JP2007017639A - レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクションｔｖ - Google Patents

Abstract

【課題】光の利用効率に優れるとともに、コントラストに優れた画像が得られる透過型スクリーン、リア型プロジェクションＴＶを提供すること、また、前記透過型スクリーン、前記リア型プロジェクションＴＶに好適に適用することができるレンズ基板を提供すること、また、前記レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のレンズ基板の製造方法は、多数のレンズを有する基板の前記レンズが設けられた側とは反対の面側に、レーザ光を照射し、前記基板の表面付近の一部を変質させることにより遮光層を形成することを特徴とする。前記基板は、前記レンズに対応する形状の凹部を多数個有する凹部付き基板の凹部が形成されている側の面に流動性を有する樹脂材料を付与する工程と、前記樹脂材料を固化させる工程とを経て製造されたものである。
【選択図】図１

Description

本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクションＴＶに関するものである。

近年、リア型プロジェクションＴＶは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクションＴＶに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ等のレンズ部を備えたレンズ基板（レンズシート）が一般的に用いられている。
リア型プロジェクションＴＶに用いられる透過型スクリーンにおいては、表示画像のコントラストを向上させる目的で、レンズ基板のレンズ部による集光部以外の部位に、遮光部（遮光層）を設けることがある。

このような遮光部は、例えば、特許文献１に記載されているような方法により形成されていた。すなわち、遮光部は、例えば、レンズシートの平坦な表面に着色剤を含む感光性硬化型樹脂層からなる第１層を形成する工程と、第１の層上に、着色剤の含有量が第１層よりも少ない感光性硬化型樹脂層からなる第２層、および透光性基材を、この順に形成する工程と、レンズ部側から露光することにより、レンズ部による集光部にあたる箇所の少なくとも第１層をパターン状に硬化させる工程と、透光性基材側から全面露光することにより、透光性基材との界面近傍の第２層の全面を硬化させる工程と、レンズシートから、第２層およびレンズ部による集光部にあたる箇所がパターン状に硬化した第１層が重合接着した透光性基材を剥離することにより、レンズシートの平坦な表面では、レンズ部による集光部にあたる箇所の第１層を除去し、レンズ部による非集光部にあたる箇所には第１層を残し、着色剤を含む感光性硬化型樹脂層からなる遮光層を形成する工程とを有する方法により、形成されていた。

しかしながら、従来の方法では、遮光部を所定の部位に選択的に形成することが困難であった。より詳しく説明すると、上記の方法では、遮光性の材料で構成された層（第１層）の一部を、第２層に接着させた状態で、レンズシートから第２層を剥離することにより、第２層とともに第１層の一部（第２層に接着した部位）を除去し、第１層（遮光層）に透光部（開口部）を形成しているが、このような方法によると、第１層の硬化部位のみを選択的に除去するのが困難であり、硬化部位とともに未硬化部が除去されてしまいやすいという問題があった。また、硬化部位が十分に除去されず、透光部の形成されない部分、すなわち、ムラが生じる場合があり、さらには、このムラを解消するのが極めて難しいという問題点があった。また、第１層の未硬化の部位が軟化または流動性を有する状態である場合には、第１層の硬化部位を除去する際、または除去した後に、未硬化の材料が除去部に広がることがある。このような場合、遮光部が形成されたレンズシートにおける光の透過率が低下し、結果として、表示画像のコントラストが低下する。

特開２００４−３６１８７５号公報

本発明の目的は、光の利用効率に優れるとともに、コントラストに優れた画像が得られる透過型スクリーン、リア型プロジェクションＴＶを提供すること、また、前記透過型スクリーン、前記リア型プロジェクションＴＶに好適に適用することができるレンズ基板を提供すること、また、前記レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することにある。

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数のレンズを有する基板の前記レンズが設けられた側とは反対の面側に、レーザ光を照射し、前記基板の表面付近の一部を変質させることにより遮光層を形成することを特徴とする。
これにより、工程数が少なく、簡便な方法で、所望の部位に所望の形状の遮光層を確実に形成することができる。その結果、レンズ基板を用いて得られる画像を、光の利用効率に優れたものとするとともに、コントラストに優れたものとすることができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記基板は、前記レンズに対応する形状の凹部を多数個有する凹部付き基板の凹部が形成されている側の面に流動性を有する樹脂材料を付与する工程と、前記樹脂材料を固化させる工程とを経て製造されたものであることが好ましい。
これにより、所望の形状の基板を容易に得ることができ、その結果、レンズ基板において、光の利用効率を特に優れたものとするとともに、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レーザ光の照射は、前記基板と前記凹部付き基板とを密着させた状態で行うことが好ましい。
これにより、レーザ光の照射による樹脂材料の変形や収縮の影響をより小さいものとすることができ、所望の部位に所望の形状の遮光層をより確実に形成することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レーザ光を照射する工程の後に、前記基板から前記凹部付き基板を取り外すことが好ましい。
これにより、凹部付き基板を型として再利用することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レーザ光のピーク波長は、２４８〜１１０００ｎｍであることが好ましい。
これにより、より効率良く遮光層を形成することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レーザ光は、エキシマレーザであることが好ましい。
これにより、より効率良く遮光層を形成することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記遮光層の平均厚さは、０．３〜８．０μｍであることが好ましい。
これにより、遮光層としての機能（すなわち、画像のコントラストを向上させる機能）をより効果的に発揮させることができ、例えば、このようなレンズ基板を備えた透過型スクリーンにおいて、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記基板の厚さは、２５〜２５０μｍであることが好ましい。
これにより、所望の形状の遮光層をより確実に形成することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レンズは、マイクロレンズで構成されたものであることが好ましい。
これにより、レンズ基板を、透過型スクリーン、リア型プロジェクタ等に適用した場合における、視野角特性を特に優れたものとする（上下および左右方向の視野角特性をいずれも特に優れたものとする）ことができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記マイクロレンズは、前記レンズ基板を平面視したときの縦幅が横幅よりも大きい扁平形状を有するものであることが好ましい。
これにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止することができる。
本発明のレンズ基板は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、例えば、得られるレンズ基板を透過型スクリーン、リア型プロジェクタの構成部品（レンズ基板）として好適に用いることができる。

本発明のレンズ基板は、多数のレンズを有するレンズ基板であって、
前記レンズが設けられている側とは反対の面側の表面付近に、レーザ光の照射により形成された遮光層を有することを特徴とする。
これにより、このようなレンズ基板を用いて得られる画像を、光の利用効率に優れたものとするとともに、コントラストに優れたものとすることができる。

本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像が得られるとともに、耐久性にも優れた透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクションＴＶは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れるとともに、コントラストに優れた画像が得られるリア型プロジェクションＴＶを提供することができる。

以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクションＴＶについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。

本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、本実施形態では、レンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクションＴＶを構成する部材として用いるものとして説明する。
まず、本発明のレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、本発明のレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。

図１は、本発明のレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。

マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（凸レンズ）１１と、遮光性を有するブラックマトリックス（遮光層）１２とで構成されている。
マイクロレンズ基板１は、通常、透明性を有する材料で構成される。
マイクロレンズ基板１の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。

マイクロレンズ基板１の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。

マイクロレンズ基板１を構成する樹脂材料（固化した状態の樹脂材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．３５〜２．００であるのが好ましく、１．４０〜１．６０であるのがより好ましく、１．４５〜１．５５であるのがさらに好ましい。樹脂材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。

マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ１１を複数個備えている。
本発明において、レンズ基板を構成するレンズは、いかなるものであってもよいが、レンズ基板を構成するレンズがマイクロレンズであると、レンズ基板を、透過型スクリーン、リア型プロジェクションＴＶ等に適用した場合における、視野角特性を特に優れたものとする（上下および左右方向の視野角特性をいずれも特に優れたものとする）ことができる。

本実施形態において、マイクロレンズ１１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅が横幅よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有していることが望ましい。マイクロレンズ１１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。

平面視したときのマイクロレンズ１１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ_１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ_２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。

平面視したときのマイクロレンズ１１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。

また、平面視したときのマイクロレンズ１１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。

また、マイクロレンズ１１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「マイクロレンズ１１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。

また、マイクロレンズ１１の高さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ１１の高さをＨ［μｍ］、マイクロレンズ１１の短軸方向の長さをＳ［μｍ］としたとき、０．９≦Ｓ／Ｈ≦２．５の関係を満足するのが好ましく、１．０≦Ｓ／Ｈ≦１．８の関係を満足するのがより好ましく、１．２≦Ｓ／Ｈ≦１．６の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。

また、これら複数個のマイクロレンズ１１は、千鳥格子状に配列している。このようにマイクロレンズ１１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。

上記のように、マイクロレンズ１１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ１１で構成される第１の行１５と、それに隣接する第２の行１６とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式、占有率等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。

また、各マイクロレンズ１１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、マイクロレンズ基板１上のブラックマトリックス（遮光層）１２が形成されていない領域である非遮光部１３の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ１１によって集光され、非遮光部１３近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、非遮光部１３の近傍でマイクロレンズ１１が焦点を結ぶことにより、非遮光部１３の面積を小さくすることができる。すなわち、マイクロレンズ基板１を平面視したときの、ブラックマトリックス１２（非遮光部１３以外の領域）の面積の割合を大きくすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、非遮光部１３の近傍でマイクロレンズ１１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。

また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ１１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ１１の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７〜９９．５％であるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の占有率が９０％以上であると、マイクロレンズ１１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。なお、マイクロレンズ１１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ１１の中心（頂部の中心）１１１と、当該マイクロレンズ１１に隣接する、マイクロレンズ１１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ１１が形成されている部位の長さＬ_３［μｍ］と、前記線分の長さＬ_４［μｍ］との比率（Ｌ_３／Ｌ_４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。

また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、ブラックマトリックス１２が形成されている。ブラックマトリックス１２は、遮光性を有し、後に詳述する方法において、マイクロレンズ基板１を構成する材料を変質させて、形成されるものである。このようなブラックマトリックス１２を有することにより、当該ブラックマトリックス１２に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。

また、ブラックマトリックス１２の厚さ（平均厚さ）は、０．３〜８．０μｍであるのが好ましく、０．８〜７．０μｍであるのがより好ましく、１．４〜６．０μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス１２の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス１２としての機能（すなわち、画像のコントラストを向上させる機能）をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。

ブラックマトリックス１２が形成されていない領域、すなわち、非遮光部１３は、通常、マイクロレンズ１１の形状（平面視した際の形状）に対応する形状（略相似形状）を有し、かつ、マイクロレンズ１１より小さいものである。すなわち、本実施形態において、非遮光部１３は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅が横幅よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。非遮光部１３がこのような形状、大きさを有することにより、コントラストを優れたものとしつつ、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止し、視野角特性を特に優れたものとすることができる。

平面視したときの非遮光部１３の短軸方向の長さは、５〜２５０μｍであるのが好ましく、７〜１５０μｍであるのがより好ましく、１０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。非遮光部１３の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、非遮光部１３の短軸方向の長さが前記下限値未満であると、光の利用効率を十分に高くするのが困難となる可能性がある。また、非遮光部１３の短軸方向の長さが前記上限値を越えると、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。

また、平面視したときの非遮光部１３の長軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、１２〜２００μｍであるのがより好ましく、１５〜１５２μｍであるのがさらに好ましい。非遮光部１３の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、非遮光部１３の長軸方向の長さが前記下限値未満であると、光の利用効率を十分に高くするのが困難となる可能性がある。また、非遮光部１３の長軸方向の長さが前記上限値を越えると、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。

また、平面視したときのマイクロレンズ１１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ_１［μｍ］、非遮光部１３の短軸方向（縦方向）の長さをＬ_１’［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ_１’／Ｌ_１≦０．９０の関係を満足するのが好ましく、０．２０≦Ｌ_１’／Ｌ_１≦０．８０の関係を満足するのがより好ましく、０．３０≦Ｌ_１’／Ｌ_１≦０．６０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。

また、平面視したときのマイクロレンズ１１の長軸方向（横方向）の長さをＬ_２［μｍ］、非遮光部１３の長軸方向（横方向）の長さをＬ_２’［μｍ］としたとき、０．１≦Ｌ_２’／Ｌ_２≦０．９０の関係を満足するのが好ましく、０．２≦Ｌ_２’／Ｌ_２≦０．８の関係を満足するのがより好ましく、０．３≦Ｌ_２’／Ｌ_２≦０．６の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。

本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）は、後に詳述するような方法で製造されたものであるため、光の利用効率に優れている。マイクロレンズ基板１の光の利用効率（マイクロレンズ基板１の入射面側から入射する光の光量に対する、出射面側から出射する光の光量の割合）は、６０％以上であるのが好ましく、７０％以上であるのがより好ましく、８０〜９５％であるのがさらに好ましい。

次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。

以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１のブラックマトリックス１２が形成された面側とは反対の面側からに入射し、各マイクロレンズ１１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。非遮光部１３を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。

以下、上述したマイクロレンズ基板の製造方法について説明するが、それに先立ち、上述したマイクロレンズ基板の製造に好適に用いることができる凹部付き基板（マイクロレンズ形成用凹部付き基板）、および、その製造方法について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き基板を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示す凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。なお、凹部付き基板の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板の製造においては、実際には基板上に多数のマイクロレンズ（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。

凹部付き基板（マイクロレンズ形成用凹部付き基板）６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き基板６の構成材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。中でも、凹部付き基板６の構成材料としては、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。

凹部付き基板（マイクロレンズ形成用凹部付き基板）６は、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ１１に対応する形状を有し、かつ、マイクロレンズ１１の配列方式に対応する方式で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１を備えており、これらの凹部６１は、通常、マイクロレンズ１１と、実質的に同一の（マイクロレンズが凸部であるのに対し凹部であり、かつ、転写された形状、位置関係である以外は同一の）形状（寸法）、配列方式を有している。

より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、凹部付き基板６を平面視した際の縦幅が横幅よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。

また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ_１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ_２［μｍ］としたとき、０．１≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。

また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き基板６）の生産性をさらに高めることができる。

また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き基板６）の生産性をさらに高めることができる。

また、凹部６１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「凹部６１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。

また、凹部６１の深さは、７〜３７５μｍであるのが好ましく、２２〜２２５μｍであるのがより好ましく、３７〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１における光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、凹部６１の深さをＤ［μｍ］、凹部６１の短軸方向の長さをＳ［μｍ］としたとき、０．０２≦Ｓ／Ｄ≦５０の関係を満足するのが好ましく、０．１≦Ｓ／Ｄ≦１．４０の関係を満足するのがより好ましく、０．５≦Ｓ／Ｄ≦１．０の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。

また、これら複数個の凹部６１は、千鳥格子状に配列している。このように凹部６１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。

また、上記のように、凹部６１は、凹部付き基板６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。

なお、上記の説明では、凹部６１が、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ１１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、マイクロレンズ基板１の構成材料が収縮し易いものである場合（マイクロレンズ基板１を構成する樹脂材料が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ基板１を構成するマイクロレンズ１１と、凹部付き基板（マイクロレンズ形成用凹部付き基板）６を構成する凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。

次に、凹部付き基板の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数のマイクロレンズ形成用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き基板６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。

＜Ａ１＞用意した基板７の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図５（ａ）、図５（ｂ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図５（ａ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜４を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜４および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。

マスク形成用膜４は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜４（マスク８）は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
かかる観点からは、マスク形成用膜４（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜４（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。

上記のように、マスク形成用膜４（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜４は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜４を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、マスク形成用膜４（マスク８）のが上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜４（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜４（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。

マスク形成用膜４の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜４（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜４は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜４（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜４は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。

マスク形成用膜４（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜４（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜４の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜４（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜４（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。

裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜４（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜４の形成と同時に、マスク形成用膜４と同様に設けることができる。

次に、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凹部付き基板を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜４に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。

また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、初期孔８１のパターンに対応したフォトマスクを形成し、該フォトマスクパワーンを介してレーザ光を照射することにより、効率良く初期孔８１を形成することができる。
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ_４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ_２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。

マスク形成用膜４に初期孔８１を形成するとき、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４だけでなく基板７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、凹部付き基板６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ１１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ１１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。

本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。

また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．９〜３０μｍであるのが好ましく、１．５〜１５μｍであるのがより好ましく、２．０〜６μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
また、マスク形成用膜４に対してレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基板７にマスク形成用膜４を形成する際に、予め基板７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク形成用膜４を形成することでマスク形成用膜４に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。

＜Ａ２＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。

初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。

また、本実施形態では、前記工程＜Ａ１＞でマスク形成用膜４に初期孔８１を形成した際（マスク８を形成した際）に、基板７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。

マスク８（マスク形成用膜４）が主としてクロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き基板６を提供することができる。

＜Ａ３＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、凹部付き基板６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。

また、例えば、凹部付き基板６の凹部６１が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、マイクロレンズ１１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き基板６を容易に取り外すことができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ_３）_３Ｓｉ］_２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。

以上により、図５（ｄ）および図３に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凹部付き基板６が得られる。
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜４に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。

すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜４に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き基板６を提供することができる。
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の凹部付き基板（マイクロレンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。

次に、上述した凹部付き基板６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
図６、図７は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図６、図７中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。

＜Ｂ１＞まず、図６（ａ）に示すように、凹部付き基板６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の樹脂材料１７（例えば、軟化状態の樹脂材料１７、未重合（未硬化）の樹脂材料１７）を付与し、樹脂材料１７を平板９で押圧する。特に、本実施形態では、凹部付き基板６と、平板９との間に、スペーサー１４を配した状態で、樹脂材料１７を押圧する。これにより、形成されるマイクロレンズ基板１の厚さをより確実に制御することができ、最終的に得られるマイクロレンズ基板１での、マイクロレンズ１１の焦点の位置をより確実に制御することができ、色ムラ等の不都合の発生をより効果的に防止することができる。

スペーサー１４は、樹脂材料１７（固化後の樹脂材料１７）と同程度の屈折率を有する材料で構成されている。このような材料で構成されたスペーサー１４を用いることにより、凹部付き基板６の凹部６１が形成された部位にスペーサー１４が配された場合であっても、スペーサー１４が得られるマイクロレンズ基板１の光学特性に悪影響を及ぼすのを効果的に防止することができる。これにより、凹部付き基板６の主面（凹部が形成された面側）の有効領域のほぼ全体にわたって、比較的多くのスペーサー１４を配することが可能となり、結果として、凹部付き基板６、平板９のたわみ等による影響を効果的に排除し、得られるマイクロレンズ基板１の厚さをより確実に制御することができる。

上述したように、スペーサー１４は、樹脂材料１７（固化後の樹脂材料１７）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているが、より具体的には、スペーサー１４の構成材料の絶対屈折率と固化後の樹脂材料１７の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の樹脂材料１７とスペーサー１４とが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサー１４の形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサー１４がこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。

なお、上記のようにスペーサー１４を用いる場合、樹脂材料１７を固化する際に、凹部付き基板６と平板９との間にスペーサー１４が配されていればよく、スペーサー１４を供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き基板６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサー１４が分散された樹脂材料１７を用いてもよいし、凹部付き基板６上にスペーサー１４を配した状態で樹脂材料１７を付与してもよいし、樹脂材料１７の供給後にスペーサー１４を付与してもよい。
また、平板９は、樹脂材料１７を押圧する側の面に、前述したような離型処理が施されたものであってもよい。これにより、後述する工程において、平板９を効率良く固化した樹脂材料１７の表面から取り除くことができる。

＜Ｂ２＞次に、樹脂材料１７を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、その後、平板９を取り除く（図６（ｂ）参照）。これにより、凹部６１に充填された樹脂で構成されたマイクロレンズ１１（特に、上述したような形状、配列等の条件を満足するマイクロレンズ１１）を備えた基板１’が得られる。
樹脂材料１７の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。

＜Ｂ３＞次に、形成すべきブラックマトリックス１２のパターンに対応した部分が、レーザ光を透過可能となっている透過部３１を有するマスク（ブラックマトリックス形成用マスク）３を用意する。
次に、図６（ｃ）に示すように、基板１’のマイクロレンズ１１が形成されている側とは反対の面側に、マスク３を配置し、マスク３を介して、基板１’に、出射側表面に対して垂直方向のレーザ光Ｌｂを照射する。

そして、レーザ光は、マスク３の透過部３１を透過し、基板１’の出射側表面に照射される。基板１’のマイクロレンズ１１が形成されている側とは反対の面側の表面に、レーザ光のエネルギが局部的に与えられることによって、その表面付近が選択的に変質し、ブラックマトリックス１２が形成される。これにより、ブラックマトリックス（遮光層）１２を有するマイクロレンズ基板１が形成される。なお、基板１’の出射側表面の、マスク３のレーザ光を透過しない部位（非透過部３２）に対応する部位は、前述した非遮光部１３となる。

このように本発明では、レンズが設けられている側とは反対の面側に、レーザ光を照射することにより、基板表面付近を選択的に変質させ、遮光層を形成する点に特徴を有している。このように、レーザ光を用いて遮光層を形成することにより、所定の部位のみを選択的に変質させることができる。また、基板の表面付近を選択的に変質させて遮光層を形成することにより、レーザ光照射による基板１’への影響を小さいものとすることができる。また、本発明によれば、工程数が少なく、簡便な方法で、所望の部位に所望の形状の遮光層を確実に形成することができる。その結果、レンズ基板を用いて得られる画像を、光の利用効率に優れたものとするとともに、コントラストに優れたものとすることができる。また、従来の遮光層は、基板とは、別の材料によって形成されるため、遮光層が不本意に剥がれたり、また、例えば、レンズ基板の遮光層が設けられている側にがバーガラス等を設ける場合、レンズ基板とカバーガラスとを十分に密着させるのが困難であったが、本発明によれば、基板表面を変質させることにより遮光層を形成することから、上記のような問題は生じない。なお、本明細書において、「変質」とは、基板を構成する材料が化学的に変質し、有色（暗色）に変化することを意味する。

また、レーザ光の照射は、本実施形態のように、基板１’と凹部付き基板６と密着している状態で行うのが好ましい。これにより、樹脂材料の変形や収縮の影響をより小さいものとすることができ、所望の部位に所望の形状の遮光層１２をより確実に形成することができる。
使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ_４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ_２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使ってもよい。上述した中でも、特にエキシマレーザを用いるのが好ましい。これにより、より効率良くブラックマトリックス１２を形成することができる。
また、レーザ光のピーク波長は、２４８〜１１０００ｎｍであるのが好ましい。これにより、より効率良くブラックマトリックス１２を形成することができる。
＜Ｂ４＞次に、図７（ｅ）に示すように、凹部付き基板６を取り外す。これにより、マイクロレンズ基板１（本発明のレンズ基板）が得られる。

［リア型プロジェクションＴＶ］
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクションＴＶについて説明する。
図８は、本発明のリア型プロジェクションＴＶの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクションＴＶ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。

そして、このリア型プロジェクションＴＶ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、高輝度でコントラストに優れた画像を得ることができる。さらに、上記のようなマイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）を備えているので、視野角特性等も特に優れたものとなる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ１１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクションＴＶ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。

以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクションＴＶを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、スペーサーとして、樹脂（固化後の樹脂）と同程度の屈折率を有するものを用いるものとして説明したが、スペーサーは、実質的に、凹部付き基板の凹部が形成されていない領域のみ（非有効領域）に配されるものである場合、樹脂（固化後の樹脂）と同程度の屈折率を有するものでなくてもよい。また、レンズ基板の製造に際して、上記のようなスペーサーは必ずしも用いなくてもよい。

また、前述した実施形態では、凹部付き基板の表面に樹脂を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面に樹脂を付与し、これを凹部付き基板で押圧することにより、レンズ基板を製造してもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き基板の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基板７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギ強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。

また、前述した実施形態では、レンズ基板の製造において、凹部付き基板を除去するものとして、凹部付き基板は必ずしも除去しなくてもよい。言い換えると、凹部付き基板は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
また、前述した実施形態では、遮光層の形成を、基板本体から凹部付き基板を取り外さずに行うものとして説明したが、遮光層の形成は、凹部付き基板を取り外してから行ってもよい。

また、前述した実施形態では、ブラックマトリックス形成用のマスクを用いて、レーザ光を照射したが、これに限定されず、そのようなマスクは用いなくてもよい。
また、本発明では、基板の変質とともに、その他の成分の一部が除去されてもよい。
また、前述した実施形態では、レンズ基板を構成するレンズがマイクロレンズであるものとして説明したが、レンズ基板は、レンチキュラレンズを有するものであってもよい。

また、前述した実施形態では、凸状のレンズを形成する場合について説明したが、これに限定されず、レンズは凹状のものであってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。

また、前述した実施形態では、レンズ基板（マイクロレンズ基板）は、透過型スクリーン、リア型プロジェクションＴＶを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。

［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き基板を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ_２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。

次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。

次に、マスク形成用膜に対して、初期孔のパターンに対応したフォトマスクを用いてレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザ（λ：２４８ｎｍ）を用いて、エネルギ密度１．２Ｊ／ｃｍ^２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２μｍであった。
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ５０Åの凹部も形成した。

次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３６μｍ、深さは３６μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。

なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。

その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、図２に示すような、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。

次に、凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））を付与した。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル系樹脂を押圧した。この際、平板とアクリル系樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、アクリル系樹脂を押圧する側の面に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（離型処理）が施されたものを用いた。

その後、１２０℃に加熱することにより、アクリル系樹脂を硬化させ、多数のマイクロレンズを有する基板を得た。得られた基板（硬化後の樹脂）の屈折率ｎ_１は、１.５１であった。また、得られた基板の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは５０μｍであった。また、扁平形状（略楕円形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が７２μｍ、長軸方向の長さが７６μｍ、曲率半径が３７.５μｍ、高さが３６.５μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。

次に、平板を取り除いた。
次に、基板の、マイクロレンズが形成されている側とは反対の面側に、形成すべきブラックマトリックスのパターンに部分が、レーザ光を透過可能となっているフォトマスク（ブラックマトリックス形成用マスク）を設置した。
次に、このマスクを介して、基板の、マイクロレンズが形成されている側とは反対の面に、レーザ光を照射した。これにより、ブラックマトリックスが形成されたマイクロレンズ基板が得られた。形成されたブラックマトリックスの平均厚さは、０．２μｍであった。

レーザ光の照射は、エキシマレーザ（λ：２４８ｎｍ）を用いて、エネルギ密度１．２Ｊ／ｃｍ^２、基板表面でのビーム直径２μｍ、１箇所における照射回数１００ショットという条件で行った。
その後、凹部付き基板を基板本体から取り外し、マイクロレンズ基板を得た。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部と、紫外線吸収剤を含んだ光拡散板を組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。

（実施例２〜４）
ブラックマトリックスを形成する際のレーザ光照射条件を表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例５〜７）
凹部付き基板を形成する際のレーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状、初期凹部の深さ）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凹部付き基板の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターン等を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。

（比較例１）
ブラックマトリックスを形成しなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（比較例２）
まず、前記実施例１と同様にして、基板（ブラックマトリックス未形成の基板）を製造した。

次に、平板および凹部付き基板から取り外された状態の基板の、出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、着色剤を含む感光性硬化型樹脂で構成された第１層を形成した。第１層の形成は、以下のようにして行った。まず、基板本体の出射側の全面に、ジアリルイソフタレートプレポリマー：１４．６３重量部と、ジペンタエリスリトール・カプロラクトンのアクリル変性エステル化合物（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−２０：日本化薬社製）８．７８重量部と、３官能アクリルオリゴマー（ＳＲ９０１２：日本化薬社製）：０．９８重量部と、カーボンブラック：１０．１６重量部と、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−プロパン−１−オン（イルガキュア９０７：１．６３重量部と、２，４−ジエチルチオキサントン：０．３３重量部と、疎水性シリカＲ９７４：１．１３重量部と、メチルエチルケトン：３１．１９重量部と、トルエン：３１．１９重量部との混合物を、ロールコーターにより付与し、その後、基板本体に付与された混合物からメチルエチルケトンおよびトルエンを除去した。その後、さらに、形成された着色感光性硬化型樹脂層の乾燥面に、低密度ポリエチレンフィルム（厚さ３０μｍ）を接触させて、ラミネーターを介して常温下で圧着を行い、着色感光性硬化型樹脂層（第１層）を形成した。形成された第１層の平均厚さは、１０μｍであった。

一方、透光性基材フィルムとして、ポリエステルフィルム（コスモシャインＡ４３００：東洋紡績社製）を準備し、その表面に、ポリエステル（バイロンＧＫ１３０：東洋紡績社製）：６７．３３重量部と、ペンタエリスリトールトリアクリレート（アロニックスＭ−３０５：東亜合成社製）：６．７３重量部と、２官能変性エポキシアクリレート（エベクリル３７０８：ダイセル・ユーシービー社製）：６．７３重量部と、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−プロパン−１−オン（イルガキュア９０７：チバスペシャルティケミカルズ社製）：１．１２重量部、２，４−ジエチルチオキサントン（ＫＡＹＡＣＵＲＥＤＥＴＸ−Ｓ：日本化薬社製）：０．２２重量部と、メチルエチルケトン：２．６８重量部と、トルエン：２．６８重量部との混合物を、マイクログラビアコーターにより付与し、その後、メチルエチルケトンおよびトルエンを除去した。これにより、厚さ２μｍの感光性硬化型樹脂層（第２層）を有する透光性基材フィルムと得た。

次に、着色感光性硬化型樹脂層（第１層）が形成された基板本体の表面に積層した低密度ポリエチレンフィルムを剥離しながら、感光性硬化型樹脂層（第２層）を有する透光性基材フィルムと、互いの感光性硬化型樹脂層同士を接触するよう常温下でラミネートをインラインで行うことにより、２層の感光性硬化型樹脂層（第１層および第２層）を積層した。形成された第２層中における着色剤の含有率は、第１層中における着色剤の含有率よりも低いものであった。

次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている側の面から、活性線露光照射装置（ＴＬ５０２：東芝ライテック社製）を用いて、１０ｍＪ／ｃｍ^２の露光を行った。次いで、５０℃、０．２ｍ／分、２ｋｇｆ／ｃｍの条件下で、ラミネートを行い、基板本体に加圧処理を施した。
その後、基板本体の透光性基材フィルム側から、上記活性線露光照射装置を用いて１ｍＪ／ｃｍ^２の全面露光を行った。さらに、再度、２５℃、０．２ｍ／分、２ｋｇｆ／ｃｍの条件下でラミネートを行い、基板本体に加圧処理を施した。

その後、基板本体から、室温下で透光性基材フィルムを剥離し、マイクロレンズ基板を得た。透光性基材フィルムを剥離する際、マイクロレンズ側からの露光によるマイクロレンズの集光部分にあたる箇所の感光性硬化型樹脂層（第１層および第２層）は全て透光性基材フィルムと重合接着して剥離されたが、それとともに、集光部分の周辺も剥離されてしまった。

また、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および各比較例について、凹部付き基板を製造する際に形成された初期孔の形状、初期凹部の深さ、製造された凹部付き基板が有する凹部の形状、配列パターン、ブラックマトリックスを形成する際のエネルギ線の種類および条件、製造されたマイクロレンズ基板が有するマイクロレンズの形状、配列パターン、ブラックマトリックスの構成等を表１にまとめて示す。

［光の利用効率の評価］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンについて、光の利用効率の評価を行った。
光の利用効率の評価は、Ａ（＝３００）［ｃｄ／ｍ^２］の白色光を入射させた際、透過型スクリーンの光の出射面側で測定される光の輝度Ｂ［ｃｄ／ｍ^２］の比率（Ｂ／Ａ）を求めることにより行った。Ｂ／Ａの値が大きいほど、光の利用効率が優れているといえる。

［リア型プロジェクションＴＶの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図８に示すようなリア型プロジェクションＴＶを、それぞれ作製した。
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクションＴＶについて、コントラストの評価を行った。

コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ^２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ^２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。

［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクションＴＶの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。

［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクションＴＶの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラが全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラがほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
これらの結果を表２にまとめて示す。

表２から明らかなように、本発明では、いずれも、光の利用効率に優れるとともに、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。また、本発明では、回折光、モアレ、色ムラのない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。

本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すレンズ基板の平面図である。 図１に示すレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。 レンズ基板の製造に用いる凹部付き基板を示す模式的な縦断面図である。 図４に示す凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。 本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクションＴＶを模式的に示す図である。

符号の説明

１…マイクロレンズ基板（レンズ基板） １１…マイクロレンズ １２…ブラックマトリックス（遮光層） １３…非遮光部 １４…スペーサー １５…第１の行 １６…第２の行 １７…樹脂材料 １’…基板 ３…マスク ３１…透過部 ３２…非透過部 ４…マスク形成用膜 ５…フレネルレンズ部 ５１…フレネルレンズ ６…凹部付き基板（マイクロレンズ形成用凹部付き基板） ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部） ７…基板 ７１…初期凹部 ８…マスク ８１…初期孔（開口部） ８９…裏面保護膜 ９…平板 １０…透過型スクリーン １１１…中心 ３００…リア型プロジェクションＴＶ ３１０…投写光学ユニット ３２０…導光ミラー ３４０…筐体

Claims (14)

1. 多数のレンズを有する基板の前記レンズが設けられた側とは反対の面側に、レーザ光を照射し、前記基板の表面付近の一部を変質させることにより遮光層を形成することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
2. 前記基板は、前記レンズに対応する形状の凹部を多数個有する凹部付き基板の凹部が形成されている側の面に流動性を有する樹脂材料を付与する工程と、前記樹脂材料を固化させる工程とを経て製造されたものである請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
3. 前記レーザ光の照射は、前記基板と前記凹部付き基板とを密着させた状態で行う請求項２に記載のレンズ基板の製造方法。
4. 前記レーザ光を照射する工程の後に、前記基板から前記凹部付き基板を取り外す請求項２または３に記載のレンズ基板の製造方法。
5. 前記レーザ光のピーク波長は、２４８〜１１０００ｎｍである請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
6. 前記レーザ光は、エキシマレーザである請求項１ないし５のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
7. 前記遮光層の平均厚さは、０．３〜８．０μｍである請求項１ないし６のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
8. 前記基板の厚さは、２５〜２５０μｍである請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
9. 前記レンズは、マイクロレンズで構成されたものである請求項１ないし８のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
10. 前記マイクロレンズは、前記レンズ基板を平面視したときの縦幅が横幅よりも大きい扁平形状を有するものである請求項９に記載のレンズ基板の製造方法。
11. 請求項１ないし１０のいずれかに記載の方法を用いて製造されたことを特徴とするレンズ基板。
12. 多数のレンズを有するレンズ基板であって、
    前記レンズが設けられている側とは反対の面側の表面付近に、レーザ光の照射により形成された遮光層を有することを特徴とするレンズ基板。
13. 請求項１１または１２に記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
14. 請求項１３に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクションＴＶ。
    

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