビーム軸を有する第1のビーム照射系と、重力方向に対して傾斜した第2ビーム軸を有する第2のビーム照射系と、有する荷電ビーム装置において、先ず、試料を上下方向に移動させて、第1ビーム軸と試料の表面の交点Oiと第2ビーム軸と試料の表面の交点Oeの間のXi方向の距離ΔXiをゼロにする。次に、第2のビーム照射系を水平方向に移動させて、第1ビーム軸と試料の表面の交点Oiと、第2ビーム軸と試料の表面の交点Oeの間のYi方向の距離ΔYiをゼロにする。こうして粗調整を行った後に、微調整を行う。
【選択図】 図1
Description
Claims (32)
- 重力方向の第1ビーム軸を有する第1のビーム照射装置と、重力方向に対して傾斜した第2ビーム軸を有する第2のビーム照射装置と、上記第1および第2のビーム照射系を支持する試料筐体と、上記第1ビーム軸を上記第2ビーム軸に交差させるための照射軸位置調整部と、を有し、試料の表面上にX軸及びY軸をとるとき、上記第1ビーム軸と試料の表面の交点である第1の交点と上記第2ビーム軸と試料の表面の交点である第2の交点との間のX方向の距離ΔXがゼロとなるように、上記試料を上下方向に移動させ、第1の交点と第2の交点の間のY方向の距離ΔYがゼロとなるように、上記照射軸位置調整部によって上記第1ビーム軸をY方向に移動させるように構成されている荷電ビーム装置。
- 請求項1の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整部は、上記第1のビーム照射系の全体を移動させることによって上記第1ビーム軸を移動させることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項2の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整部は、上記第1のビーム照射系と上記試料筐体の間に配置された弾力性真空シールを有することを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項2の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整部は、上記第1のビーム照射装置と上記試料筐体の間に配置されたベローズを有することを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項1の荷電ビーム装置において、上記第1のビーム照射装置は、上記第1ビーム軸を偏向させて上記第2ビーム軸に整合させるアライナーと対物レンズを有し、上記照射軸位置調整部は、上記アライナーによって上記第1ビーム軸を偏向させたとき上記対物レンズを移動させるように構成されていることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項5の荷電ビーム装置において、上記対物レンズの収差を補正する非点補正器が設けられていることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項1の荷電ビーム装置において、上記第1のビーム照射装置がイオンビーム照射系であり、上記第2のビーム照射装置が電子ビーム照射系であることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項1の荷電ビーム装置において、上記第1のビーム照射装置が電子ビーム照射系であり、上記第2のビーム照射装置がイオンビーム照射系であり、上記電子ビーム照射装置からみて上記試料の後方の電子ビーム軸上に上記試料を透過し、散乱した電子ビームを検出する検出器を配置したことを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項1の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整部によって上記第1ビーム軸をY方向に移動させた後に、ビームアライナーによる電気的なビームシフト調整により交差誤差を10nm以下にすることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項1の荷電ビーム装置において、上記第1の交点を視野中心とする第1ビーム走査画像と上記第2の交点を視野中心とする第2ビーム走査画像とを表示する表示装置を備えることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 重力方向の第1ビーム軸を有する第1のビーム照射手段と、重力方向に対して傾斜した第2ビーム軸を有する第2のビーム照射手段と、上記第1および第2のビーム照射系を支持する試料筐体と、試料を移動させるための試料ステージと、上記第1ビーム軸を上記第2ビーム軸に交差させるための照射軸位置調整手段と、を有し、試料の表面上にX軸及びY軸をとるとき、上記第1ビーム軸と試料の表面の交点である第1の交点と上記第2ビーム軸と試料の表面の交点である第2の交点との間のX方向の距離ΔXがゼロとなるように、上記試料ステージによって上記試料を上下方向に移動させ、第1の交点と第2の交点の間のY方向の距離ΔYがゼロとなるように、上記照射軸位置調整手段によって上記第1ビーム軸をY方向に移動させるように構成されている荷電ビーム装置。
- 請求項11の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整手段は、上記第1のビーム照射手段の全体を移動させることによって上記第1ビーム軸を移動させることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項11の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整手段は、上記第1のビーム照射手段と上記試料筐体の間に配置された弾力性真空シール又はベローズを有することを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項11の荷電ビーム装置において、上記第1のビーム照射手段は、上記第1ビーム軸を偏向させて上記第2ビーム軸に整合させるアライナーと対物レンズを有し、上記照射軸位置調整手段は、上記アライナーによって上記第1ビーム軸を偏向させたとき上記対物レンズを移動させるように構成されていることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 重力方向の第1ビーム軸を有する第1のビーム照射系と、重力方向に対して傾斜した第2ビーム軸を有する第2のビーム照射系と、を有する荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法において、
試料の表面上にX軸及びY軸をとるとき、上記第1ビーム軸と試料の表面の交点である第1の交点と上記第2ビーム軸と試料の表面の交点である第2交点との間のX方向の距離ΔXがゼロとなるように、上記試料を上下方向に移動させる上下方向移動ステップと、
第1の交点と第2交点の間のY方向の距離ΔYがゼロになるように、上記第1ビーム軸を水平面に沿ってY方向に移動させるY方向移動ステップと、
を含む荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法。 - 請求項15の荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法において、上記上下方向移動ステップ及び上記Y方向移動ステップの後に、ビームアライナーによる電気的なビームシフト調整により交差誤差を10nm以下にする微調整ステップと、を含むことを特徴とする荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法。
- 請求項15の荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法において、上記Y方向移動ステップは、上記第1のビーム照射系の全体を移動させることによって上記第1ビーム軸をY方向に移動させることを特徴とする荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法。
- 請求項15の荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法において、上記Y方向移動ステップは、上記第1のビーム照射系に設けたアライナーによって上記第1ビームを偏向させ、該第1ビームを偏向量に対応して上記第1のビーム照射系に設けた対物レンズを移動させることを特徴とする荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法。
- 請求項15の荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法において、上記第1のビーム照射系がイオンビーム照射系であり、上記第2のビーム照射系が電子ビーム照射系であることを特徴とする荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法。
- 請求項15の荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法において、Y方向移動ステップは、上記第1の交点を視野中心とするSIM画像と上記第2の交点を視野中心とするSEM画像を比較することによって、第1の交点と第2交点の間のY方向の距離ΔYがゼロになったことを判定することを特徴とする荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法。
- 重力方向の第1ビーム軸を有する第1のビーム照射装置と、重力方向に対して傾斜した第2ビーム軸を有する第2のビーム照射装置と、上記第1および第2のビーム照射系を支持する試料筐体と、上記第1ビーム軸を上記第2ビーム軸に交差させるための照射軸位置調整部と、を有し、試料の表面上にX軸及びY軸をとるとき、上記第1ビーム軸と試料の表面の交点である第1の交点と上記第2ビーム軸と試料の表面の交点である第2の交点との間のX方向の距離ΔXが微小となるように、上記試料を上下方向に移動させ、第1の交点と第2の交点の間のY方向の距離ΔYが微小となるように、上記照射軸位置調整部によって上記第1ビーム軸をY方向に移動させるように構成されている荷電ビーム装置。
- 請求項21の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整部は、上記第1のビーム照射系の全体を移動させることによって上記第1ビーム軸を移動させることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項22の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整部は、上記第1のビーム照射系と上記試料筐体の間に配置された弾力性真空シールを有することを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項22の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整部は、上記第1のビーム照射装置と上記試料筐体の間に配置されたベローズを有することを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項21の荷電ビーム装置において、上記第1のビーム照射装置は、上記第1ビーム軸を偏向させて上記第2ビーム軸に整合させるアライナーと対物レンズを有し、上記照射軸位置調整部は、上記アライナーによって上記第1ビーム軸を偏向させたとき上記対物レンズを移動させるように構成されていることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項25の荷電ビーム装置において、上記対物レンズの収差を補正する非点補正器が設けられていることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項21の荷電ビーム装置において、上記第1のビーム照射装置がイオンビーム照射系であり、上記第2のビーム照射装置が電子ビーム照射系であることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項21の荷電ビーム装置において、上記第1のビーム照射装置が電子ビーム照射系であり、上記第2のビーム照射装置がイオンビーム照射系であり、上記電子ビーム照射装置からみて上記試料の後方の電子ビーム軸上に上記試料を透過し、散乱した電子ビームを検出する検出器を配置したことを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項21の荷電ビーム装置において、上記照射軸位置調整部によって上記第1ビーム軸をY方向に移動させた後に、ビームアライナーによる電気的なビームシフト調整により交差誤差を10nm以下にすることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項21の荷電ビーム装置において、上記第1の交点を視野中心とする第1ビーム走査画像と上記第2の交点を視野中心とする第2ビーム走査画像とを表示する表示装置を備えることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 重力方向の第1ビーム軸を有する第1のビーム照射手段と、重力方向に対して傾斜した第2ビーム軸を有する第2のビーム照射手段と、上記第1および第2のビーム照射系を支持する試料筐体と、試料を移動させるための試料ステージと、上記第1ビーム軸を上記第2ビーム軸に交差させるための照射軸位置調整手段と、を有し、試料の表面上にX軸及びY軸をとるとき、上記第1ビーム軸と試料の表面の交点である第1の交点と上記第2ビーム軸と試料の表面の交点である第2の交点との間のX方向の距離ΔXが微小となるように、上記試料ステージによって上記試料を上下方向に移動させ、第1の交点と第2の交点の間のY方向の距離ΔYが微小となるように、上記照射軸位置調整手段によって上記第1ビーム軸をY方向に移動させるように構成されている荷電ビーム装置。
- 重力方向の第1ビーム軸を有する第1のビーム照射系と、重力方向に対して傾斜した第2ビーム軸を有する第2のビーム照射系と、を有する荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法において、
試料の表面上にX軸及びY軸をとるとき、上記第1ビーム軸と試料の表面の交点である第1の交点と上記第2ビーム軸と試料の表面の交点である第2交点との間のX方向の距離ΔXが微小となるように、上記試料を上下方向に移動させる上下方向移動ステップと、
第1の交点と第2交点の間のY方向の距離ΔYが微小になるように、上記第1ビーム軸を水平面に沿ってY方向に移動させるY方向移動ステップと、
を含む荷電ビーム装置のビーム軸の軸合わせ方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009109236A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Masanori Owari | アトムプローブ用針状試料の加工方法及び集束イオンビーム装置 |
JP2013197046A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Hitachi High-Tech Science Corp | 複合荷電粒子ビーム装置 |
CN105957790A (zh) * | 2016-07-01 | 2016-09-21 | 苏州至臻精密光学有限公司 | 一种离子束刻蚀机及其刻蚀方法 |
JP2017126570A (ja) * | 2009-11-06 | 2017-07-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置および試料解析方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6298544A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-08 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線装置 |
JPH05159736A (ja) * | 1991-12-02 | 1993-06-25 | Topcon Corp | 走査型電子顕微鏡 |
JPH07230784A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Jeol Ltd | 複合荷電粒子ビーム装置 |
JPH1012176A (ja) * | 1996-06-25 | 1998-01-16 | Toshiba Corp | 形状観察装置 |
JP2002298774A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Toshiba Corp | 電子顕微鏡 |
-
2005
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6298544A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-08 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線装置 |
JPH05159736A (ja) * | 1991-12-02 | 1993-06-25 | Topcon Corp | 走査型電子顕微鏡 |
JPH07230784A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Jeol Ltd | 複合荷電粒子ビーム装置 |
JPH1012176A (ja) * | 1996-06-25 | 1998-01-16 | Toshiba Corp | 形状観察装置 |
JP2002298774A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Toshiba Corp | 電子顕微鏡 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009109236A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Masanori Owari | アトムプローブ用針状試料の加工方法及び集束イオンビーム装置 |
JP2017126570A (ja) * | 2009-11-06 | 2017-07-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置および試料解析方法 |
JP2019114567A (ja) * | 2009-11-06 | 2019-07-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム装置および試料解析方法 |
JP2013197046A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Hitachi High-Tech Science Corp | 複合荷電粒子ビーム装置 |
CN105957790A (zh) * | 2016-07-01 | 2016-09-21 | 苏州至臻精密光学有限公司 | 一种离子束刻蚀机及其刻蚀方法 |
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